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產(chǎn)品展示
  • 產(chǎn)品名稱:殼聚糖衍生物超高速濕法粉碎機(jī)、高分子聚合物14000轉(zhuǎn)高速濕法粉碎機(jī)城菊,高速超微濕法粉碎機(jī)技術(shù)應(yīng)用
  • 產(chǎn)品價(jià)格:0
  • 產(chǎn)品產(chǎn)地:中國(guó)大陸
  • 訪問(wèn)次數(shù):168 發(fā)布時(shí)間:2023/5/26 11:23:04
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殼聚糖衍生物超高速濕法粉碎機(jī)、高分子聚合物14000轉(zhuǎn)高速濕法粉碎機(jī)法瑟,高速超微濕法粉碎機(jī)技術(shù)應(yīng)用

殼聚糖衍生物超高速濕法粉碎機(jī)冀膝、高分子聚合物14000轉(zhuǎn)高速濕法粉碎機(jī),高速超微濕法粉碎機(jī)技術(shù)應(yīng)用

    
主流的聚乙烯醇與殼聚糖衍生物共混技術(shù)缺點(diǎn)是制備時(shí)間長(zhǎng)霎挟,制備過(guò)程中需要加熱窝剖,人工與能源消耗都較大,并且在制備過(guò)程中常需加入交聯(lián)劑酥夭,易導(dǎo)致產(chǎn)品有機(jī)溶劑殘留赐纱,尤其不適合醫(yī)藥類產(chǎn)品的生產(chǎn)脊奋。濕法共研磨粉碎技術(shù)是新一代粉碎技術(shù),該技術(shù)具有簡(jiǎn)便易行疙描、成本低廉诚隙、無(wú)毒無(wú)害及增溶效果明顯等特點(diǎn),尤其適合工業(yè)化大生產(chǎn)起胰。其在礦業(yè)久又、化工與制藥域均有廣泛的應(yīng)用。在藥學(xué)域共研磨主要應(yīng)用于難溶性藥物的增溶效五,其增溶原理與改變藥物晶型及促進(jìn)藥物及輔料間形成氫鍵有關(guān)地消。

     所述的濕法共研磨粉碎技術(shù)能夠促使溶液中的PVA和殼聚糖衍生物在室溫條件下5-30min內(nèi)快速形成氫鍵。共研磨作用通過(guò)破壞聚合物分子內(nèi)已有的穩(wěn)定結(jié)構(gòu)畏妖,加速分子運(yùn)動(dòng)脉执,進(jìn)而誘導(dǎo)聚合物分子間的相互作用,其作用效果與常規(guī)的加熱戒劫、攪拌手段相當(dāng)半夷,并且避免了有機(jī)交聯(lián)劑的添加,不僅工藝簡(jiǎn)單適應(yīng)工業(yè)化生產(chǎn)迅细,更符合綠色化學(xué)的要求玻熙。

     所述的濕法研磨粉碎工藝具體實(shí)施方法為:先將PVA分散至溶劑中,研磨使PVA溶解后疯攒,然后加入殼聚糖衍生物研磨溶解后嗦随,再研磨粉碎5-30min即可。

    上海依肯憑借多年來(lái)積累的豐富行業(yè)經(jīng)驗(yàn)結(jié)合優(yōu)良技術(shù)研發(fā)平臺(tái)特別推出CMSD2000系列濕法粉碎機(jī)是由膠體磨和分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品敬尺,先錐形研磨頭具有精細(xì)度遞升的多鋸齒凸起和凹槽枚尼。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無(wú)限制調(diào)整間隙。第二由轉(zhuǎn)定子組成砂吞。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求署恍。整機(jī)采用佳的幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子,好的表面處理和優(yōu)良的材料蜻直,可以滿足不同行業(yè)的多種需求盯质。通過(guò)濕法粉碎機(jī)定轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力概而、高頻振動(dòng)等物理作用呼巷,使物料被有效的乳化、分散和粉碎赎瑰,達(dá)到物料超細(xì)粉碎王悍、分散、乳化的效果餐曼。
    



 


影響研磨分散結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)

1 研磨和分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)

研磨和分散頭的剪切速率  (越大压储,效果越好)

研磨和分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒鲜漩,中齒,細(xì)齒集惋,超細(xì)齒孕似,約細(xì)齒效果越好)

4 物料在研磨分散墻體的停留時(shí)間,乳化分散時(shí)間(可以看作同等的電機(jī)刮刑,流量越小喉祭,效果越好)

5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好为朋,到設(shè)備的期限臂拓,就不能再好)

線速度的計(jì)算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率厚脉。

– 剪切速率 (s-1) = v  速率 (m/s)/   g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知习寸,剪切速率取決于以下因素:

– 轉(zhuǎn)子的線速率

– 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

CMSD2000系列濕粉碎機(jī)參數(shù)選型表

 

型號(hào)

 

 

 

流量

 

 

 

L/H

 

 

 

轉(zhuǎn)速

 

 

 

rpm

 

 

 

 

線速度

 

 

 

m/s

 

 

 

 

功率

 

 

 

kw

 

 

 

入/出口連接

 

 

 

DN

 

 

 

CMSD 2000/4

 

 

 

300

 

 

 

14000

 

 

 

 

41

 

 

 

 

4

 

 

 

DN25/DN15

 

 

 

CMSD 2000/5

 

 

 

1000

 

 

 

10500

 

 

 

 

41

 

 

 

 

11

 

 

 

DN40/DN32

 

 

 

CMSD 2000/10

 

 

 

4000

 

 

 

7200

 

 

 

 

41

 

 

 

 

22

 

 

 

DN80/DN65

 

 

 

CMSD 2000/20

 

 

 

10000

 

 

 

4900

 

 

 

 

41

 

 

 

 

45

 

 

 

DN80/DN65

 

 

 

CMSD 2000/30

 

 

 

20000

 

 

 

2850

 

 

 

 

41

 

 

 

 

90

 

 

 

DN150/DN125

 

 

 

CMSD 2000/50

 

 

 

60000

 

 

 

1100

 

 

 

 

41

 

 

 

 

160

 

 

 

DN200/DN150

 

 

 

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)傻工。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性霞溪,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10% 

 

殼聚糖衍生物超高速濕法粉碎機(jī)、高分子聚合物14000轉(zhuǎn)高速濕法粉碎機(jī)中捆,高速超微濕法粉碎機(jī)技術(shù)應(yīng)用

更新時(shí)間:2024/12/16 9:49:54

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