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醫(yī)藥混懸液高速膠體磨营勤，藥物混懸劑納米膠體磨灵嫌，醫(yī)藥混懸液研磨式分散機(jī)
混懸液的制法分為分散法和凝聚法。
1葛作、分散法 將藥物粉碎成符合要求的粒度寿羞，再分散于液體介質(zhì)中。疏水性藥物制備混懸液時(shí)赂蠢，需先與潤濕劑研勻绪穆，再將液體分散介質(zhì)逐漸加入使混懸均勻。
2虱岂、凝聚法 包括物理凝聚法和化學(xué)凝聚法玖院。系在真溶液中通過改變物理?xiàng)l件（如溶劑組成）或化學(xué)反應(yīng)而形成藥物沉淀，控制適當(dāng)?shù)臈l件使形成的微粒大小符合要求第岖，再將微聊丫混懸于分散介質(zhì)中即可制得。
改進(jìn)型膠體磨蔑滓， 線速度很高郊酒，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候键袱，形成的摩擦力就比較劇烈燎窘，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形蹄咖，具有精細(xì)度遞升的三組鋸齒凸起和凹槽褐健。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下澜汤，凹槽在每都可以改變方向铝量。第二組由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求银亲。被加工的物料通過本省的重量或者外部的壓力（可有泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，通過改進(jìn)型膠體磨定轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力纽匙、摩擦力务蝠、高頻振動(dòng)等物理作用，使物料被有效的乳化烛缔、分散和粉碎馏段，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果轩拨。整機(jī)采用佳的幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料院喜，可以滿足不同行業(yè)的多種需求亡蓉。
影響改進(jìn)型膠體磨研磨分散結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)：
1 研磨和分散頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）
2 研磨和分散頭的剪切速率 （越大，效果越好）
3 研磨和分散頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒喷舀，中齒砍濒，細(xì)齒，超細(xì)齒硫麻，約細(xì)齒效果越好）
4 物料在研磨分散腔體的停留時(shí)間爸邢，研磨均質(zhì)時(shí)間（可以看作同等的電機(jī)，流量越小拿愧，效果越好）
5 循環(huán)次數(shù)（越多杠河，效果越好，到設(shè)備的期限浇辜，就不能再好）
CMSD2000系列改進(jìn)型膠體磨參數(shù)選型表
| 改進(jìn)型膠體磨 | 流量 | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
| 類型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
| CMSD2000/4 | 300 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
| CMSD2000/5 | 1000 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
| CMSD2000/10 | 4000 | 7,200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
| CMSD2000/20 | 10000 | 4,900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
| CMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
| CMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)券敌。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
醫(yī)藥混懸液高速膠體磨柳洋，藥物混懸劑納米膠體磨待诅，醫(yī)藥混懸液研磨式分散機(jī)
更新時(shí)間：2024/12/16 9:49:54
標(biāo)簽：醫(yī)藥混懸液高速膠體磨 藥物混懸劑納米膠體磨 醫(yī)藥混懸液研磨式分散機(jī)
