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影響研磨均質(zhì)分散乳化結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)
1 研磨和分散乳化頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2 研磨和分散乳化頭的剪切速率 (越大复凳,效果越好)
3 研磨和分散乳化頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒灶泵,細(xì)齒育八,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)
4 物料在分散墻體的停留時(shí)間赦邻,乳化分散時(shí)間(可以看作同等的電機(jī)髓棋,流量越小,效果越好)
5 循環(huán)次數(shù)(越多惶洲,效果越好按声,到設(shè)備的期限,就不能再好)
線速度的計(jì)算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率恬吕。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)/ g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知签则,剪切速率取決于以下因素:
– 轉(zhuǎn)子的線速率
– 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
CMSD2000系列軟膏膏劑乳化研磨分散膠體磨選型表
型號(hào) | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN | ||
CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | ||
CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | ||
CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | ||
CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)铐料。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性渐裂,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
更新時(shí)間:2024/12/16 9:49:54
標(biāo)簽:軟膏膏劑乳化研磨分散膠體磨 研磨分散膠體磨 膠體磨