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原料藥是指用于生產(chǎn)各類(lèi)制劑的原料藥物,是制劑中的有效成份由化學(xué)合成孽糖、植物提取或者生物技術(shù)所制備的各種用來(lái)作為藥用的粉末、結(jié)晶毅贮、浸膏等,但病人無(wú)法直接服用的物質(zhì)办悟。
醫(yī)藥物料的藥效的發(fā)揮,一般取決于醫(yī)藥物料粒徑的細(xì)化,粒徑越小,藥效釋放的更徹底。原料藥一般都會(huì)分散到水中或者溶劑當(dāng)中(如卡波姆溶液),制得藥物混懸液,終得到醫(yī)藥成品滩褥。
醫(yī)藥混懸液終的體系很大程度上由原料藥的粒徑細(xì)化,以及原料藥的分散情況決定的病蛉。粒徑細(xì)化更小,分散更均勻,制得的醫(yī)藥混懸液才會(huì)更加穩(wěn)定并且藥效更高。
目,許多藥廠一般都采用研磨機(jī)進(jìn)行處理,一般采用3000rpm國(guó)產(chǎn)研磨機(jī),但是效果并不理想。而上海依肯高剪切研磨機(jī)就不一樣的,更高的轉(zhuǎn)速,更精密的磨頭結(jié)構(gòu),使得研磨的效果大大好于國(guó)產(chǎn)研磨機(jī)铺然。另外IKN又自主研發(fā)了改進(jìn)型的研磨機(jī),將高剪切研磨機(jī)和高剪切分散機(jī)進(jìn)行結(jié)合,一體化設(shè)備,進(jìn)一步提高研磨機(jī)的研磨能力,以及強(qiáng)化研磨機(jī)的分散能力俗孝。
高速研磨機(jī), 線速度很高魄健,剪切間隙非常小赋铝,這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候,形成的摩擦力就比較劇烈沽瘦,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨革骨。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形,具有精細(xì)度遞升的三組鋸齒凸起和凹槽其垄。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離苛蒲。在增強(qiáng)的流體湍流下卤橄,凹槽在每都可以改變方向绿满。第二組由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求窟扑。被加工的物料通過(guò)本省的重量或者外部的壓力(可有泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力喇颁,通過(guò)高速研磨機(jī)定轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力嚎货、高頻振動(dòng)等物理作用橘霎,使物料被有效的乳化、分散和粉碎殖属,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果姐叁。整機(jī)采用佳的幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子,好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料洗显,可以滿足不同行業(yè)的多種需求外潜。
IKN醫(yī)藥研磨機(jī)研磨機(jī)結(jié)構(gòu):三道磨碎區(qū):一為粗磨碎區(qū),二為細(xì)磨碎區(qū),三為超微磨碎區(qū)。我們的磨頭的結(jié)構(gòu):溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒,每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下,而他們的斜齒的每個(gè)磨頭的溝槽深度一樣,流道體積是一樣大,這樣形成了本質(zhì)的區(qū)別挠唆。我們可以保證物料從上往下一直在進(jìn)行研磨,而他們只能在一磨頭到另外一磨頭形成研磨效果处窥。
醫(yī)藥研磨機(jī)CMSD2000系列的特點(diǎn):
1、定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細(xì)度遞升的三鋸齒突起和凹槽玄组。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離滔驾。
2、齒列的深度:從開(kāi)始的2.7mm 到末端的0.7mm,范圍比較大,范圍越大,處理的物料顆粒大小越廣俄讹。
3哆致、溝槽的結(jié)構(gòu)式斜齒,每個(gè)磨頭的溝槽深度不一樣,并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。
影響研磨分散結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn):
1 研磨和分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2 研磨和分散頭的剪切速率 (越大患膛,效果越好)
3 研磨和分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒摊阀,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒驹溃,約細(xì)齒效果越好)
4 物料在研磨分散腔體的停留時(shí)間城丧,研磨均質(zhì)時(shí)間(可以看作同等的電機(jī),流量越小豌鹤,效果越好)
5 循環(huán)次數(shù)(越多亡哄,效果越好,到設(shè)備的期限布疙,就不能再好)
CMSD2000系列研磨機(jī)參數(shù)選型表
研磨機(jī) | 流量 | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類(lèi)型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
CMSD2000/4 | 300 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
CMSD2000/5 | 1000 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD2000/10 | 4000 | 7,200 | 41 | 30 | DN80/DN65 |
CMSD2000/20 | 10000 | 4,900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)蚊惯。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
9000轉(zhuǎn)醫(yī)藥研磨機(jī),10000轉(zhuǎn)藥劑研磨機(jī),12000轉(zhuǎn)API研磨機(jī),原料藥濕法研磨機(jī)灵临,原料高剪切濕法研磨機(jī)截型,API活性藥物成分濕法研磨機(jī)
更新時(shí)間:2024/12/16 9:49:54
標(biāo)簽:9000轉(zhuǎn)醫(yī)藥研磨機(jī) 10000轉(zhuǎn)藥劑研磨機(jī) 12000轉(zhuǎn)API研磨機(jī)