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  • 產(chǎn)品名稱:氫氧化鎂阻燃劑濕法研磨分散機(jī),氫氧化鎂濕法研磨工藝膏燕,濕磨機(jī)钥屈,粉碎機(jī)
  • 產(chǎn)品價(jià)格:0
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  • 簡(jiǎn)介內(nèi)容:氫氧化鎂阻燃劑濕法研磨分散機(jī),氫氧化鎂機(jī)械法濕磨機(jī)坝辫,阻燃劑氫氧化鎂濕法研磨機(jī)篷就,超細(xì)氫氧化鎂濕法粉碎機(jī)...通過(guò)IKN濕法研磨分散機(jī)制取的阻燃劑氫氧化鎂,解決了現(xiàn)有技術(shù)工業(yè)氫氧化鎂制備阻燃劑氫氧化鎂中存在的對(duì)原料粒徑要求高近忙、成本高竭业、終產(chǎn)物粒徑分布寬的問(wèn)題...更多詳情請(qǐng)致電上海依肯 徐工 182-0189-1183智润,公司免費(fèi)提供樣機(jī)進(jìn)行實(shí)驗(yàn)測(cè)試。
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氫氧化鎂阻燃劑濕法研磨分散機(jī)未辆,氫氧化鎂濕法研磨工藝窟绷,濕磨機(jī),粉碎機(jī)

氫氧化鎂阻燃劑濕法研磨分散機(jī)咐柜,氫氧化鎂機(jī)械法濕磨機(jī)兼蜈,阻燃劑氫氧化鎂濕法研磨機(jī),超細(xì)氫氧化鎂濕法粉碎機(jī)

     氫氧化鎂是一種白色無(wú)定型或結(jié)晶型無(wú)機(jī)化合物拙友,不溶于水饭尝,易溶于酸。近年來(lái)隨著對(duì)無(wú)鹵阻燃劑的需求量的增大献宫,氫氧化鎂作為無(wú)機(jī)阻燃劑的優(yōu)點(diǎn)尤為突出钥平,它受熱時(shí)會(huì)分解產(chǎn)生水分,并且吸收大量的熱量姊途,可迅速降低可燃材料表面的溫度涉瘾,降低了產(chǎn)生可燃性物質(zhì)的可能。氫氧化鎂阻燃劑具有分解溫度高捷兰,分解后產(chǎn)生水立叛,同時(shí)氫氧化鎂分解生成的氧化鎂又是良好的耐火材料,也能幫助提高合成材料的抗火性能贡茅,同時(shí)它放出的水蒸氣稀釋了易ran氣體和氧氣濃度秘蛇,阻斷了火災(zāi)必要條件,延緩了火災(zāi)的發(fā)生顶考,氫氧化鎂與同類(lèi)的無(wú)機(jī)阻燃劑相比赁还,具有更好的抑煙效果。
     氫氧化鎂作為阻燃劑必須要求純度要高驹沿,并且純度越高艘策,阻燃效果越好;實(shí)驗(yàn)證明粒徑越小且粒徑分布范圍窄的氫氧化鎂作為阻燃劑填充到材料中時(shí)渊季,各方面性能包括阻燃效果朋蔫、消煙和機(jī)械性能都比普通氫氧化鎂優(yōu)越;大量研究報(bào)道氫氧化鎂微觀形貌為六角片狀或針狀結(jié)構(gòu)作為阻燃劑要比其他形貌阻燃效果顯著却汉;當(dāng)氫氧化鎂表面性低時(shí)驯妄,顆粒積聚成團(tuán)性降低,在材料中分散性和相容性增加合砂,對(duì)材料機(jī)械性能影響減少青扔。只有具備以上特性的氫氧化鎂才能和材料比較好的相容,才能作為阻燃劑添加到高聚物中。
      工業(yè)氫氧化鎂具有顆粒大赎懦、粒度分布寬雀鹃、團(tuán)聚現(xiàn)象嚴(yán)重、產(chǎn)品的分散性能較差励两,且性較高的缺點(diǎn)黎茎,無(wú)法滿足阻燃別的使用,但可以利用工業(yè)氫氧化鎂進(jìn)一步制備阻燃劑用氫氧化鎂当悔。 通過(guò)IKN濕法研磨分散機(jī)制取的
阻燃劑氫氧化鎂傅瞻,解決了現(xiàn)有技術(shù)工業(yè)氫氧化鎂制備阻燃劑氫氧化鎂中存在的對(duì)原料粒徑要求高、成本高盲憎、終產(chǎn)物粒徑分布寬的問(wèn)題嗅骄。
      工業(yè)氫氧化鎂為原料制備阻燃劑氫氧化鎂:將工業(yè)氫氧化鎂原料和水混合后進(jìn)行研磨,得到氫氧化鎂料漿饼疙; 通過(guò)機(jī)械濕磨的方式進(jìn)行研磨溺森,濕磨得到平均粒徑為0.2-0.8μm的氫氧化鎂料漿。 從而解決了從工業(yè)氫氧化鎂制備阻燃劑氫氧化鎂的難題窑眯,使用原料為工業(yè)氫氧化鎂屏积,因此本設(shè)備制備的阻燃劑氫氧化鎂相對(duì)于用傳統(tǒng)工藝制備的阻燃劑氫氧化鎂的純度高,分散性更好磅甩。并且對(duì)作為原料的工業(yè)氫氧化鎂的粒徑要求為30-60μm炊林,故對(duì)原料粒徑要求較低。 制得粒徑小卷要,粒徑分布窄渣聚,分散性好,形貌規(guī)則的六角片狀氫氧化鎂阻燃劑僧叉。 且不需要除了工業(yè)氫氧化鎂和水以外的其他添加物奕枝,原料廉價(jià)易得,生產(chǎn)成本低彪标。 終制得的作為阻燃劑的氫氧化鎂粒徑小且粒徑分布范圍窄倍权,形貌規(guī)則可控為規(guī)則六角片狀,分散性更好捞烟,與高聚物更易相容。
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氫氧化鎂阻燃劑濕法研磨分散機(jī)工作原理:上海依肯CMSD2000系列研磨分散機(jī)是由膠體磨和分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品德频,先錐形研磨頭具有精細(xì)度遞升的多鋸齒凸起和凹槽苍息。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無(wú)限制調(diào)整間隙。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求竞思。整機(jī)采用佳的幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子表谊,好的表面處理和優(yōu)良的材料,可以滿足不同行業(yè)的多種需求盖喷。通過(guò)研磨分散機(jī)定轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力爆办、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用课梳,使物料被有效的乳化距辆、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果暮刃,出料粒徑可以微納米跨算。




