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產(chǎn)品展示
  • 產(chǎn)品名稱:原料藥高速濕法粉碎膠體磨
  • 產(chǎn)品型號(hào):CMSD2000
  • 產(chǎn)品價(jià)格:129800
  • 產(chǎn)品產(chǎn)地:中國(guó)大陸
  • 訪問(wèn)次數(shù):186 發(fā)布時(shí)間:2022/11/7 14:18:48
  • 簡(jiǎn)介內(nèi)容:CMSD改進(jìn)型膠體磨濕法超微粉碎研磨機(jī) 線速度很高垮庐,剪切間隙非常小晃听,這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候吼鳞,形成的摩擦力就比較劇烈梁丘,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨遭庶。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形蟆技,具有精細(xì)度遞升的三鋸齒凸起和凹槽加缘。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下霹娄,凹槽在每都可以改變方向能犯。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種需求犬耻。
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原料藥高速濕法粉碎膠體磨

原料藥高速濕法粉碎膠體磨踩晶,原料藥濕法超微粉碎研磨機(jī),醫(yī)藥濕法粉碎膠體磨       
      原料的粉碎預(yù)處理一般是固體制劑工藝的第1步操作枕磁,它會(huì)直接影響原料的粒度分布渡蜻,進(jìn)而影響產(chǎn)品的質(zhì)量,可能影響包括:物料混合的均勻性计济、顆粒的含量均勻度茸苇、壓片或干法制粒時(shí)的壓縮成型性、以及藥物的溶出行為等沦寂。所以一般會(huì)把原料的粒徑控制列為關(guān)鍵工藝參數(shù)学密,而目標(biāo)粒徑的選擇同原料的溶解性、粉碎設(shè)備及參數(shù)的相關(guān)性較大传藏,例如如果是像BCSⅠ類高溶解性的藥物腻暮,它是以藥物與輔料混合的混合均勻性為主要考察指標(biāo);而像BCSⅡ/Ⅳ類低溶解性的藥物毯侦,則主要以通過(guò)粉碎工藝減小粒徑來(lái)提高藥物的溶解度為主要目的哭靖,那無(wú)論是哪種溶解性的藥物,終還是要通過(guò)制劑工藝侈离、體外溶出和體內(nèi)試驗(yàn)來(lái)確定原料粒度的目標(biāo)粒徑范圍试幽。制劑人員一般常用的粉碎設(shè)備可能包括:整粒機(jī)、球磨機(jī)霍狰、萬(wàn)能粉碎機(jī)抡草、錘式粉碎機(jī)饰及、氣流粉碎機(jī)等蔗坯,不同的粉碎設(shè)備粉碎原理以及終得到的粒徑范圍有所差異康震,我們有必要對(duì)不同粉碎工藝的粉碎原理及粉碎粉體的特性分析進(jìn)行相應(yīng)了解,從而可以依據(jù)原料的粉體學(xué)性質(zhì)選擇適宜的粉碎工藝宾濒。
按介質(zhì)種類粉碎一般可以分為濕法粉碎及干法粉碎腿短,我們具體要選擇哪一種粉碎方式還是取決于我們所需要的目標(biāo)粒徑范圍。一般來(lái)說(shuō)绘梦,通過(guò)干法粉碎可以將原料粒徑減少至微米別橘忱,它也是制劑人員常選擇的粉碎方式;但如果目標(biāo)是小尺寸卸奉,例如如果制備納米晶制劑钝诚,那更多可以選擇濕法粉碎,因?yàn)樵摲鬯楣に嚳梢酝ㄟ^(guò)循環(huán)研磨等方式可以將粒徑減少至納米別榄棵。

      1. 濕法粉碎濕法粉碎的介質(zhì)一般為水或非水溶劑凝颇,將原料分散在液體中,泵送通過(guò)研磨室疹鳄。原料在液體中移動(dòng)并在研磨介質(zhì)中被壓碎拧略。濕法研磨使用再循環(huán)過(guò)程,將液體反復(fù)暴露于研磨介質(zhì)瘪弓,直到達(dá)到所需的粒度垫蛆。濕法粉碎區(qū)別于干法粉碎明顯的優(yōu)勢(shì)是它可以克服粉碎過(guò)程中粉塵飛揚(yáng)的問(wèn)題,并可以通過(guò)淘析腺怯、沉降或離心分離等方法分離出所需的物料袱饭。

