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石墨烯微晶片分散到芳綸原液里嘀掸,顆粒越均勻越細越好芳綸DMAC液體紫岩,較粘稠DMAC有輕微腐蝕性,要求設(shè)備耐腐蝕
實驗溫度控制在50℃以下石墨烯和DMAC混合經(jīng)依肯CMSD系列研磨分散機循環(huán)分散粒徑可達14微米以下睬塌,循環(huán)時間延長泉蝌,粒徑越小揩晴;設(shè)備轉(zhuǎn)速調(diào)快勋陪,粒徑越小硫兰;使用剪切力更強的分散頭诅愚,粒徑越小。
石墨烯的分散難點
石墨烯分散有一部分企業(yè)采用超聲波或者高速分散機進行分散處理劫映,但是存在許多弊端违孝。超聲分散難以規(guī)模化泳赋,高速分散難以保證漿料的均勻度以及生產(chǎn)效率低雌桑。面對這個問題上海IKN研發(fā)出研磨式高剪切分散機,將膠體磨和分散機合二為一祖今,先研磨打開二團聚體校坑,然后瞬間進行分散均質(zhì),保證石墨烯漿料的細化和分散均勻千诬。尤其對于橡膠行業(yè)耍目,采用傳統(tǒng)間隙的分散設(shè)備無法均勻穩(wěn)定將石墨烯分散到橡膠基體中,必須采用管線式分散設(shè)備徐绑,以確保物料更充分的剪切制妄、分散。
隨著納米粉體分散的進一步發(fā)展泵三,上海IKN研發(fā)出新的分散設(shè)備-三分散機。結(jié)構(gòu)為三組分散頭定轉(zhuǎn)子衔掸,并且轉(zhuǎn)速高達14000rpm烫幕,定轉(zhuǎn)子經(jīng)密度高,分散效率快敞映,分散效果好较曼。
石墨烯微晶片分散到芳綸原液,剪切法石墨烯DMAC分散機
上海IKN技術(shù)振愿,獨特創(chuàng)意捷犹,融化理念弛饭。將IKN高剪切分散機進行進一步的改良,在原來ERS2000系列的基礎(chǔ)上萍歉,將單一的分散機分散頭模塊侣颂,改良成兩模塊,加入了一錐形磨頭枪孩。從而形成改良型的分散機憔晒,先研磨后分散(均質(zhì)、乳化)蔑舞,將物料的處理一步到底的完成拒担,我們將這種改良的分散機也稱為“研磨分散機”、“研磨均質(zhì)機”攻询、“研磨乳化機”从撼。表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求钧栖。石墨烯微晶片分散到芳綸原液低零,剪切法石墨烯DMAC分散機相對于膠體磨和分散機的串聯(lián)而言更具優(yōu)勢。
設(shè)備結(jié)構(gòu):先由具有精細度遞升的三層鋸齒突起和凹槽桐经。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離毁兆。在增強的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向阴挣。
第二由轉(zhuǎn)定子組成气堕。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面畔咧,特別要引起注意的是:在粗精度茎芭、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列誓沸,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣梅桩。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能拜隧。根據(jù)以往的慣例宿百,依據(jù)以的經(jīng)驗來選取相應(yīng)工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下洪添,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的垦页,因而它對制造出產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應(yīng)用干奢。
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ikn研磨分散機特點:
1垄惧、膠體磨+分散機二合一設(shè)計:粉碎室設(shè)有三道磨碎區(qū)刁愿,一為粗磨碎區(qū),二為細磨碎區(qū)赘艳,三層為超微磨碎區(qū)酌毡,通過調(diào)整定、轉(zhuǎn)子的間隙蕾管,能有效地達到所需的超微粉碎效果(也可循環(huán)加工)枷踏。
2、間隙可調(diào)掰曾,研磨縫隙調(diào)節(jié)可以改變適用于特定工藝
3旭蠕、設(shè)備運轉(zhuǎn)速度高達14000轉(zhuǎn),是國內(nèi)普通分散機的4-5倍旷坦,高效細化分散研磨物料
4掏熬、機身腔體采用三層夾套設(shè)計可以冷卻也可以加熱
5、采用德國雙端面機械密封秒梅,在保證有冷卻水的情況下旗芬,可以24小時連續(xù)不間斷工作
6、從實驗室設(shè)備平穩(wěn)過渡到中試型實驗以及后期的工業(yè)化放大實驗捆蜀,無需重新調(diào)整實驗數(shù)據(jù)疮丛,大程度降低了風險
CMSD 2000系列研磨分散機設(shè)備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN | ||
CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | ||
CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | ||
CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | ||
CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性辆它,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
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更新時間:2024/12/16 9:49:40