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研磨作為一種簡單佩番、經(jīng)濟、高效的微粉化方法罢杉，通過改變顆粒性質提升藥物溶解特性趟畏。然而研磨獲得的微米或亞微米細粉通常具有較高的表面能。粉末之間通過范德華力滩租、靜電力等相互作用力而團聚赋秀，使其比表面積降低從而影響溶出速率。此外律想，研磨過程注入的機械能易導致API發(fā)生晶型轉變與熱降解。為避免此類現(xiàn)象發(fā)生著洼，常將API與親水性或兩性輔料共同研磨而叼。輔料作為研磨載體可吸附于API顆粒表面郭脂，減少藥粉聚集。此外澈歉，API與特定輔料共同研磨，可使API保持原有晶型或向單一晶型或無定形轉變屿衅，使研磨后產(chǎn)品固體形式得到控制。 


高速研磨分散機 線速度很高忍弛，剪切間隙非常小细疚，這樣當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈吧彪，結果就是通常所說的濕磨丢早。定轉子被制成圓錐形姨裸，具有精細度遞升的三組鋸齒凸起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉子之間的距離怨酝。在增強的流體湍流下农猬，凹槽在每都可以改變方向赡艰。第二組由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度物質以及顆粒粒徑的需求盛险。被加工的物料通過本省的重量或者外部的壓力（可有泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力瞄摊，通過高速研磨分散機定轉齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力苦掘、摩擦力换帜、高頻振動等物理作用，使物料被有效的乳化鹤啡、分散和粉碎惯驼，達到物料超細粉碎及乳化的效果。整機采用佳的幾何機構的研磨定轉子递瑰，好的表面處理和優(yōu)質材料祟牲，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。
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影響研磨分散結果的因素有以下幾點： 
1 研磨和分散頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）
2 研磨和分散頭的剪切速率 （越大，效果越好）
3 研磨和分散頭的齒形結構（分為初齒报嵌，中齒虱咧，細齒，超細齒沪蓬，約細齒效果越好）
4 物料在研磨分散腔體的停留時間彤钟，研磨均質時間（可以看作同等的電機，流量越小跷叉，效果越好）
5 循環(huán)次數(shù)（越多逸雹，效果越好，到設備的期限云挟，就不能再好）

CMSD2000系列研磨分散機參數(shù)選型表 

研磨分散機	流量	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
CMSD2000/4	300	14,000	41	4	DN25/DN15
CMSD2000/5	1000	10,500	41	11	DN40/DN32
CMSD2000/10	4000	7,200	41	30	DN80/DN65
CMSD2000/20	10000	4,900	41	45	DN80/DN65
CMSD2000/30	20000	2,850	41	90	DN150/DN125
CMSD2000/50	60000	1,100	41	160	DN200/DN150

表中上限處理量是指介質為“水”的測定數(shù)據(jù)梆砸。
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%

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更新時間：2024/12/16 9:50:08

標簽：API研磨機