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活性藥物成分API濕法超微粉碎機(jī)CMSD2000系列研磨分散機(jī)機(jī)是由膠體磨和分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品婆排,先錐形研磨頭具有精細(xì)度遞升的多鋸齒凸起和凹槽。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無限制調(diào)整間隙笔链。第二由轉(zhuǎn)定子組成段只。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。物料通過研磨分散機(jī)定轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力鉴扫、摩擦力赞枕、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效的乳化坪创、分散和粉碎炕婶,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果,粉體粒徑可至微納米莱预。
CMSD2000系列活性藥物成分API濕法超微粉碎機(jī)選型表
型號(hào) | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN | ||
CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | ||
CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | ||
CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | ||
CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)古话。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
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更新時(shí)間:2024/12/16 9:49:54
標(biāo)簽:活性藥物成分API濕法超微粉碎機(jī) 濕法超微粉碎機(jī) 粉碎機(jī)