 
影響研磨粉碎均質(zhì)結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)

1 研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)

2 研磨頭的剪切速率  (越大,效果越好)

3 研磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒椭懊,中齒诸蚕,細(xì)齒,超細(xì)齒氧猬,約細(xì)齒效果越好)

4  物料在分散墻體的停留時(shí)間挫望,乳化分散時(shí)間(可以看作同等的電機(jī),流量越小狂窑,效果越好)

5 循環(huán)次數(shù)(越多媳板,效果越好,到設(shè)備的期限泉哈,就不能再好)

線速度的計(jì)算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率蛉幸。

– 剪切速率 (s-1) = v  速率 (m/s)/   g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

– 轉(zhuǎn)子的線速率

– 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距丛晦。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

CMSD2000系列氫氧化鎂阻燃劑濕法研磨分散機(jī)選型表

型號(hào)

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm

 

線速度

m/s

 

功率

kw

入/出口連接

DN

CMSD 2000/4

300

14000

 

41

 

4

DN25/DN15

CMSD 2000/5

1000

10500

 

41

 

11

DN40/DN32

CMSD 2000/10

4000

7200

 

41

 

22

DN80/DN65

CMSD 2000/20

10000

4900

 

41

 

45

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

2850

 

41

 

90

DN150/DN125

CMSD 2000/50

60000

1100

 

41

 

160

DN200/DN150

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)奕纫。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10% 
氫氧化鎂阻燃劑濕法研磨分散機(jī)烫沙,氫氧化鎂機(jī)械法濕磨機(jī)匹层,阻燃劑氫氧化鎂濕法研磨機(jī),超細(xì)氫氧化鎂濕法粉碎機(jī) 

更新時(shí)間:2024/12/16 9:49:54

標(biāo)簽:氫氧化鎂阻燃劑濕法研磨分散機(jī)   濕磨機(jī)   研磨機(jī)   

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