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原料藥高速濕法粉碎膠體磨踩晶,原料藥濕法超微粉碎研磨機(jī),醫(yī)藥濕法粉碎膠體磨
原料的粉碎預(yù)處理一般是固體制劑工藝的第1步操作枕磁,它會(huì)直接影響原料的粒度分布渡蜻,進(jìn)而影響產(chǎn)品的質(zhì)量,可能影響包括:物料混合的均勻性计济、顆粒的含量均勻度茸苇、壓片或干法制粒時(shí)的壓縮成型性、以及藥物的溶出行為等沦寂。所以一般會(huì)把原料的粒徑控制列為關(guān)鍵工藝參數(shù)学密,而目標(biāo)粒徑的選擇同原料的溶解性、粉碎設(shè)備及參數(shù)的相關(guān)性較大传藏,例如如果是像BCSⅠ類高溶解性的藥物腻暮,它是以藥物與輔料混合的混合均勻性為主要考察指標(biāo);而像BCSⅡ/Ⅳ類低溶解性的藥物毯侦,則主要以通過(guò)粉碎工藝減小粒徑來(lái)提高藥物的溶解度為主要目的哭靖,那無(wú)論是哪種溶解性的藥物,終還是要通過(guò)制劑工藝侈离、體外溶出和體內(nèi)試驗(yàn)來(lái)確定原料粒度的目標(biāo)粒徑范圍试幽。制劑人員一般常用的粉碎設(shè)備可能包括:整粒機(jī)、球磨機(jī)霍狰、萬(wàn)能粉碎機(jī)抡草、錘式粉碎機(jī)饰及、氣流粉碎機(jī)等蔗坯,不同的粉碎設(shè)備粉碎原理以及終得到的粒徑范圍有所差異康震,我們有必要對(duì)不同粉碎工藝的粉碎原理及粉碎粉體的特性分析進(jìn)行相應(yīng)了解,從而可以依據(jù)原料的粉體學(xué)性質(zhì)選擇適宜的粉碎工藝宾濒。按介質(zhì)種類粉碎一般可以分為濕法粉碎及干法粉碎腿短,我們具體要選擇哪一種粉碎方式還是取決于我們所需要的目標(biāo)粒徑范圍。一般來(lái)說(shuō)绘梦,通過(guò)干法粉碎可以將原料粒徑減少至微米別橘忱,它也是制劑人員常選擇的粉碎方式;但如果目標(biāo)是小尺寸卸奉,例如如果制備納米晶制劑钝诚,那更多可以選擇濕法粉碎,因?yàn)樵摲鬯楣に嚳梢酝ㄟ^(guò)循環(huán)研磨等方式可以將粒徑減少至納米別榄棵。
適用工藝:CMSD研磨分散機(jī)適用于高經(jīng)細(xì)度的分散佛猛、均質(zhì)、乳化坠狡、混合继找、破碎、速度快逃沿、效率高婴渡、效果好幻锁。在納米研磨分散機(jī)運(yùn)作的過(guò)程中,轉(zhuǎn)軸以及轉(zhuǎn)軸上各個(gè)零部件都是處于高速運(yùn)轉(zhuǎn)的狀態(tài)边臼,研磨定轉(zhuǎn)子部分會(huì)帶動(dòng)研磨介質(zhì)與物料產(chǎn)生強(qiáng)烈的碰擦與撞擊哄尔,以起到磨細(xì)物料和分散聚體的作用。同時(shí)柠并,物料經(jīng)過(guò)研磨后岭接,通過(guò)泵葉的巨大吸力,使其被吸出研磨籃臼予,然后再由分散盤對(duì)其進(jìn)行分散處理鸣戴,這樣就可以在很短的時(shí)間內(nèi)獲得理想的研磨效果。
ikn研磨分散機(jī)為通用混合粘拾、分散窄锅、研磨的設(shè)備,經(jīng)過(guò)混合缰雇、分散入偷、研磨后的物料能夠保持在容器內(nèi)均勻分散,終保持物品的質(zhì)量一致寓涨,不會(huì)因?yàn)槲锪戏植疾痪鶆蛟斐僧a(chǎn)品質(zhì)量問(wèn)題盯串。可以在360度進(jìn)行回轉(zhuǎn)戒良,采用無(wú)變速体捏,ikn研磨分散機(jī)的外表美觀,升降系統(tǒng)平穩(wěn)靈活糯崎,而且操作起來(lái)十分方便几缭,結(jié)構(gòu)也非常的牢固、耐用沃呢。分散機(jī)的品種十分齊全年栓,可以滿足用戶各種不同的生產(chǎn)需求。液壓升降型特別適用于大功率的研磨和細(xì)化薄霜,升降起來(lái)平穩(wěn)某抓,結(jié)構(gòu)十分牢固,并且使用壽用長(zhǎng)惰瓜。研磨分散機(jī)能夠根據(jù)工藝的要求否副,選擇防爆型或者普通型。分散機(jī)架體采用碳鋼刷的色漆崎坊,也可定制成不銹鋼表面的拋光备禀。
CMSD 2000系列新型硅碳鋰電漿料研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
型號(hào) | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN | |
CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | |
CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | |
CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | |
CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | |
CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | |
CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
原料藥高速濕法粉碎膠體磨曲尸,原料藥濕法超微粉碎研磨機(jī)赋续,醫(yī)藥濕法粉碎膠體磨
更新時(shí)間:2024/12/16 9:49:40
標(biāo)簽:原料藥高速濕法粉碎膠體磨 原料藥濕法超微粉碎研磨機(jī) 醫(yī)藥濕法粉碎膠體磨