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閱讀次數(shù):3260 發(fā)布時(shí)間:2023/5/12 10:54:06
醫(yī)藥結(jié)晶體1um~10um濕法粉碎機(jī),醫(yī)藥結(jié)晶體1um濕法研磨分散機(jī)塌西,符合GMP規(guī)范標(biāo)準(zhǔn)的醫(yī)藥結(jié)晶體濕磨機(jī),醫(yī)藥中間體濕法粉碎機(jī) ,硫酸氫氯吡格雷濕法粉碎機(jī)似将,多功能醫(yī)藥結(jié)晶體超細(xì)粉碎研磨分散機(jī)立轧,溫度可控轉(zhuǎn)速可變頻調(diào)節(jié)的智能化超細(xì)研磨分散機(jī)尚揣,醫(yī)藥濕法粉碎機(jī)是通過(guò)皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn)翠拣,被加工物料通過(guò)本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力闸英,透過(guò)膠體磨定谆沃、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力钝凶、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用唁影,使物料被有效地乳化耕陷、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果据沈,粉碎粒徑可至1~10um哟沫。 干磨產(chǎn)生大量灰塵,從而需要配備適當(dāng)?shù)倪^(guò)濾系統(tǒng)融击。當(dāng)研磨其粉塵與大氣氧氣混合會(huì)產(chǎn)生爆炸性混合物的物質(zhì)時(shí)筑公,這一點(diǎn)尤其重要。達(dá)到規(guī)定的安全等通常需要精心設(shè)計(jì)的技術(shù)解決方案尊浪,如除塵和惰性氣體覆蓋系統(tǒng)匣屡。這些過(guò)濾系統(tǒng)的成本通常大大超出實(shí)際研磨機(jī)的成本。濕磨被用于醫(yī)藥工業(yè)的許多應(yīng)用中拇涤,并且取得了良好的效果捣作,因?yàn)樗浅_m用于API(活性藥用成分)。
濕磨機(jī)濕磨是干磨的一種安全而且效率高的替代方案鹅士,基于轉(zhuǎn)子-定子原理券躁。
用轉(zhuǎn)子-定子置濕磨此類物質(zhì)具有諸多好處:
1、 研磨得到的細(xì)顆粒被直接融 合到懸浮液中掉盅,因而從開(kāi)始就避免了灰塵的形成也拜;
2 、與干磨系統(tǒng)不同趾痘,被研磨的物質(zhì)保持在系統(tǒng)內(nèi)慢哈,從而大幅減少了損失。因此永票,濕磨非常適合有機(jī)化學(xué)品卵贱,尤其是好的物質(zhì)滥沫,或者有毒物質(zhì)的研磨;
3键俱、相對(duì)干磨過(guò)程而言兰绣,濕磨的產(chǎn)品進(jìn)料和計(jì)量較容易。
醫(yī)藥結(jié)晶體濕法粉碎機(jī)编振,濕磨機(jī)是在傳統(tǒng)膠體磨的基礎(chǔ)上改進(jìn)的一款除了研磨效果以外更添加可高速剪切分散頭缀辩,使得物料在研磨粉碎的瞬間立即被高剪切分散。
設(shè)備結(jié)構(gòu):先由具有精細(xì)度遞升的三層鋸齒突起和凹槽党觅。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離雌澄。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向杯瞻。第二由轉(zhuǎn)定子組成镐牺。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?nbsp;在對(duì)輸送性的要求方面魁莉,特別要引起注意的是:在粗精度睬涧、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列旗唁,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣畦浓。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能检疫。根據(jù)以往的慣例讶请,依據(jù)以往的經(jīng)驗(yàn)來(lái)選取工作頭來(lái)滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下屎媳,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的夺溢,因而它對(duì)制造出產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用烛谊。
CMSD2000系列醫(yī)藥結(jié)晶體濕法粉碎機(jī)风响,濕磨機(jī)選型表
型號(hào) | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN | ||
CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | ||
CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | ||
CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | ||
CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性丹禀,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
醫(yī)藥結(jié)晶體1um~10um濕法粉碎機(jī)状勤,醫(yī)藥結(jié)晶體1um濕法研磨分散機(jī),符合GMP規(guī)范標(biāo)準(zhǔn)的醫(yī)藥結(jié)晶體濕磨機(jī)双泪,醫(yī)藥中間體濕法粉碎機(jī) ,硫酸氫氯吡格雷濕法粉碎機(jī)持搜,多功能醫(yī)藥結(jié)晶體超細(xì)粉碎研磨分散機(jī),溫度可控轉(zhuǎn)速可變頻調(diào)節(jié)的智能化超細(xì)研磨分散機(jī)原創(chuàng)作者:上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司