二氧化鈦超高速研磨分散機(jī),二氧化鈦納米膠體磨,二氧化鈦分散研磨均質(zhì)設(shè)備,納米二氧化鈦高速分散機(jī)
二氧化鈦適用十分廣泛,如油漆、防曬霜和藥片包衣杨刨。通常市場(chǎng)上都提供不同別的粉末產(chǎn)品,但是實(shí)際使用時(shí)還會(huì)對(duì)細(xì)度提出新的要求晤柄。同時(shí),這類(lèi)粉體碰到液體時(shí)易團(tuán)聚,這就成為了二氧化鈦的分散的一個(gè)難點(diǎn)。IKN系列混合分散設(shè)備為快速分散而設(shè)計(jì),達(dá)到窄粒徑分布,并防止結(jié)塊妖胀。
二氧化鈦超高速研磨分散機(jī),二氧化鈦納米膠體磨,二氧化鈦分散研磨均質(zhì)設(shè)備,納米二氧化鈦高速分散機(jī)用于二氧化鈦分散和研磨的優(yōu)點(diǎn):
一芥颈、縮短工藝時(shí)間。IKN高剪切乳化分散設(shè)備可以迅速地混合分散二氧化鈦粉末,并消除結(jié)塊和團(tuán)聚做粤。IKN也提供PLD和PLG粉體/液體混合機(jī),將粉體直接加入液體,無(wú)需循環(huán)處理,一次性通過(guò)便可成型浇借。
二、提高品質(zhì)怕品。IKN高剪切混合機(jī)可以打碎結(jié)塊粉體,并與液體充分混合妇垢。這樣可以改善產(chǎn)品光澤和透明度,這兩個(gè)特征由分散好壞直接決定。
三、減少資金投入闯估。IKN磨機(jī)可以更大程度縮小粒徑,達(dá)到窄粒徑分布灼舍。IKN分散研磨設(shè)備的流量比同類(lèi)研磨設(shè)備高出很多,但也可達(dá)到相類(lèi)似的效果。模塊化設(shè)計(jì)的IKN 2000系列產(chǎn)品,可以幫助客戶節(jié)約資金投資涨薪。
二氧化鈦超高速研磨分散機(jī),二氧化鈦納米膠體磨,二氧化鈦分散研磨均質(zhì)設(shè)備,納米二氧化鈦高速分散機(jī) 是IKN(上海)公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料骑素。我們將三組高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝,我們將三組變跟為一組,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料,然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
IKN研磨式分散機(jī)是由膠體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品刚夺,先是由具有精細(xì)度遞升的三組鋸齒突起和凹槽献丑。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向侠姑。第二組由轉(zhuǎn)定子組成创橄。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度莽红、中等精度妥畏、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)安吁、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能醉蚁。
CMD2000系列二氧化鈦研磨分散機(jī)的特點(diǎn):
① 線速度很高,剪切間隙非常小,當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨;
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三鋸齒突起和凹槽鬼店;
③ 定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離网棍;
④ 在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向;
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求薪韩。
CMD2000系列研磨分散設(shè)備選型表
研磨分散機(jī) | 流量L/H | 輸出轉(zhuǎn)速rpm | 線速度m/s | 馬達(dá)功率kw | 出口/入口連接 |
CMD2000/04 | 300 | 9,000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
CMD2000/05 | 1,000 | 6,000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CMD2000/10 | 3,000 | 4,200 | 23 | 22 | DN80/DN50 |
CMD2000/20 | 8,000 | 2,850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
CMD2000/30 | 20,000 | 1,420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CMD2000/50 | 60,000 | 1,100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決去設(shè)置的間隙和被處理物料的特性确沸,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%。
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更新時(shí)間:2024/12/16 9:49:54
標(biāo)簽:二氧化鈦分散研磨均質(zhì)設(shè)備 納米二氧化鈦高速分散機(jī) 高速分散機(jī)