口服混懸液高剪切均質(zhì)機观挎，醫(yī)藥高剪切均質(zhì)機琴儿，GMP超高速均質(zhì)機，在線立式剪切均質(zhì)機嘁捷，真空無菌無塵均質(zhì)機是利用高剪切快速均勻地將一個相或多個相分布至另一個連續(xù)相中造成，其利用機械帶來的強勁動能，使物料在定轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中雄嚣，每分鐘承受幾十萬次的液力剪切晒屎，離心擠壓撞擊撕裂等綜合作用，瞬間均勻地分散乳化缓升，經(jīng)過高頻的循環(huán)往復鼓鲁，終得到細膩及穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。

影響分散均質(zhì)結(jié)果的因素有以下幾點

1 均質(zhì)頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）

2 均質(zhì)頭的剪切速率 （越大港谊，效果越好）

3 均質(zhì)頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒骇吭，中齒，細齒歧寺，超細齒燥狰，約細齒效果越好）

4 物料在分散墻體的停留時間，均質(zhì)分散時間（可以看作同等的電機斜筐，流量越小龙致，效果越好）

5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好顷链，到設備的期限目代，就不能再好）

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s) 

g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

– 轉(zhuǎn)子的線速率

– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距榛了。 

IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60

口服混懸液高剪切均質(zhì)機在讶，醫(yī)藥高剪切均質(zhì)機，GMP超高速均質(zhì)機霜大，在線立式剪切均質(zhì)機真朗，真空無菌無塵均質(zhì)機

口服混懸液高剪切均質(zhì)機的設備選型表： 

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。

2 處理量取決于物料的粘度僧诚，稠度和終產(chǎn)品的要求遮婶。

3 如高溫，高壓湖笨，易燃易爆旗扑，腐蝕性等工況，比須提供準確的參數(shù)慈省，以便選型和定制臀防。

4 本表的數(shù)據(jù)因技術改動，定制而不符边败，正確的參數(shù)以提供的實物為準袱衷。

口服混懸液高剪切均質(zhì)機，醫(yī)藥高剪切均質(zhì)機笑窜，GMP超高速均質(zhì)機致燥，在線立式剪切均質(zhì)機，真空無菌無塵均質(zhì)機

更新時間：2024/12/16 9:49:54

標簽：口服混懸液高剪切均質(zhì)機   醫(yī)藥高剪切均質(zhì)機   GMP超高速均質(zhì)機   在線立式剪切均質(zhì)機