沉淀法二氧化硅和氣相法二氧化硅（氣相法白炭黑）的主要區(qū)別

閱讀次數(shù)：3333 發(fā)布時(shí)間：2022/12/27 14:17:53

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先什么是二氧化硅？二氧化硅辽话，是一種無(wú)機(jī)化合物九巡，化學(xué)式為SiO2聚凹，硅原子和氧原子長(zhǎng)程有序排列形成晶態(tài)二氧化硅枉圃，短程有序或長(zhǎng)程無(wú)序排列形成非晶態(tài)二氧化硅。二氧化硅晶體中礁凡，硅原子位于正四面體的中心高氮，四個(gè)氧原子位于正四面體的四個(gè)頂角上，許多個(gè)這樣的四面體又通過(guò)頂角的氧原子相連顷牌，每個(gè)氧原子為兩個(gè)四面體共有剪芍，即每個(gè)氧原子與兩個(gè)硅原子相結(jié)合。二氧化硅的簡(jiǎn)式是SiO2窟蓝，但SiO2不代表一個(gè)簡(jiǎn)單分子（僅表示二氧化硅晶體中硅和氧的原子個(gè)數(shù)之比）罪裹。純凈的天然二氧化硅晶體，是一種堅(jiān)硬、脆性坊谁、不溶的無(wú)色透明的固體，常用于制造光學(xué)儀器等滑臊。

二氧化硅有哪些用途呢口芍？二氧化硅是制造玻璃、石英玻璃雇卷、水玻璃鬓椭、光導(dǎo)纖維、電子工業(yè)的重要部件关划、光學(xué)儀器小染、工藝品和耐火材料的原料，是科學(xué)研究的重要材料贮折。當(dāng)二氧化硅結(jié)晶完就是水晶裤翩；二氧化硅膠化脫水后就是瑪瑙；二氧化硅含水的膠體凝固后就成為蛋白石调榄；二氧化硅晶粒小于幾微米時(shí)踊赠，就組成玉髓、燧石每庆、次生石英巖筐带。物理性質(zhì)和化學(xué)性質(zhì)均十分穩(wěn)定的礦產(chǎn)資源，晶體屬三方晶系的氧化物礦物缤灵，即低溫石英（α-石英）伦籍，是石英族礦物中分布廣的一個(gè)礦物種。廣義的石英還包括高溫石英（β-石英）腮出。石英塊又名硅石帖鸦，主要是生產(chǎn)石英砂(又稱(chēng)硅砂)的原料，也是石英耐火材料和燒制硅鐵的原料利诺。

除此之外富蓄，二氧化硅還可以作為潤(rùn)滑劑，是一種優(yōu)良的流動(dòng)促進(jìn)劑慢逾，主要作為潤(rùn)滑劑立倍、抗黏劑、助流劑侣滩。特別適宜油類(lèi)口注、浸膏類(lèi)藥物的制粒，制成的顆粒具有很好的流動(dòng)性和可壓性君珠。還可以在直接壓片中用作助流劑寝志。作為崩解劑可大大改善顆粒流動(dòng)性，提高松密度，使制得的片劑硬度增加材部，縮短崩解時(shí)限毫缆，提高藥物溶出速度。顆粒劑制造中可作內(nèi)干燥劑乐导，以增強(qiáng)藥物的穩(wěn)定性苦丁。還可以作助濾劑、澄清劑物臂、消泡劑以及液體制劑的助懸劑旺拉、增稠劑。
二氧化硅兩種主要制取方法以及區(qū)別棵磷，沉淀法二氧化硅和氣相法二氧化硅（氣相法白炭黑）的主要區(qū)別有兩點(diǎn)：

一蛾狗，顆粒大小：沉淀法二氧化硅一般是微米仪媒，氣相法二氧化硅一般是納米沉桌。
二，雜質(zhì)含量：沉淀法二氧化硅雜質(zhì)含量高算吩，純度一般在93%左右蒲牧，氣相法二氧化硅雜質(zhì)含量很低，純度可以達(dá)到99%以上赌莺。
兩者用途都有增稠冰抢、觸變、防沉艘狭、補(bǔ)強(qiáng)作用挎扰。由于顆粒和純度巨大差異，導(dǎo)致巢音，這些方面氣相法二氧化硅很大優(yōu)于沉淀法二元化硅遵倦！

上海依肯依據(jù)市場(chǎng)需求以及多年來(lái)相關(guān)行業(yè)經(jīng)驗(yàn)特別推出CMSD2000系列改進(jìn)型膠體磨高速研磨式分散機(jī)。CMSD2000系列改進(jìn)型膠體磨高速研磨式分散機(jī)是由膠體磨和分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品官撼，先錐形研磨頭具有精細(xì)度遞升的多鋸齒凸起和凹槽梧躺。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無(wú)限制調(diào)整間隙。第二由轉(zhuǎn)定子組成傲绣。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求掠哥。整機(jī)采用佳的幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)良材料秃诵，可以滿足不同行業(yè)的多種需求续搀。

CMSD2000系列改進(jìn)型膠體磨高速研磨式分散機(jī)的優(yōu)勢(shì)主要體現(xiàn)在以下四個(gè)方面：

一、超高轉(zhuǎn)速：

IKN膠體磨轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm菠净，是同類(lèi)設(shè)備的4-5倍禁舷，剪切力高彪杉，研磨破碎能力強(qiáng)。

二牵咙、高經(jīng)密磨頭定轉(zhuǎn)子：

磨頭結(jié)構(gòu)為三道磨碎區(qū)派近，一為粗磨碎區(qū)，二為細(xì)磨碎區(qū)洁桌，三為超微磨碎區(qū)构哺。磨頭定轉(zhuǎn)子符合流體力學(xué)的設(shè)計(jì)，三錯(cuò)齒战坤，溝槽深度和寬度逐變細(xì)，研磨破碎效果残拐，逐提高途茫。

三、德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封：

采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封溪食，并配機(jī)封冷卻系統(tǒng)囊卜，在確保冷卻水的情況下，可24小時(shí)連續(xù)生產(chǎn)错沃。

四栅组、衛(wèi)生設(shè)計(jì)

IKN衛(wèi)生采用直立式設(shè)計(jì)，無(wú)衛(wèi)生si角枢析，便于清潔消毒玉掸，符合CIP及SIP等GMP管理標(biāo)準(zhǔn)，獲得美國(guó)FDA頒發(fā)的3A衛(wèi)生等證書(shū)醒叁，同時(shí)司浪，IKN提供的模塊式設(shè)計(jì)能很好的實(shí)現(xiàn)不同制藥工藝的要求。

CMSD2000系列改進(jìn)型膠體磨高速研磨式分散機(jī)

型號(hào)	流量 L/H	轉(zhuǎn)速 rpm	線速度 m/s	功率 kw	入/出口連接 DN
CMSD 2000/4	300	14000	41	4	DN25/DN15
CMSD 2000/5	1000	10500	41	11	DN40/DN32
CMSD 2000/10	4000	7200	41	22	DN80/DN65
CMSD 2000/20	10000	4900	41	45	DN80/DN65
CMSD 2000/30	20000	2850	41	90	DN150/DN125
CMSD 2000/50	60000	1100	41	160	DN200/DN150

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原創(chuàng)作者：上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司

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沉淀法二氧化硅和氣相法二氧化硅（氣相法白炭黑）的主要區(qū)別

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