原料藥高速濕法粉碎膠體磨,原料藥濕法超微粉碎研磨機(jī)呛占,醫(yī)藥濕法粉碎膠體磨 
    所以上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司根據(jù)客戶的需求和結(jié)合以往許多成功案例的基礎(chǔ)上特別退出高速納米研磨機(jī) CMSD2000系列:
CMSD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品宁赤。第yi由具有經(jīng)細(xì)度遞升的三鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)線制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離栓票。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向决左。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要走贪。

     適用工藝:CMSD研磨分散機(jī)適用于高經(jīng)細(xì)度的分散佛猛、均質(zhì)、乳化坠狡、混合继找、破碎、速度快逃沿、效率高婴渡、效果好幻锁。在納米研磨分散機(jī)運(yùn)作的過(guò)程中,轉(zhuǎn)軸以及轉(zhuǎn)軸上各個(gè)零部件都是處于高速運(yùn)轉(zhuǎn)的狀態(tài)边臼,研磨定轉(zhuǎn)子部分會(huì)帶動(dòng)研磨介質(zhì)與物料產(chǎn)生強(qiáng)烈的碰擦與撞擊哄尔,以起到磨細(xì)物料和分散聚體的作用。同時(shí)柠并,物料經(jīng)過(guò)研磨后岭接,通過(guò)泵葉的巨大吸力,使其被吸出研磨籃臼予,然后再由分散盤對(duì)其進(jìn)行分散處理鸣戴,這樣就可以在很短的時(shí)間內(nèi)獲得理想的研磨效果。

  ikn研磨分散機(jī)為通用混合粘拾、分散窄锅、研磨的設(shè)備,經(jīng)過(guò)混合缰雇、分散入偷、研磨后的物料能夠保持在容器內(nèi)均勻分散,終保持物品的質(zhì)量一致寓涨,不會(huì)因?yàn)槲锪戏植疾痪鶆蛟斐僧a(chǎn)品質(zhì)量問(wèn)題盯串。可以在360度進(jìn)行回轉(zhuǎn)戒良,采用無(wú)變速体捏,ikn研磨分散機(jī)的外表美觀,升降系統(tǒng)平穩(wěn)靈活糯崎,而且操作起來(lái)十分方便几缭,結(jié)構(gòu)也非常的牢固、耐用沃呢。分散機(jī)的品種十分齊全年栓,可以滿足用戶各種不同的生產(chǎn)需求。液壓升降型特別適用于大功率的研磨和細(xì)化薄霜,升降起來(lái)平穩(wěn)某抓,結(jié)構(gòu)十分牢固,并且使用壽用長(zhǎng)惰瓜。研磨分散機(jī)能夠根據(jù)工藝的要求否副,選擇防爆型或者普通型。分散機(jī)架體采用碳鋼刷的色漆崎坊,也可定制成不銹鋼表面的拋光备禀。
CMSD 2000系列新型硅碳鋰電漿料研磨分散機(jī)設(shè)備選型表

型號(hào)

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm

 

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

CMSD 2000/4

300

14000

 

41

4

DN25/DN15

CMSD 2000/5

1000

10500

 

41

11

DN40/DN32

CMSD 2000/10

4000

7200

 

41

22

DN80/DN65

CMSD 2000/20

10000

4900

 

41

45

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

2850

 

41

90

DN150/DN125

CMSD 2000/50

60000

1100

 

41

160

DN200/DN150

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%

 

原料藥高速濕法粉碎膠體磨曲尸,原料藥濕法超微粉碎研磨機(jī)赋续,醫(yī)藥濕法粉碎膠體磨    


 
 

更新時(shí)間:2024/12/16 9:49:40

標(biāo)簽:原料藥高速濕法粉碎膠體磨   原料藥濕法超微粉碎研磨機(jī)   醫(yī)藥濕法粉碎膠體磨   

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