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醫(yī)藥超細(xì)粉體高速濕磨機(jī),超細(xì)粉體納米濕磨機(jī)耸采,化工超細(xì)粉體改進(jìn)型濕磨機(jī) 兴泥,高速濕磨機(jī)是由膠體磨和分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品,先錐形研磨頭具有精細(xì)度遞升的多鋸齒凸起和凹槽虾宇。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無(wú)限制調(diào)整間隙搓彻。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。整機(jī)采用佳的幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子旭贬,好的表面處理和優(yōu)良的材料怔接,可以滿足不同行業(yè)的多種需求。通過(guò)高速濕磨機(jī)定轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力稀轨、摩擦力扼脐、高頻振動(dòng)等物理作用,使物料被有效的乳化奋刽、分散和粉碎瓦侮,達(dá)到物料超細(xì)粉碎、分散佣谐、乳化的效果肚吏。
影響濕磨機(jī)研磨分散結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)
1 研磨和分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2 研磨和分散頭的剪切速率 (越大,效果越好)
3 研磨和分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒狭魂,中齒罚攀,細(xì)齒,超細(xì)齒趁蕊,約細(xì)齒效果越好)
4 物料在研磨分散墻體的停留時(shí)間坞生,乳化分散時(shí)間(可以看作同等的電機(jī),流量越小掷伙,效果越好)
5 循環(huán)次數(shù)(越多是己,效果越好,到設(shè)備的期限任柜,就不能再好)
線速度的計(jì)算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率卒废。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)/ g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
– 轉(zhuǎn)子的線速率
– 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距宙地。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
CMSD2000系列濕磨機(jī)參數(shù)選型表
型號(hào) | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN | ||
CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | ||
CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | ||
CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | ||
CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)摔认。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
更新時(shí)間:2024/12/16 9:49:54
標(biāo)簽:醫(yī)藥超細(xì)粉體高速濕磨機(jī) 超細(xì)粉體納米濕磨機(jī) 化工超細(xì)粉體改進(jìn)型濕磨機(jī)