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當前位置:上海依肯機械設備有限公司>產(chǎn)品中心>高速膠體磨 > 高速膠體磨 > 晶種高速濕磨機
晶種是在結(jié)晶法中可以形成晶體從而加快或促進與之晶型或立體構(gòu)型相同的結(jié)晶的生長的添加物虐唠。
晶種用以提供晶體生長的位點，以便從均勻的惰聂、僅存在一相的溶液中越過一個能壘形成晶核疆偿，加入的晶種加速了目標晶型的生長速率，有助于得到目標品型搓幌。工業(yè)制品中杆故，為了得到粒度大且均勻的晶體產(chǎn)品，都要盡可能避免初成核溉愁，控制二次成核处铛，加入適量的晶種作為晶體生長的核心通常是的，晶種的制備因此也成為制備晶體的一個重要環(huán)節(jié)拐揭。
晶種的重要性在于所用的晶種是否需要特別工藝獲取撤蟆，如果需要，則需要說明晶種的獲取途徑堂污，如果晶種的性質(zhì)有特別要求家肯，需說明晶種的特性及檢測方法。另外盟猖，晶種與晶型的穩(wěn)定性也存在一定的聯(lián)系讨衣。例如，也存在某一晶型在別的晶型晶體的表面生長式镐。穩(wěn)定晶型會在亞穩(wěn)定型或不穩(wěn)定型晶型表面成核反镇、生長，直至終完全轉(zhuǎn)晶娘汞，這是由于兩種型的某一晶面的結(jié)構(gòu)相似愿险，溶質(zhì)分子可以在亞穩(wěn)定型或不穩(wěn)定型晶型晶面上直接堆積、排列成穩(wěn)定晶型价说。
由具有精細度遞升san鋸齒突起和凹槽辆亏。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下鳖目，凹槽在每都可以改變方向扮叨。
#由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要领迈。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面彻磁，##要引起注意的是：在粗精度碍沐、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列衷蜓，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣累提。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征#能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能磁浇。根據(jù)以往的慣例斋陪，依據(jù)以的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下置吓，機器的構(gòu)造是和具體應用相匹配的无虚，因而它對制造出X終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應用衍锚。
CMXD2000系列的線速度很高友题，剪切間隙fei #小，這樣當物料經(jīng)過的時候戴质，形成的摩擦力就比較劇烈度宦，結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形告匠，具有精細度遞升的三鋸齒突起和凹槽戈抄。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下凫海，凹槽在每都可以改變方向呛凶。的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料男娄，可以滿足不同行業(yè)的多種要求行贪。
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器
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| 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
| 類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
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| 300 | 21,000 | 66 | 5.5 | DN25/DN15 |
| CMXD 2000/5 | 1500 | 15,750 | 66 | 18 | DN40/DN32 |
| CMXD 2000/10 | 4000 | 10,500 | 66 | 37 | DN80/DN65 |
| CMXD 2000/20 | 10000 | 7,300 | 66 | 75 | DN80/DN65 |
| CMXD 2000/30 | 20000 | 4,900 | 66 | 132 | DN150/DN125 |
| *流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同時流量可以被調(diào)節(jié)到#大允許量的10%模闲。 | |||||
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)建瘫。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和#終產(chǎn)品的要求尸折。
3 如高溫啰脚，高壓，易燃易爆实夹，腐蝕性等工況橄浓，bi xu提供準確的參數(shù)，以便選型和定制亮航。
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更新時間：2024/12/16 9:50:22
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