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API濕法研磨機(jī),原料藥研磨機(jī)老速,原料藥高速濕磨機(jī)
在化工產(chǎn)品或藥品的生產(chǎn)過(guò)程中粥喜,析晶是非常重要的單元操作。但是現(xiàn)有的常規(guī)反應(yīng)釜橘券,對(duì)于高粘度额湘,容易成球的析晶體系,無(wú)法達(dá)到很好的分散效果旁舰,無(wú)法得到均一的產(chǎn)品锋华。
上海依肯IKN特別提供一種適用于高粘度體系的析晶過(guò)程中濕磨機(jī),能夠使現(xiàn)有的常規(guī)反應(yīng)釜滿足高粘度系統(tǒng)的析晶箭窜,能夠?qū)⑽鼍菀壮汕虻奈锪洗蛏⑻夯溃瑫r(shí)使得粒徑均一等。
可以在濕磨機(jī)中完成析晶磺樱,避免在反應(yīng)釜中直接析晶成團(tuán)結(jié)球纳猫,在析晶的同時(shí),完成了物料的濕磨竹捉,可以有效地控制物料的粒徑芜辕,同時(shí)還兼具結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)化、拆卸方便块差、空間占用少侵续、操作簡(jiǎn)便、節(jié)省人力成本等優(yōu)點(diǎn)憨闰。
高速研磨機(jī)询兴,濕法研磨機(jī),濕磨機(jī)起趾, 線速度很高诗舰,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候训裆,形成的摩擦力就比較劇烈眶根,結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨蜀铲。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形,具有精細(xì)度遞升的三組鋸齒凸起和凹槽属百。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離记劝。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向族扰。第二組由轉(zhuǎn)定子組成厌丑。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。被加工的物料通過(guò)本省的重量或者外部的壓力(可有泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力渔呵,通過(guò)高速研磨機(jī)定轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力怒竿、摩擦力、高頻振動(dòng)等物理作用扩氢,使物料被有效的乳化耕驰、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果录豺。整機(jī)采用佳的幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子朦肘,好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種需求双饥。
影響高速研磨機(jī)研磨分散結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn):
1 研磨和分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2 研磨和分散頭的剪切速率 (越大媒抠,效果越好)
3 研磨和分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒咏花,細(xì)齒领舰,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)
4 物料在研磨分散腔體的停留時(shí)間迟螺,研磨均質(zhì)時(shí)間(可以看作同等的電機(jī)冲秽,流量越小赌髓,效果越好)
5 循環(huán)次數(shù)(越多玉吁,效果越好,到設(shè)備的期限偏竟,就不能再好)
CMSD2000系列高速研磨機(jī)參數(shù)選型表
高速研磨機(jī) | 流量 | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類(lèi)型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
CMSD2000/4 | 300 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
CMSD2000/5 | 1000 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD2000/10 | 4000 | 7,200 | 41 | 30 | DN80/DN65 |
CMSD2000/20 | 10000 | 4,900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)窍株。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性民轴,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
更新時(shí)間:2024/12/16 9:50:08
標(biāo)簽:API濕法研磨機(jī) 原料藥研磨機(jī) 原料藥高速濕磨機(jī)