活性藥物成分API濕法超微粉碎機CMSD2000系列研磨分散機機是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品聪蘸，先錐形研磨頭具有精細度遞升的多鋸齒凸起和凹槽。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無限制調(diào)整間隙表制。第二由轉(zhuǎn)定子組成健爬。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。物料通過研磨分散機定轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力么介、摩擦力娜遵、高頻振動等物理作用，使物料被有效的乳化壤短、分散和粉碎设拟，達到物料超細粉碎及乳化的效果，粉體粒徑可至微納米久脯。

CMSD2000系列活性藥物成分API濕法超微粉碎機選型表

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)纳胧。

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
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更新時間：2024/12/16 9:49:54

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