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化工微球在線乳化機(jī)
醫(yī)藥微球在線乳化機(jī)
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產(chǎn)品展示
  • 產(chǎn)品名稱:醫(yī)藥結(jié)晶體管線式濕法粉碎膠體磨北启,醫(yī)藥結(jié)晶體高剪切膠體磨
  • 產(chǎn)品價(jià)格:0
  • 產(chǎn)品產(chǎn)地:中國大陸
  • 訪問次數(shù):161 發(fā)布時(shí)間:2023/8/13 23:25:10
  • 簡介內(nèi)容:醫(yī)藥結(jié)晶體管線式濕法粉碎膠體磨,醫(yī)藥結(jié)晶體高剪切膠體磨拔第,醫(yī)藥結(jié)晶體新工藝濕法粉碎機(jī)咕村,醫(yī)藥中間體高效粉碎機(jī),硫酸氫氯吡格雷濕法粉碎機(jī)蚊俺,醫(yī)藥濕法粉碎機(jī)...詳情請致電 徐工 182-0189-1183.
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醫(yī)藥結(jié)晶體管線式濕法粉碎膠體磨懈涛,醫(yī)藥結(jié)晶體高剪切膠體磨

醫(yī)藥結(jié)晶體管線式濕法粉碎膠體磨,醫(yī)藥結(jié)晶體高剪切膠體磨泳猬,醫(yī)藥結(jié)晶體新工藝濕法粉碎機(jī)批钠,醫(yī)藥中間體高效粉碎機(jī),硫酸氫氯吡格雷濕法粉碎機(jī)得封,醫(yī)藥濕法粉碎機(jī)是通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn)埋心,被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定忙上、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力拷呆、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化茬斧、分散和粉碎箫柳,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果。


晶體(crystal)是由大量微觀物質(zhì)單位(原子啥供、離子、分子等)按一定規(guī)則有序排列的結(jié)構(gòu)库糠,因此可以從結(jié)構(gòu)單位的大小來研究判斷排列規(guī)則和晶體形態(tài)

實(shí)際上是一些用于藥品合成工藝過程中的一些化工原料或化工產(chǎn)品伙狐。這種化工產(chǎn)品,不需要藥品的生產(chǎn)許可證瞬欧,在普通的化工廠即可生產(chǎn)贷屎,只要達(dá)到一些的別,即可用于藥品的合成
目許多結(jié)晶體一般在40-50UM 艘虎,下游的客戶在處理這些物料有更高的要求一般需要達(dá)到5-10UM  唉侄,要么干法氣流粉碎  ,要么濕法粉碎且粉碎過程中要保證晶體的形狀野建,以及粒度的均一性属划。

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干磨產(chǎn)生大量灰塵须蜗,從而需要配備適當(dāng)?shù)倪^濾系統(tǒng)。當(dāng)研磨其粉塵與大氣氧氣混合會產(chǎn)生爆炸性混合物的物質(zhì)時(shí)目溉,這一點(diǎn)尤其重要明肮。達(dá)到規(guī)定的安全等通常需要精心設(shè)計(jì)的技術(shù)解決方案,如除塵和惰性氣體覆蓋系統(tǒng)缭付。這些過濾系統(tǒng)的成本通常大大超出實(shí)際研磨機(jī)的成本柿估。 

濕磨被用于醫(yī)藥工業(yè)的許多應(yīng)用中,并且取得了良好的效果蛉腌,因?yàn)樗浅_m用于API(活性藥用成分)官份。 
濕磨機(jī)濕磨是干磨的一種安全而高效的替代方案,基于轉(zhuǎn)子-定子原理烙丛。

用轉(zhuǎn)子-定子置濕磨此類物質(zhì)具有諸多好處:

1 研磨得到的細(xì)顆粒被直接融 合到懸浮液中舅巷,因而從開始就避免了灰塵的形成。

2 與干磨系統(tǒng)不同河咽,被研磨的物質(zhì)保持在系統(tǒng)內(nèi)钠右,從而大幅減少了損失。因此忘蟹,濕磨非常適合有機(jī)化學(xué)品飒房,尤其是優(yōu)質(zhì)物質(zhì)搁凸,或者有毒物質(zhì)的研磨。

3相對干磨過程而言狠毯,濕磨的產(chǎn)品進(jìn)料和計(jì)量較容易护糖。

醫(yī)藥結(jié)晶體膠體磨特點(diǎn)

①具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性嚼松。
②該設(shè)備可以適用于各種分散乳化工藝嫡良,也可用于生產(chǎn)包括對乳狀液、懸浮液和膠體的均質(zhì)混合献酗。
③雙入口乳化機(jī)由定寝受、轉(zhuǎn)子系統(tǒng)所產(chǎn)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加,從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速罕偎。
④雙入口進(jìn)口方式的設(shè)計(jì)很澄,避免兩種不能長期接觸物料,可以得到瞬間的剪切颜及。

醫(yī)藥結(jié)晶體濕法粉碎膠體磨是在傳統(tǒng)膠體磨的基礎(chǔ)上改進(jìn)的一款除了研磨效果以外更添加可高速剪切分散頭甩苛,使得物料在研磨粉碎的瞬間立即被高剪切分散。

設(shè)備結(jié)構(gòu):
第1組具有精細(xì)度遞升的三層鋸齒突起和凹槽俏站。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離浪藻。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每層都可以改變方向乾翔。

第2組由轉(zhuǎn)定子組成爱葵。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?nbsp;在對輸送性的要求方面反浓,特別要引起注意的是:在粗精度萌丈、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列雷则,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣辆雾。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能月劈。根據(jù)以往的慣例度迂,依據(jù)以的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下猜揪,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的惭墓,因而它對制造出產(chǎn)品是很重要。

CMSD2000系列醫(yī)藥結(jié)晶體高剪切膠體磨設(shè)備選型表

醫(yī)藥結(jié)晶體高剪切膠體磨

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm

 

線速度

m/s

 

功率

kw

入/出口連接

DN

CMSD 2000/4

300

14000

 

41

 

4

DN25/DN15

CMSD 2000/5

1000

10500

 

41

 

11

DN40/DN32

CMSD 2000/10

4000

7200

 

41

 

22

DN80/DN65

CMSD 2000/20

10000

4900

 

41

 

45

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

2850

 

41

 

90

DN150/DN125

CMSD 2000/50

60000

1100

 

41

 

160

DN200/DN150

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)而姐。

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性腊凶,可以被調(diào)節(jié)到允許量的10%

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更新時(shí)間:2024/12/16 9:50:08

標(biāo)簽:醫(yī)藥結(jié)晶體管線式濕法粉碎膠體磨   醫(yī)藥結(jié)晶體高剪切膠體磨   醫(yī)藥結(jié)晶體新工藝濕法粉碎機(jī)   

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