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CMD2000系列醫(yī)藥混懸液研磨分散機(jī)具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑微米0.2-2μm,可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。該設(shè)備可以適用于各種分散乳化工藝,也可用于生產(chǎn)包括對(duì)乳狀液，懸浮液和膠體的均質(zhì)混合渔呵∨停混懸液分散乳化機(jī)由定/轉(zhuǎn)子系統(tǒng)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速扩氢。
并且CMD2000系列各個(gè)環(huán)節(jié)都帶有夾套,處理過程中可對(duì)物料進(jìn)行溫度控制;清洗方便耕驰，符合在線清洗和滅菌。采用膠體磨和分散機(jī)的一體化設(shè)計(jì)相對(duì)于膠體磨和分散機(jī)的串聯(lián)而更具優(yōu)勢(shì)录豺。串聯(lián)的話存在時(shí)間差朦肘，當(dāng)物料通過膠體磨之后，磨細(xì)后物料會(huì)出現(xiàn)抱團(tuán)的現(xiàn)象双饥，經(jīng)過分散機(jī)分散媒抠，效果不是很好。而CMD超細(xì)研磨分散機(jī)的話,物料磨細(xì)后,瞬間又通過分散工作組咏花，進(jìn)行分散,在物料還未抱團(tuán)之趴生，就進(jìn)行了分散，一個(gè)瞬間作用,效果會(huì)好很多昏翰。
納米混懸液研磨分散機(jī)由電動(dòng)機(jī)通過皮帶傳動(dòng)帶動(dòng)轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對(duì)的高速旋轉(zhuǎn)苍匆，被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定棚菊、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力浸踩、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用统求，使物料被有效地乳化民轴、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。
上海依肯IKN納米混懸液研磨分散機(jī)技術(shù)參數(shù)選型表：
| 研磨分散機(jī)型 號(hào) | 流量L/H | 輸出轉(zhuǎn)速rpm | 線速度m/s | 馬達(dá)功率kw | 出口/入口連接 |
| CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
| CMD2000/5 | 1,000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
| CMD2000/10 | 3,000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN50 |
| CMD2000/20 | 8,000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
| CMD2000/30 | 20,000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
| CMD2000/50 | 60,000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性球订，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到大允許的10%。
1瑰钮、表中上限處理量是指介質(zhì)為"水”的測(cè)定數(shù)據(jù)冒滩。
2、處理量取決于物料的粘度,稠度和終產(chǎn)品的要求浪谴。
3开睡、如高溫，高壓苟耻，易燃易爆篇恒，腐蝕性等工況,必須提供準(zhǔn)確的參數(shù)，以便選型和定制凶杖。
4胁艰、本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動(dòng)，定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實(shí)物為準(zhǔn)。
5腾么、本系列機(jī)型具有短程送料能力奈梳，無自吸功能，須選用高位進(jìn)料;物料粘度或固含高導(dǎo)致不能正常進(jìn)料和輸送時(shí)解虱，須選用壓力或輸送泵進(jìn)料或送料,輸送泵的壓力和流量與被選機(jī)型相匹配攘须。
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更新時(shí)間：2024/12/16 9:49:54
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