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活性藥物成分API濕法超微粉碎機CMSD2000系列研磨分散機機是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品谴垫，先錐形研磨頭具有精細度遞升的多鋸齒凸起和凹槽。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無限制調(diào)整間隙母蛛。第二由轉(zhuǎn)定子組成翩剪。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。物料通過研磨分散機定轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力彩郊、摩擦力前弯、高頻振動等物理作用，使物料被有效的乳化秫逝、分散和粉碎恕出，達到物料超細粉碎及乳化的效果，粉體粒徑可至微納米违帆。
CMSD2000系列活性藥物成分API濕法超微粉碎機選型表
| 型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN | ||
| CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | ||
| CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | ||
| CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | ||
| CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | ||
| CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | ||
| CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)浙巫。
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
活性藥物成分API研磨分散機刷后，活性藥物成分API濕法超微粉碎機的畴，原料藥中間體濕法超微粉碎機，符合GMP防爆要求的藥物濕法研磨分散機
更新時間：2024/12/16 9:49:54
