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  • 產(chǎn)品名稱:阿立哌唑共分散片高速膠體磨涡上,藥物高速微納米濕法研磨分散型膠體磨趾断,醫(yī)藥高速微納米膠體磨
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  • 產(chǎn)品產(chǎn)地:中國大陸
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阿立哌唑共分散片高速膠體磨雁佳,藥物高速微納米濕法研磨分散型膠體磨脐帝,醫(yī)藥高速微納米膠體磨

阿立哌唑共分散片高速膠體磨同云,藥物高速微納米濕法研磨分散型膠體磨,醫(yī)藥高速微納米膠體磨

    
     阿立哌唑的水溶性較差堵腹,在制備固體制劑梢杭,如片劑或膠囊劑時,需將其粉碎到一定的細(xì)度秸滴,以保證該固體制劑口服后能迅速溶出武契,保證吸收率和生物利用度。
     對阿立哌唑的粉碎基本都采用機(jī)械粉碎方法荡含。但是咒唆,機(jī)械粉碎的處理方法存在粉塵多、污染環(huán)境和損耗大 等缺陷释液。更嚴(yán)重的問題是全释,由于阿立哌唑的藥物活性比較高,在進(jìn)行機(jī)械粉碎處理時误债,易發(fā)生操作人員吸入阿立哌唑粉末引起頭痛浸船、嗜睡等不良反應(yīng),長期吸入將產(chǎn)生更嚴(yán)重的后果寝蹈。
     濕法研磨技術(shù)是目比較常用的處理難溶性原料藥李命,規(guī)避了以上問題的產(chǎn)生,提高其溶解度和生物利用度的方法箫老。濕法研磨方法由于其高能封字、效率高的特點被認(rèn)為是得到微納米粉體的有效的方法。濕法研磨將藥物和相應(yīng)輔料在一定比例的溶液存在的條件下耍鬓,不斷地被研磨介質(zhì)研磨阔籽,終得到粒度細(xì)小且均勻的藥物混懸液。共研磨法是近年來發(fā)展起來的一種新技術(shù)牲蜀,實際是將微粉化技術(shù)與環(huán)糊精包合技術(shù)或固體分散技術(shù)相結(jié)合笆制,其操作簡便,更適用于大生產(chǎn)涣达。
    共研磨法通過降低藥物的結(jié)晶度在辆、增加表面積、改善可濕性等作用促進(jìn)藥物的溶出峭判,是增加難溶性藥物溶出速率的非常有效的途徑开缎。此外將小劑量藥物與較多量的親水性輔料共同研磨時,由于親水性輔料的存在可防止藥物聚集林螃,并增加其潤濕性奕删,從而提高藥物的溶出。本發(fā)明將難溶性原料藥阿立哌唑與親水性輔料濕法共研磨疗认,得到粒度細(xì)小均一的混懸液完残,大的增加了藥物溶出和生物利用度伏钠,而且避免了機(jī)械研磨造成的粉塵污染,對操作人員損害較小谨设,而且濕法研磨更有利于藥物與輔料混合均勻熟掂,均勻性更好。
     共研磨親水性高分子輔料選自低取代羥丙基纖維素扎拣、羥丙甲基纖維 素赴肚、甲基纖維素、聚乙烯醇二蓝、聚維酮誉券、聚乙二醇、泊洛沙姆刊愚、殼聚糖中的一種或幾種踊跟。 根據(jù)本發(fā)明阿立哌唑和親水性高分子輔料的重量比例為1:0.2-5。 根據(jù)本發(fā)明阿立哌唑共研磨物制備過程如下:將親水性高分子輔料溶解鸥诽,得到輔 料溶液商玫,然后加入相應(yīng)原料藥,混合后加入研磨機(jī)進(jìn)行循環(huán)研磨牡借,直到研磨至所需粒徑拳昌,收集研磨液。
     根據(jù)本發(fā)明阿立哌唑分散片制備方法為:在阿立哌唑研磨液中加入其它藥物可接 受的載體濕法制粒制備樣品蓖捶,所述載體包括填充劑地回、潤滑劑扁远、崩解劑俊鱼、矯味劑等。 根據(jù)本發(fā)明所述填充劑選自無水乳糖畅买、一水乳糖并闲、甘露醇、木糖醇谷羞、淀粉帝火、微晶纖維 素中的一種或幾種。所述崩解劑選自羧甲淀粉鈉湃缎、低取代羥丙基纖維素犀填、交聯(lián)羧甲基纖維素鈉、交聯(lián)羧甲基纖維素鈣嗓违、交聯(lián)聚維酮中的一種或幾種九巡。所述潤滑劑選自硬脂酸鎂、硬脂酸蹂季、 二氧化硅冕广、滑石粉疏日、硬脂富馬酸鈉、氫化植物油中的一種或幾種撒汉。所述矯味劑選自安賽蜜沟优、阿 斯巴甜、水果香精睬辐、三氯蔗糖挠阁、甜菊苷中的一種或幾種。
     具體實施方式 下面通過幾個具體實施例對本發(fā)明進(jìn)一步說明溯饵,但本發(fā)明并不為實施例所限制鹃唯。 共研磨物粒徑及穩(wěn)定性分析 實施例 1-3:處方 工藝步驟: (1)配置濃度為20%的羥丙甲基纖維素溶液; (2)將1g原料藥分別加入1g瓣喊,2.5g坡慌,5g羥丙甲基纖維素溶液中,混合均勻藻三; (3)將混合液加入納米濕法研磨機(jī)洪橘,研磨機(jī)轉(zhuǎn)速14000rpm,研磨時間10~20min棵帽,收取研磨液熄求。 共研磨物D90粒徑10um, 注:D90是累計粒度分布百分?jǐn)?shù)達(dá)到90%時所對應(yīng)的粒徑。 由結(jié)果可知:原料藥經(jīng)過與親水性高分子輔料溶液共研磨后粒徑顯著減小逗概,且研磨液的穩(wěn)定性良好弟晚,室溫存放2個月粒徑未見明顯增長。
      上海依肯CMSD2000系列高速改進(jìn)型膠體磨是由膠體磨和分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品逾苫,先錐形研磨頭具有精細(xì)度遞升的多鋸齒凸起和凹槽卿城。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無限制調(diào)整間隙。第二由轉(zhuǎn)定子組成铅搓。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求瑟押。整機(jī)采用佳的幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子,好的表面處理和優(yōu)良的材料星掰,可以滿足不同行業(yè)的多種需求多望。通過改進(jìn)型膠體磨定轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力氢烘、高頻振動等物理作用怀偷,使物料被有效的乳化、分散和粉碎播玖,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果椎工,出料粒徑可以微納米。
    
