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技術文獻

原料藥濕法磨粉機鸟廓,原料藥濕磨機从祝,原料藥濕法研磨機

閱讀次數(shù):3275    發(fā)布時間:2023/8/8 10:50:00

原料藥濕法磨粉機,原料藥濕磨機引谜,原料藥濕法研磨機牍陌,原料藥濕法粉碎機,原料藥膠體磨煌张,原料藥濕法研磨粉碎分散設備呐赡,如何選擇合適的原料藥研磨粉碎設備


在口服固體制劑的生產(chǎn)工藝中,原料藥粉碎往往是為關鍵的單元操作骏融。一方面,原料藥的粒徑可能影響藥物的吸收萌狂。對于難溶性口服固體制劑而言档玻,原料藥的粒徑越小,溶出越快茫藏,藥物的生物利用度也可能隨之改善误趴。此外,原料藥粒徑對粉末的流動性务傲、混合過程和粉末的分層有重要影響凉当,而這些因素對生產(chǎn)工藝的穩(wěn)定性有重要影響枣申。因此,在口服固體制劑的生產(chǎn)中看杭,往往需要對原料藥的粒徑進行控制忠藤,穩(wěn)定的原料藥粒徑是工藝穩(wěn)定和產(chǎn)品質(zhì)量的重要的保 證。

在合成工藝中楼雹,口服固體制劑的原料藥往往通過結晶獲得模孩。通過控制結晶過程,在一定程度上可以實現(xiàn)對原料藥粒徑的控制贮缅。但是在很多情況下榨咐,結晶所得的原料藥粒徑大小及粒徑分布往往不能滿足制劑的需求。因此谴供,需要在制劑生產(chǎn)中對原料藥進一步處理块茁,即對原料藥進行粉碎,將粒徑控制在目標范圍內(nèi)桂肌。原料藥粉碎是一個資源密集型過程龟劲,持續(xù)時間長且能耗高,過程不利于控制轴或。在工業(yè)域應用的粉碎設備多種多樣昌跌,原理和特點也各不相同,只有對原料藥粒徑需求和粉碎手段的特點有清楚的認知照雁,才能更好的選擇合適的粉碎手段蚕愤。從總體上看,根據(jù)粉碎時分散的介質(zhì)不同饺蚊,可將粉碎方法分為干法和濕法萍诱。其中濕法是將原料藥分散在液體介質(zhì)中進行粉碎,而干法則是在氣體中(空氣污呼、氮氣等)對原料藥進行粉碎裕坊。固體制劑的原料藥粉碎多采用干法。從機理上看燕酷,粉碎過程均是對顆粒施加作用力使其破裂的過程籍凝,常見的作用力包括沖擊力(力快速地作用于顆粒表面);壓縮力(力較為緩慢地作用于顆粒)苗缩;摩擦力(平行作用于顆粒表面)饵蒂,不同粉碎設備的主要作用力不同,也產(chǎn)生不同的粉碎效果酱讶。

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目對于原料藥調(diào)整其粒徑大小方面的工藝主要是通過微粉或者細粉處理等琉朽,使其達到一定的粒度,混合后主藥含量更為均勻, 制得的片劑更為細膩均勻毒租。其中有效成分的溶出速率也大為加快, 同等重量的藥物, 粒度越小, 表面積越大, 溶解越快, 細粉比粗粉的絕對生物利用度能提高約20%左右。一般情況下漓骚,顆粒的粒度愈小,而均勻度蝌衔、流動性好的顆粒, 才能確 保重量差異小, 藥物含量分布均勻, 顆粒的第二次崩解好, 從而改善藥物的溶出性能。

通過微粉或細粉處理會使得原料藥的平均粒徑變小蝌蹂,從而使得其表面積增大噩斟,溶解度增加,能一定程度的改善藥物的溶出度孤个。但是當減小的一定程度后剃允,顆粒表面越來越光滑,原藥材特征越來越不明顯齐鲤,且微粉化技術的應用并未改變原藥材的主要官能團結構斥废,相反如果粒徑太小,反而影響超微粉體的溶出效果给郊。

目標粒徑范圍是選擇粉碎的手段的要考慮因素牡肉。不同的粉碎設備因原理不同,適合不同粒徑范圍的粉碎淆九,其粉碎的粒徑的限也各不相同统锤。

高速研磨分散機, 線速度很高炭庙,剪切間隙非常小饲窿,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈焕蹄,結果就是通常所說的濕磨逾雄。定轉子被制成圓錐形,具有精細度遞升的三組鋸齒凸起和凹槽腻脏。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉子之間的距離鸦泳。在增強的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向迹卢。第二組由轉定子組成辽故。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。被加工的物料通過本省的重量或者外部的壓力(可有泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力腐碱,通過高速研磨分散機定轉齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用症见,使物料被有效的乳化喂走、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果谋作。整機采用佳的幾何機構的研磨定轉子芋肠,好的表面處理和優(yōu)良材料,可以滿足不同行業(yè)的多種需求遵蚜。

影響研磨分散結果的因素有以下幾點: 
1 研磨和分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2 研磨和分散頭的剪切速率 (越大帖池,效果越好)
3 研磨和分散頭的齒形結構(分為初齒,中齒吭净,細齒睡汹,超細齒,約細齒效果越好)
4 物料在研磨分散腔體的停留時間寂殉,研磨均質(zhì)時間(可以看作同等的電機囚巴,流量越小,效果越好)
5 循環(huán)次數(shù)(越多友扰,效果越好彤叉,到設備的期限,就不能再好)

CMSD2000系列研磨分散機參數(shù)選型表 

研磨分散機

流量

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW

 

CMSD2000/4

300

14,000

41

4

DN25/DN15

CMSD2000/5

1000

10,500

41

11

DN40/DN32

CMSD2000/10

4000

7,200

41

30

DN80/DN65

CMSD2000/20

10000

4,900

41

45

DN80/DN65

CMSD2000/30

20000

2,850

41

90

DN150/DN125

CMSD2000/50

60000

1,100

41

160

DN200/DN150

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)村怪。
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性秽浇,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%

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