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當(dāng)前位置:上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司>產(chǎn)品中心>高速高剪切分散機(jī) > 高速高剪切分散機(jī) > 色料濕法研磨分散機(jī)
超微細(xì)分散液研磨分散機(jī)、色料濕法研磨分散機(jī)设预、有機(jī)化合物濕法研磨式分散機(jī)徙歼、金屬或金屬氧化物研磨分散機(jī)、醫(yī)藥用化合物分散式濕磨機(jī)
微帘钫恚化技術(shù)為許多產(chǎn)業(yè)生產(chǎn)制造的關(guān)鍵技術(shù)魄梯，其中以濕式研磨方法為相對(duì)經(jīng)濟(jì)的制程，并可應(yīng)用在不同的材料上宾符。濕式研磨為傳統(tǒng)的微聊鸾眨化分散方式，其微廖禾蹋化的技術(shù)及產(chǎn)品具有很大的工業(yè)應(yīng)用范圍辣苏。舉例來(lái)說(shuō)，色料的分散液被廣泛的應(yīng)用在油漆哄褒、油墨稀蟋、涂顏料、工業(yè)染色等 許多域上呐赡。而由技術(shù)的改良退客，濕式研磨的微粒化方式已可分散材料到納米尺度，例如使用不同設(shè)計(jì)的分散設(shè)備萌狂、不同種類(lèi)結(jié)構(gòu)的分散助劑档玻。
超細(xì)粉體濕法研磨分散，能將顏料粒子研磨分散到更小粥脚，以增加其色彩飽和度及穿透度窃肠。同時(shí)使成本降低包个。
一般情況下超細(xì)粉體在液相中的分散包括三個(gè)階段：
1刷允、顆粒在液相中的潤(rùn)濕過(guò)程；
2碧囊、團(tuán)聚體在外力的作用下被打散树灶，形成單個(gè)的小顆粒或很小的團(tuán)聚體的過(guò)程糯而；
3天通、單個(gè)顆粒或小團(tuán)聚體的分散穩(wěn)定熄驼，防止再次的團(tuán)聚沉降像寒。
為了解決超細(xì)粉研磨分散的問(wèn)題，上海依肯憑借多年來(lái)積累的豐富行業(yè)經(jīng)驗(yàn)結(jié)合優(yōu)良技術(shù)研發(fā)平臺(tái)特別推出CMSD2000系列高速研磨分散機(jī)是由膠體磨和分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品瓜贾，先錐形研磨頭具有精細(xì)度遞升的多鋸齒凸起和凹槽诺祸。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無(wú)限制調(diào)整間隙。第二由轉(zhuǎn)定子組成祭芦。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求筷笨。整機(jī)采用佳的幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)良的材料龟劲，可以滿足不同行業(yè)的多種需求胃夏。通過(guò)研磨分散機(jī)定轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力昌跌、高頻振動(dòng)等物理作用仰禀，使物料被有效的乳化、分散和粉碎蚕愤，達(dá)到物料超細(xì)粉碎悼瘾、分散、乳化的效果审胸。
影響研磨分散結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)
1 研磨和分散頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）
2 研磨和分散頭的剪切速率 （越大，效果越好）
3 研磨和分散頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒碍庵，中齒映企，細(xì)齒悟狱，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）
4 物料在研磨分散墻體的停留時(shí)間堰氓，乳化分散時(shí)間（可以看作同等的電機(jī)挤渐，流量越小，效果越好）
5 循環(huán)次數(shù)（越多双絮，效果越好浴麻，到設(shè)備的期限，就不能再好）
線速度的計(jì)算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率囤攀。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)/ g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知软免，剪切速率取決于以下因素：
– 轉(zhuǎn)子的線速率
– 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
CMSD2000系列超微細(xì)分散液研磨分散機(jī)參數(shù)選型表
| 型號(hào) | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN | ||
| CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | ||
| CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | ||
| CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | ||
| CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | ||
| CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | ||
| CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)焚挠。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性膏萧，可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
更新時(shí)間：2024/12/16 9:50:08
標(biāo)簽：超微細(xì)分散液研磨分散機(jī)
