醫(yī)藥結(jié)晶體濕磨機，原料藥API結(jié)晶濕磨機娃肿，原料藥濕磨機咕缎，濕法粉碎機，濕法研磨機料扰，研磨分散機凭豪，膠體磨就是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或成為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或成為定子）做相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工的物料通過本省的重量或者外部的壓力（可有泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力晒杈，通過膠體磨定轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力嫂伞、摩擦力、高頻振動等物理作用拯钻，使物料被有效的乳化帖努、分散和粉碎，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果说庭，粒徑可粉碎至1um左右然磷。
      從API結(jié)晶角度講，無論是在研發(fā)階段還是商業(yè)化生產(chǎn)階段刊驴，對晶型都有要求姿搜，都需要控制。仿制藥有固定的晶型捆憎，新藥則要研究出具備良好生物利用度和穩(wěn)定度的晶型舅柜。我們主要在做仿藥，從這個角度講晶型要做的和原來一致躲惰，晶型的純度要合格致份，對于結(jié)晶顆粒大小、粒度分布础拨、晶體形貌的控制也都是我們要研究的氮块，這也是后續(xù)粉體藥物制備的基礎(chǔ)绍载。當(dāng)然，在放大的過程中對結(jié)晶過程的控制滔蝉，結(jié)晶核的生成击儡，粒子的成長，這些也是我們要研究的一些細(xì)節(jié)和關(guān)鍵點蝠引，這些都需要著重控制阳谍。這樣才能使我們在放大生產(chǎn)中保證晶體成長可控，達(dá)到符合我們要求的粒度和粒度分布螃概。
影響濕法粉碎結(jié)果的因素有以下幾點：
1 研磨粉碎頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）
2 研磨粉碎頭的剪切速率 （越大矫夯，效果越好）
3 研磨粉碎頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒吊洼，細(xì)齒训貌，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）
4 物料在分散墻體的停留時間融蹂，均質(zhì)時間（可以看作同等的電機旺订，流量越小，效果越好）
5 循環(huán)次數(shù)（越多超燃，效果越好区拳，到設(shè)備的期限，就不能再好）

IKN模塊化設(shè)計的主要特點如下：
-直立式腔體結(jié)構(gòu)意乓，物料可以全部進入分散腔樱调；
-無死角；
-良好的表面處理届良；
-符合CIP/SIP的清洗要求笆凌；
-低噪音；
-所有接觸物料的材質(zhì)均為SS316士葫；
-小試乞而、中試到量產(chǎn)，平穩(wěn)過渡慢显；
-僅需簡單的更換功能模塊爪模，即可滿足分散-懸浮-均質(zhì)-乳化的不同要求；
-衛(wèi)生設(shè)計荚藻，適合食品及制藥行業(yè)屋灌；
-可提供特殊材質(zhì)滿足磨損性及腐蝕性產(chǎn)品處理要求。

上海依肯IKN醫(yī)藥結(jié)晶體濕磨機設(shè)備參數(shù)選型表：

濕法粉碎機	流量	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
CMSD2000/4	300	14,000	41	4	DN25/DN15
CMSD2000/5	1000	10,500	41	11	DN40/DN32
CMSD2000/10	4000	7,200	41	22	DN80/DN65
CMSD2000/20	10000	4,900	41	45	DN80/DN65
CMSD2000/30	20000	2,850	41	90	DN150/DN125
CMSD2000/50	60000	1,100	41	160	DN200/DN150

*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性应狱，同時流量可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%共郭。
 醫(yī)藥結(jié)晶體濕磨機，原料藥API結(jié)晶濕磨機，原料藥濕磨機除嘹，濕法粉碎機写半，濕法研磨機，研磨分散機尉咕，膠體磨

更新時間：2024/12/16 9:49:54

標(biāo)簽：醫(yī)藥結(jié)晶體濕磨機   原料藥API結(jié)晶濕磨機   原料藥濕磨機