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產品展示
  • 產品名稱:IKN石墨烯改性硅基負材料研磨分散機
  • 產品型號:CMSD2000
  • 產品價格:129800
  • 產品產地:中國大陸
  • 訪問次數:163 發(fā)布時間:2022/10/31 9:26:08
  • 簡介內容:CMSD改進型膠體磨分散機 濕法粉碎機 線速度很高砌溺,剪切間隙非常小饲常,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈差凹,結果就是通常所說的濕磨躺同。定轉子被制成圓錐形唤崭,具有精細度遞升的三鋸齒凸起和凹槽颗味。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間的距離扯俱。在增強的流體湍流下书蚪,凹槽在每都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料迅栅,可以滿足不同行業(yè)的多種需求殊校。
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詳細內容

IKN石墨烯改性硅基負材料研磨分散機

IKN石墨烯改性硅基負材料研磨分散機,新型負材料研磨分散機读存,硅碳負材料研磨分散機为流,超高速納米研磨分散機,硅基材料復合碳納米管研磨分散機

   已經廣泛商業(yè)化的石墨負材料让簿。這類材料的特點是敬察,在充放電過程中,鋰離子從材料主體脫出和嵌入尔当,而材料基本結構不發(fā)生改變莲祸。因此,這類材料大多循環(huán)性能優(yōu)異椭迎。在新型碳負方面锐帜,未來的發(fā)展將主要集中在高功率石墨類負及非石墨類高容量碳負,以滿足未來動力和高能電池的需求畜号。新型碳材料:如碳納米管(CNT)石墨烯 理論上抹估,硅與鋰的插入化合物放電比容量可達到4200mAh/g,作為鋰離子電池負材料非常有吸引力。然而硅在充放電過程中存在較大的體積變化弄兜,從而導致材料的容量衰減較快药蜻,電池的循環(huán)性能很差。所以需要對Si進行改性替饿,提高硅基負材料的電化學性能语泽,主要的改進方法一般采用表面處理、多相摻雜视卢、形成硅化物等在硅基材料中踱卵,未來x有潛力的是硅基薄膜負和硅的復合材料,薄膜的厚度和材料的制備方法對硅基薄膜負的容量有著較大影響。只要增加薄膜的厚度就可提供足夠的活性材料惋砂,
   如何把納米材料和微米材料均相分散是客戶需要解決的問題妒挎?如何普通的分散機難以解決這個問題,需要行新工藝 西饵,新設備酝掩。
硅碳復合材料難點在于:1、 顆粒細化眷柔,粒徑分布范圍集中 2期虾、分散穩(wěn)定。

石墨烯改性硅基負材料研磨分散機特點:

1驯嘱、由于石墨烯的特性镶苞,石墨烯分散到液體介質當中,容易形成團聚鞠评。上海依肯研磨式分散機可以很好的解決這一問題茂蚓,“膠體磨+分散機”的獨特結構,一研磨模塊可以將團聚體研磨打開剃幌,第二分散模塊再瞬間對物料進行充分的分散煌贴,一步到位,效果好锥忿,效率高。

2怠肋、石墨烯是超細粉體敬鬓,所以需要強大的作用對其進行分散,傳統(tǒng)分散設備轉速一般不足3000rpm笙各,難以分散钉答。而IKN研磨分散機轉速高達21000rpm,剪切速率高杈抢,可以充分的將石墨烯分散到液體介質當中数尿。 

3、IKN研磨分散機采用管線式分體式結構惶楼,物料從進口進入設備工作腔中右蹦,進行處理,然后再從出口打出歼捐,物料可以得到充分剪切細化分散何陆,產品更均勻穩(wěn)定。另外可以實現在線式生產豹储,滿足大工業(yè)化生要求贷盲。

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    上海依肯CMSD2000系列研磨分散機,可以很好的解決顆粒或粉體漿料易團聚佳魔、分散細化不均勻等問題曙聂,其已廣泛應用于石墨烯、碳納米管吃引、活性炭筹陵、納米粉體、高分子材料镊尺、石墨復合材料朦佩,碳纖維等多種新材料的制備應用上。CMSD2000系列的膠體磨(錐體磨)分散頭的組合,可以先將物料(配入溶劑和分散劑)研磨細化,然后再經過分散頭,進行分散庐氮。這樣既可以細化又可以避免團聚的現象,為新材料行業(yè)提供了強有力的設備力量语稠。

   CMSD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品:第yi由具有經細度遞升的三鋸齒突起和凹槽。定子可以無線制的被調整到所需要的與轉子之間的距離弄砍。在增強的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向仙畦。第二由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要音婶。適用工藝:CMSD研磨分散機適用于高經細度的分散慨畸、均質、乳化衣式、混合寸士、破碎、速度快碴卧、效率高弱卡、效果好。詳詢上海依肯 徐工

CMSD2000系列石墨烯改性硅基負材料研磨分散機設備選型表:

型號

流量

L/H

轉速

rpm

 

線速度

m/s

 

功率

kw

入/出口連接

DN

CMSD 2000/4

300

14000

 

41

 

4

DN25/DN15

CMSD 2000/5

1000

10500

 

41

 

11

DN40/DN32

CMSD 2000/10

4000

7200

 

41

 

22

DN80/DN65

CMSD 2000/20

10000

4900

 

41

 

45

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

2850

 

41

 

90

DN150/DN125

CMSD 2000/50

60000

1100

 

41

 

160

DN200/DN150

表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據住册。

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性婶博,可以被調節(jié)到大允許量的10%

IKN石墨烯改性硅基負材料研磨分散機,新型負材料研磨分散機荧飞,硅碳負材料研磨分散機凡人,超高速納米研磨分散機,硅基材料復合碳納米管研磨分散機

更新時間:2024/12/16 9:49:40

標簽:IKN石墨烯改性硅基負材料研磨分散機   新型負材料研磨分散機   硅碳負材料研磨分散機   

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