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當(dāng)前位置:上海依肯機械設(shè)備有限公司>產(chǎn)品中心>高速膠體磨 > 醫(yī)藥高速膠體磨 > IKN醫(yī)藥結(jié)晶體濕法粉碎膠體磨
晶體（crystal）是由大量微觀物質(zhì)單位（原子、離子菠齿、分子等）按一定規(guī)則有序排列的結(jié)構(gòu)佑吝，因此可以從結(jié)構(gòu)單位的大小來研究判斷排列規(guī)則和晶體形態(tài)
實際上是一些用于藥品合成工藝過程中的一些化工原料或化工產(chǎn)品。這種化工產(chǎn)品绳匀，不需要藥品的生產(chǎn)許可證芋忿，在普通的化工廠即可生產(chǎn)，只要達(dá)到一些的別疾棵，即可用于藥品的合成
目許多結(jié)晶體一般在40-50UM 戈钢，下游的客戶在處理這些物料有更高的要求一般需要達(dá)到5-10UM ，要么干法氣流粉碎 是尔，要么濕法粉碎 且粉碎過程中要保證晶體的形狀殉了，以及粒度的均一性
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干磨產(chǎn)生大量灰塵恩溅，從而需要配備適當(dāng)?shù)倪^濾系統(tǒng)隔箍。當(dāng)研磨其粉塵與大氣氧氣混合會產(chǎn)生爆炸性混合物的物質(zhì)時，這一點尤其重要脚乡。達(dá)到規(guī)定的安全等通常需要精心設(shè)計的技術(shù)解決方案鞍恢，如除塵和惰性氣體覆蓋系統(tǒng)。這些過濾系統(tǒng)的成本通常大大超出實際研磨機的成本每窖。
濕磨被用于醫(yī)藥工業(yè)的許多應(yīng)用中帮掉，并且取得了良好的效果，因為它非常適用于API（活性藥用成分）窒典。
濕磨機濕磨是干磨的一種安全而高效的替代方案蟆炊，基于轉(zhuǎn)子-定子原理。
用轉(zhuǎn)子-定子置濕磨此類物質(zhì)具有諸多好處：
1 研磨得到的細(xì)顆粒被直接融 合到懸浮液中瀑志，因而從開始就避免了灰塵的形成涩搓。
2 與干磨系統(tǒng)不同，被研磨的物質(zhì)保持在系統(tǒng)內(nèi)劈猪，從而大幅減少了損失昧甘。因此，濕磨非常適合有機化學(xué)品战得，尤其是優(yōu)質(zhì)物質(zhì)充边，或者有毒物質(zhì)的研磨。
3相對干磨過程而言，濕磨的產(chǎn)品進(jìn)料和計量較容易浇冰。
醫(yī)藥結(jié)晶體濕法粉碎膠體磨贬媒，雙入口醫(yī)藥結(jié)晶體膠體磨特點
①具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性肘习。
②該設(shè)備可以適用于各種分散乳化工藝际乘，也可用于生產(chǎn)包括對乳狀液、懸浮液和膠體的均質(zhì)混合漂佩。
③雙入口乳化機由定脖含、轉(zhuǎn)子系統(tǒng)所產(chǎn)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速投蝉。
④雙入口進(jìn)口方式的設(shè)計器赞，避免兩種不能長期接觸物料，可以得到瞬間的剪切墓拜。
醫(yī)藥結(jié)晶體濕法粉碎膠體磨是在傳統(tǒng)膠體磨的基礎(chǔ)上改進(jìn)的一款除了研磨效果以外更添加可高速剪切分散頭港柜，使得物料在研磨粉碎的瞬間立即被高剪切分散。
設(shè)備結(jié)構(gòu)：
先由具有精細(xì)度遞升的三層鋸齒突起和凹槽咳榜。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離夏醉。在增強的流體湍流下，凹槽在每都可以改變方向涌韩。
第二由轉(zhuǎn)定子組成畔柔。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面臣樱，特別要引起注意的是：在粗精度靶擦、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列雇毫，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣玄捕。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能棚放。根據(jù)以往的慣例枚粘，依據(jù)以往的經(jīng)驗來選取工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下飘蚯，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的馍迄，因而它對制造出產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用局骤。
CMSD 2000系列醫(yī)藥改進(jìn)型膠體磨設(shè)備選型表
| 型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN | ||
| CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | ||
| CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | ||
| CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | ||
| CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | ||
| CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | ||
| CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)攀圈。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
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更新時間：2024/12/16 9:49:40
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