布地奈德混懸液研磨式分散機，混懸液研磨分散機 - 上海依肯機械設(shè)備有限公司

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郵編：201612

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高速高剪切均質(zhì)機: 醫(yī)藥高剪切均質(zhì)機; 化工高剪切均質(zhì)機; 食品高剪切均質(zhì)機; 化妝品高剪切均質(zhì)機; 實驗室高剪切均質(zhì)機; 管線式高速剪切機; 在線式高剪切均質(zhì)機; 連續(xù)式高剪切均質(zhì)機; 雙入口高剪切均質(zhì)機

實驗室乳化均質(zhì)粉碎設(shè)備: 實驗室高剪切乳化機; 實驗室高剪切分散機; 實驗室高剪切均質(zhì)機; 實驗室高速粉液混合機; 實驗室高速膠體磨; 實驗室高速濕法粉碎機

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原料藥濕磨機

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高速濕法粉碎機: 濕法粉碎機; 超微粉碎機

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高速沉析機

凝膠粉碎機

產(chǎn)品展示

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產(chǎn)品名稱：布地奈德混懸液研磨式分散機迈倍，混懸液研磨分散機
產(chǎn)品價格：0
產(chǎn)品產(chǎn)地：中國大陸
訪問次數(shù)：163 發(fā)布時間：2023/9/6 15:00:30
簡介內(nèi)容：布地奈德混懸液研磨式分散機伤靠，混懸液研磨分散機，混懸液膠體磨啼染，經(jīng)過IKN研磨分散設(shè)備制備的混懸液粒徑D 50 <4μm宴合，D 90 <7μm。$r$n
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布地奈德混懸液研磨式分散機迹鹅，混懸液研磨分散機

布地奈德混懸液研磨式分散機卦洽，混懸液研磨分散機，混懸液膠體磨斜棚，經(jīng)過IKN研磨分散設(shè)備制備的混懸液粒徑D 50 <4μm阀蒂，D 90 <7μm。

布地奈德是一種具有高效局部抗炎作用的糖皮質(zhì)激素弟蚀，目上市的劑型有吸入氣霧劑脂新、吸入粉霧劑、吸入混懸液粗梭。吸入用布地奈德混懸液不需要患者啟動霧化與吸入動作的同步協(xié)調(diào)争便，因而特別適合兒童、老人及其他無法較好使用吸入氣霧劑和吸入粉霧劑的患者使用断医。

高速研磨分散機滞乙，線速度很高奏纪，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候斩启，形成的摩擦力就比較劇烈序调，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形兔簇，具有精細(xì)度遞升的三組鋸齒凸起和凹槽发绢。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下垄琐，凹槽在每都可以改變方向边酒。第二組由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求狸窘。被加工的物料通過本省的重量或者外部的壓力（可有泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力墩朦，通過高速研磨分散機定轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力翻擒、高頻振動等物理作用氓涣，使物料被有效的乳化、分散和粉碎陋气，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果劳吠。整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料巩趁，可以滿足不同行業(yè)的多種需求痒玩。

影響研磨分散結(jié)果的因素有以下幾點：
1 研磨和分散頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）
2 研磨和分散頭的剪切速率（越大，效果越好）
3 研磨和分散頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒晶渠，中齒凰荚，細(xì)齒燃观，超細(xì)齒褒脯，約細(xì)齒效果越好）
4 物料在研磨分散腔體的停留時間，研磨均質(zhì)時間（可以看作同等的電機缆毁，流量越小番川，效果越好）
5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好脊框，到設(shè)備的期限颁督，就不能再好

CMSD2000系列研磨分散機參數(shù)選型表

研磨分散機	流量	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
CMSD2000/4	300	14,000	41	4	DN25/DN15
CMSD2000/5	1000	10,500	41	11	DN40/DN32
CMSD2000/10	4000	7,200	41	30	DN80/DN65
CMSD2000/20	10000	4,900	41	45	DN80/DN65
CMSD2000/30	20000	2,850	41	90	DN150/DN125
CMSD2000/50	60000	1,100	41	160	DN200/DN150