有機(jī)顏料研磨分散機(jī)葵擎，顏料研磨分散裝置，高性能顏料高剪切分散機(jī)，研磨分散機(jī)较性，分散機(jī)

閱讀次數(shù)：3256    發(fā)布時間：2023/5/21 18:27:51

    有機(jī)顏料是不溶性有機(jī)物,通常以高度分散狀態(tài)加入底物而使底物著色贵试，它與染料的根本區(qū)別在于,染料能夠溶解在所用的染色介質(zhì)中,而顏料則既不溶于使用它們的介質(zhì)，也不溶于被著色的底物凯正，在有機(jī)顏料生產(chǎn)時需要對其原料進(jìn)行研磨分散毙玻，但現(xiàn)有的研磨分散裝置無法滿足人們的需求。 
    現(xiàn)有的研磨分散裝置在使用時存在一定的弊端廊散，先在使用過程中淆珊，現(xiàn)有的研磨分散裝置在使用時無法對研磨產(chǎn)生的熱量進(jìn)行快速消除，會影響裝置的生產(chǎn)效率嚴(yán)重會導(dǎo)致設(shè)備損壞奸汇，同時其研磨效果差研磨不夠均勻施符，給人們的使用過程帶來了一定的不利影響，為此擂找，上海IKN特別研發(fā)一種有機(jī)顏料改進(jìn)型研磨分散裝置戳吝。
    CMSD2000系列改進(jìn)型研磨式分散機(jī)是由膠體磨和分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品，先錐形研磨頭具有精細(xì)度遞升的多鋸齒凸起和凹槽贯涎。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無限制調(diào)整間隙听哭。第二機(jī)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求塘雳。整機(jī)采用佳的幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子陆盘，好的表面處理和優(yōu)良的材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求败明。通過膠體磨定轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強(qiáng)大的剪切力隘马、摩擦力、高頻振動等物理作用妻顶，使物料被有效的乳化酸员、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果讳嘱，出料粒徑可以微納米幔嗦。

 

影響研磨分散結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)

1 研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）

2 研磨頭的剪切速率  （越大，效果越好）

3 研磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒沥潭，中齒邀泉，細(xì)齒，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）

4  物料在分散墻體的停留時間汇恤，乳化分散時間（可以看作同等的電機(jī)庞钢，流量越小，效果越好）

5 循環(huán)次數(shù)（越多屁置，效果越好焊夸，到設(shè)備的期限仁连，就不能再好）

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率蓝角。

– 剪切速率 (s-1) = v  速率 (m/s)/   g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

– 轉(zhuǎn)子的線速率

– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距饭冬。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

CMSD2000系列研磨分散機(jī)選型表

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)使鹅。

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10% 

原創(chuàng)作者：上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司