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葉黃素改進(jìn)型濕法研磨式膠體磨,beta-胡蘿卜素濕磨式膠體磨开缎,類胡蘿卜素高速納米膠體磨
由于類胡蘿卜素獨(dú)特的分子結(jié)構(gòu)特征使得它們?nèi)芙庑院懿钭亟校谒懈静蝗埽谟椭腥芙舛纫埠苄∞壬荆@也導(dǎo)致類胡蘿卜素晶體在人體中生物利用度很差俺泣,很難被吸收利用,而且其分子結(jié)構(gòu)中存在著很多雙鍵完残,在空氣中砌滞,以及遇熱、光等很容易被氧化降解坏怪,穩(wěn)定性差贝润。為了達(dá)到提高其穩(wěn)定性和生物利用度的目的,一個(gè)常規(guī)的方法就是將類胡蘿卜素晶體制備成穩(wěn)定性好铝宵,水溶性佳打掘,生物利用率高的制劑產(chǎn)品,特別是水溶性懸浮液鹏秋,或微膠囊干粉/微粒尊蚁,在這些制劑產(chǎn)品中,類胡蘿卜分子被包裹在水溶性膠體中侣夷,不僅能改善類胡蘿卜素分子的溶解分散特性横朋,在水中可溶,而且能有效地隔絕了氧氣百拓、光等不利因子與類胡蘿卜素分子的接觸琴锭,增強(qiáng)其穩(wěn)定性晰甚,另外由于類胡蘿卜素分子能以納米或微米形式分散,有利于在人體中吸收利用决帖,提高了其生物利用率厕九。
影響研磨分散結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)
1 研磨和分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2 研磨和分散頭的剪切速率 (越大知残,效果越好)
3 研磨和分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒靠瞎,中齒,細(xì)齒求妹,超細(xì)齒乏盐,約細(xì)齒效果越好)
4 物料在研磨分散墻體的停留時(shí)間,乳化分散時(shí)間(可以看作同等的電機(jī)制恍,流量越小父能,效果越好)
5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好净神,到設(shè)備的期限何吝,就不能再好)
線速度的計(jì)算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)/ g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知鹃唯,剪切速率取決于以下因素:
– 轉(zhuǎn)子的線速率
– 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距爱榕。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
CMSD2000系列葉黃素改進(jìn)型濕法研磨式膠體磨參數(shù)選型表
型號(hào) | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN | ||
CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | ||
CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | ||
CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | ||
CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性坡慌,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
更新時(shí)間:2024/12/16 9:24:18