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CMD2000系列醫(yī)藥混懸液研磨分散機具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑微米0.2-2μm,可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。該設(shè)備可以適用于各種分散乳化工藝,也可用于生產(chǎn)包括對乳狀液片排，懸浮液和膠體的均質(zhì)混合寨腔。混懸液分散乳化機由定/轉(zhuǎn)子系統(tǒng)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加率寡，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速迫卢。
并且CMD2000系列各個環(huán)節(jié)都帶有夾套,處理過程中可對物料進行溫度控制;清洗方便，符合在線清洗和滅菌勇劣。采用膠體磨和分散機的一體化設(shè)計相對于膠體磨和分散機的串聯(lián)而更具優(yōu)勢靖避。串聯(lián)的話存在時間差，當(dāng)物料通過膠體磨之后比默，磨細(xì)后物料會出現(xiàn)抱團的現(xiàn)象幻捏，經(jīng)過分散機分散，效果不是很好命咐。而CMD超細(xì)研磨分散機的話,物料磨細(xì)后,瞬間又通過分散工作組篡九，進行分散,在物料還未抱團之，就進行了分散醋奠，一個瞬間作用,效果會好很多榛臼。
納米混懸液研磨分散機由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力窜司，透過膠體磨定沛善、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力塞祈、高頻振動等物理作用金刁，使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果议薪。
上海依肯IKN納米混懸液研磨分散機技術(shù)參數(shù)選型表：
| 研磨分散機型 號 | 流量L/H | 輸出轉(zhuǎn)速rpm | 線速度m/s | 馬達(dá)功率kw | 出口/入口連接 |
| CMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
| CMD2000/5 | 1,000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
| CMD2000/10 | 3,000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN50 |
| CMD2000/20 | 8,000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
| CMD2000/30 | 20,000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
| CMD2000/50 | 60,000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性尤蛮，同時流量可以被調(diào)節(jié)到大允許的10%。
1斯议、表中上限處理量是指介質(zhì)為"水”的測定數(shù)據(jù)产捞。
2、處理量取決于物料的粘度,稠度和終產(chǎn)品的要求哼御。
3坯临、如高溫焊唬，高壓，易燃易爆看靠，腐蝕性等工況,必須提供準(zhǔn)確的參數(shù)求晶，以便選型和定制。
4衷笋、本表的數(shù)據(jù)因技術(shù)改動，定制而不符,正確的參數(shù)以提供的實物為準(zhǔn)矩屁。
5辟宗、本系列機型具有短程送料能力，無自吸功能吝秕，須選用高位進料;物料粘度或固含高導(dǎo)致不能正常進料和輸送時泊脐，須選用壓力或輸送泵進料或送料,輸送泵的壓力和流量與被選機型相匹配。
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