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影響研磨均質(zhì)分散結(jié)果的因素有以下幾點

1 研磨和分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)

研磨和分散頭的剪切速率  (越大镰绎,效果越好)

研磨和分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒木西,細(xì)齒畴栖,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)

4 物料在研磨分散墻體的停留時間八千,乳化分散時間(可以看作同等的電機(jī)吗讶,流量越小,效果越好)

5 循環(huán)次數(shù)(越多恋捆,效果越好照皆,到設(shè)備的期限,就不能再好)

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率沸停。

– 剪切速率 (s-1) = v  速率 (m/s)/   g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知膜毁,剪切速率取決于以下因素:

– 轉(zhuǎn)子的線速率

– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

CMSD2000系列阿立哌唑共分散片高速膠體磨選型表

型號

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm

 

線速度

m/s

 

功率

kw

入/出口連接

DN

CMSD 2000/4

300

14000

 

41

 

4

DN25/DN15

CMSD 2000/5

1000

10500

 

41

 

11

DN40/DN32

CMSD 2000/10

4000

7200

 

41

 

22

DN80/DN65

CMSD 2000/20

10000

4900

 

41

 

45

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

2850

 

41

 

90

DN150/DN125

CMSD 2000/50

60000

1100

 

41

 

160

DN200/DN150

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)愤钾。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性瘟滨,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10% 

阿立哌唑共分散片高速膠體磨,藥物高速微納米濕法研磨分散型膠體磨能颁,醫(yī)藥高速微納米膠體磨

更新時間:2024/12/16 9:49:54

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