管狀納米石墨晶體研磨分散機(jī)，納米碳管超高速分散機(jī)傀广，易團(tuán)聚碳素材料分散機(jī)颁独，超高速納米材料研磨分散機(jī)，適合研磨分散碳納米管的設(shè)備伪冰，液相剝離納米碳素材料分散設(shè)備誓酒，進(jìn)口高品質(zhì)分散機(jī)
納米碳管(CNT)，管狀的納米石墨晶體贮聂，是單層或多層石墨片圍繞中心軸按一定的螺旋角卷曲而成的無縫納米管靠柑，每層的C是SP2雜化，形成六邊形平面的圓柱面吓懈。碳納米管同樣也有天然產(chǎn)出的碳晶特性歼冰。我們國內(nèi)已經(jīng)生產(chǎn)出長(zhǎng)管，短管耻警，羥基化碳管隔嫡，羧基化碳管甸怕，高導(dǎo)電碳管，鍍鎳碳管畔勤，可溶性碳納米管蕾各。碳納米管可以做一些表面處理，經(jīng)過表面處理后庆揪，可以溶在乙醇和丙酮中式曲。鍍鎳碳納米管廣泛應(yīng)用在防屏蔽上。在碳納米管的產(chǎn)能上我國有以“南風(fēng)化工”為代表的開發(fā)應(yīng)用缸榛。
我們知道普通的機(jī)械攪拌與研磨只能使碳納米管團(tuán)聚體宏觀地與基體粉體混合吝羞，對(duì)碳納米管團(tuán)聚體自身的分散無能為力；球磨可以碾斷碳納米管内颗，分散碳納米管團(tuán)聚體钧排，但也會(huì)使碳納米管更加致密地粘結(jié)在一起，同時(shí)球磨本身是依靠設(shè)備內(nèi)的鋼球?qū)ξ锪线M(jìn)行沖擊破碎均澳，很容易損壞碳納米管特有的結(jié)構(gòu)恨溜，從而大程度影響了其性能；超聲波處理同樣有此特點(diǎn)找前，且超聲波的處理量小糟袁，效率慢；添加表面活性劑及酸堿洗滌的方法躺盛，可以使團(tuán)聚體表面的絮狀碳納米管從團(tuán)聚體上斷開项戴、分散，對(duì)于緊密纏結(jié)在一起的碳納米管效果不顯著槽惫。目大多數(shù)廠家都在使用我司高剪切研磨分散機(jī)進(jìn)行碳納米管漿料的處理周叮，研磨分散機(jī)是將膠體磨（研磨機(jī)）和分散機(jī)合二為一的設(shè)備。工作原理為定轉(zhuǎn)子高速運(yùn)轉(zhuǎn)產(chǎn)生強(qiáng)大的剪切力界斜、離心力仿耽，對(duì)物料進(jìn)行剪切、剝離各薇、分散氓仲、細(xì)化。所以特別適合碳納米管漿料的生產(chǎn)得糜，并且不容易破壞片層結(jié)構(gòu)敬扛。
IKN研磨分散機(jī)的技術(shù)參數(shù)： | 高速研磨分散機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
| 類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
| CMD 2000/4 | 700 | 14000 | 40 | 4 | DN25/DN15 |
| CMD 2000/5 | 5,000 | 10,500 | 40 | 11 | DN40/DN32 |
| CMD 2000/10 | 10,000 | 7,300 | 40 | 22 | DN50/DN50 |
| CMD 2000/20 | 30,000 | 4,900 | 40 | 45 | DN80/DN65 |
| CMD 2000/30 | 60,000 | 2,850 | 40 | 75 | DN150/DN125 |
| CMD 2000/50 | 100000 | 2,000 | 40 | 160 | DN200/DN150 |
| *流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%朝抖。 |
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)啥箭。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和zui終產(chǎn)品的要求治宣。
IKN研磨分散設(shè)備具有大的靈活性急侥，同時(shí)可以選擇六種不同的模塊頭砌滞，實(shí)現(xiàn)多種功能，如三乳化模塊坏怪，超高速模塊贝润，CM膠體模塊，CMO膠體模塊铝宵，批次粉液液混合模塊打掘，連續(xù)粉液混合模塊。如果需要的話鹏秋，也可以更換成膠體磨尊蚁。設(shè)備結(jié)構(gòu)為三道磨碎區(qū)，一為粗磨碎區(qū)侣夷，二為細(xì)磨碎區(qū)横朋，三為超微磨碎區(qū)，雖然都是三結(jié)構(gòu)百拓，但是他們的設(shè)計(jì)不同理念不同琴锭，形狀及齒列的結(jié)構(gòu)，溝槽是曲線衙传，上下深度不一决帖，上深下淺，配置有金屬碳化物或陶瓷涂層的錐型轉(zhuǎn)子/定子粪牲，具有良好的粉碎效果，耐磨及耐腐蝕止剖。
影響納米碳素材料研磨分散效果的因素：
1 磨頭的形式（臥式和立式）
2 磨頭頭的剪切速率
3 磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（見磨頭結(jié)構(gòu)）
4 物料在磨頭墻體的停留時(shí)間腺阳，乳化分散時(shí)間
5 循環(huán)次數(shù)
研磨速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。
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研磨速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知穿香，研磨速率取決于以下因素： -
- 磨頭的線速率
- 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距亭引。 （相對(duì)而言）
速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
IKN設(shè)備的作用力為F=23/0.7X1000=32857 S-1
F=40/0.7/X1000=57142 S-1
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更新時(shí)間：2024/12/16 9:24:19
標(biāo)簽：IKN德國實(shí)驗(yàn)室管狀納米石墨晶體研磨分散機(jī) 納米碳管超高速分散機(jī) 易團(tuán)聚碳素材料分散機(jī)
