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超微細分散液研磨分散機疙赠、色料濕法研磨分散機、有機化合物濕法研磨式分散機朦拖、金屬或金屬氧化物研磨分散機圃阳、醫(yī)藥用化合物分散式濕磨機
微粒化技術(shù)為許多產(chǎn)業(yè)生產(chǎn)制造的關(guān)鍵技術(shù)璧帝，其中以濕式研磨方法為相對經(jīng)濟的制程捍岳，并可應用在不同的材料上。濕式研磨為傳統(tǒng)的微敛橇ィ化分散方式锣夹，其微粒化的技術(shù)及產(chǎn)品具有很大的工業(yè)應用范圍理疙。舉例來說晕城，色料的分散液被廣泛的應用在油漆泞坦、油墨窖贤、涂顏料、工業(yè)染色等 許多域上。而由技術(shù)的改良赃梧，濕式研磨的微谅蓑穑化方式已可分散材料到納米尺度，例如使用不同設計的分散設備授嘀、不同種類結(jié)構(gòu)的分散助劑物咳。
超細粉體濕法研磨分散，能將顏料粒子研磨分散到更小蹄皱，以增加其色彩飽和度及穿透度览闰。同時使成本降低。
一般情況下超細粉體在液相中的分散包括三個階段：
1巷折、顆粒在液相中的潤濕過程压鉴；
2、團聚體在外力的作用下被打散锻拘，形成單個的小顆劣涂裕或很小的團聚體的過程；
3署拟、單個顆镣裨祝或小團聚體的分散穩(wěn)定，防止再次的團聚沉降推穷。
為了解決超細粉研磨分散的問題心包，上海依肯憑借多年來積累的豐富行業(yè)經(jīng)驗結(jié)合優(yōu)良技術(shù)研發(fā)平臺特別推出CMSD2000系列高速研磨分散機是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品，先錐形研磨頭具有精細度遞升的多鋸齒凸起和凹槽馒铃。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無限制調(diào)整間隙谴咸。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求骗露。整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子岭佳，好的表面處理和優(yōu)良的材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求萧锉。通過研磨分散機定轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力珊随、摩擦力、高頻振動等物理作用柿隙，使物料被有效的乳化叶洞、分散和粉碎，達到物料超細粉碎禀崖、分散衩辟、乳化的效果。
影響研磨分散結(jié)果的因素有以下幾點
1 研磨和分散頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）
2 研磨和分散頭的剪切速率 （越大封寞，效果越好）
3 研磨和分散頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒然评，中齒，細齒狈究，超細齒碗淌，約細齒效果越好）
4 物料在研磨分散墻體的停留時間，乳化分散時間（可以看作同等的電機抖锥，流量越小亿眠，效果越好）
5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好磅废，到設備的期限缕探，就不能再好）
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)/ g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知还蹲，剪切速率取決于以下因素：
– 轉(zhuǎn)子的線速率
– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距爹耗。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
CMSD2000系列超微細分散液研磨分散機參數(shù)選型表
| 型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN | ||
| CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | ||
| CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | ||
| CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | ||
| CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | ||
| CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | ||
| CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性谜喊，可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
更新時間：2024/12/16 9:49:54
標簽：超微細分散液研磨分散機 研磨分散機 分散機
