碳管超高速納米粉碎分散機(jī),管狀納米石墨晶體超微粉碎分散機(jī)榕酒,適合研磨分散碳納米管的粉碎分散設(shè)備胚膊,液相剝離納米碳素材料粉碎超微分散設(shè)備,進(jìn)口高品質(zhì)粉碎分散機(jī)
納米碳管(CNT)想鹰,管狀的納米石墨晶體紊婉,是單層或多層石墨片圍繞中心軸按一定的螺旋角卷曲而成的無縫納米管,每層的C是SP2雜化辑舷,形成六邊形平面的圓柱面喻犁。碳納米管同樣也有天然產(chǎn)出的碳晶特性。我們國內(nèi)已經(jīng)生產(chǎn)出長(zhǎng)管何缓,短管肢础,羥基化碳管,羧基化碳管碌廓,高導(dǎo)電碳管传轰,鍍鎳碳管,可溶性碳納米管谷婆。碳納米管可以做一些表面處理慨蛙,經(jīng)過表面處理后,可以溶在乙醇和丙酮中纪挎。鍍鎳碳納米管廣泛應(yīng)用在防屏蔽上期贫。在碳納米管的產(chǎn)能上我國有以“南風(fēng)化工”為代表的開發(fā)應(yīng)用。
我們知道普通的機(jī)械攪拌與研磨只能使碳納米管團(tuán)聚體宏觀地與基體粉體混合异袄,對(duì)碳納米管團(tuán)聚體自身的分散無能為力通砍;球磨可以碾斷碳納米管,分散碳納米管團(tuán)聚體烤蜕,但也會(huì)使碳納米管更加致密地粘結(jié)在一起封孙,同時(shí)球磨本身是依靠設(shè)備內(nèi)的鋼球?qū)ξ锪线M(jìn)行沖擊破碎垢揩,很容易損壞碳納米管特有的結(jié)構(gòu),從而大程度影響了其性能敛瓷;超聲波處理同樣有此特點(diǎn),且超聲波的處理量小斑匪,效率慢呐籽;添加表面活性劑及酸堿洗滌的方法,可以使團(tuán)聚體表面的絮狀碳納米管從團(tuán)聚體上斷開蚀瘸、分散狡蝶,對(duì)于緊密纏結(jié)在一起的碳納米管效果不顯著。目大多數(shù)廠家都在使用我司高剪切研磨分散機(jī)進(jìn)行碳納米管漿料的處理贮勃,研磨分散機(jī)是將膠體磨(粉碎機(jī))和分散機(jī)合二為一的設(shè)備贪惹。工作原理為定轉(zhuǎn)子高速運(yùn)轉(zhuǎn)產(chǎn)生強(qiáng)大的剪切力、離心力寂嘉,對(duì)物料進(jìn)行剪切奏瞬、剝離、分散泉孩、細(xì)化硼端。所以特別適合碳納米管漿料的生產(chǎn),并且不容易破壞片層結(jié)構(gòu)寓搬。
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IKN粉碎分散機(jī)的技術(shù)參數(shù): 高速研磨分散機(jī) | 流量 | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
CMD 2000/4 | 700 | 14000 | 40 | 4 | DN25/DN15 |
CMD 2000/5 | 5,000 | 10,500 | 40 | 11 | DN40/DN32 |
CMD 2000/10 | 10,000 | 7,300 | 40 | 22 | DN50/DN50 |
CMD 2000/20 | 30,000 | 4,900 | 40 | 45 | DN80/DN65 |
CMD 2000/30 | 60,000 | 2,850 | 40 | 75 | DN150/DN125 |
CMD 2000/50 | 100000 | 2,000 | 40 | 160 | DN200/DN150 |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%唾琼。 |
1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)兄春。
2 處理量取決于物料的粘度,稠度和終產(chǎn)品的要求父叙。
IKN粉碎分散設(shè)備具有大的靈活性神郊,同時(shí)可以選擇六種不同的模塊頭,實(shí)現(xiàn)多種功能趾唱,如三乳化模塊涌乳,超高速模塊,CM膠體模塊甜癞,CMO膠體模塊夕晓,批次粉液液混合模塊,連續(xù)粉液混合模塊悠咱。如果需要的話蒸辆,也可以更換成膠體磨征炼。設(shè)備結(jié)構(gòu)為三道磨碎區(qū),一為粗磨碎區(qū)躬贡,二為細(xì)磨碎區(qū)谆奥,三為超微磨碎區(qū),雖然都是三結(jié)構(gòu)拂玻,但是他們的設(shè)計(jì)不同理念不同酸些,形狀及齒列的結(jié)構(gòu),溝槽是曲線檐蚜,上下深度不一魄懂,上深下淺,配置有金屬碳化物或陶瓷涂層的錐型轉(zhuǎn)子/定子闯第,具有良好的粉碎效果市栗,耐磨及耐腐蝕。
影響碳管超高速納米粉碎分散效果的因素:
1 磨頭的形式(臥式和立式)
2 磨頭頭的剪切速率
3 磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(見磨頭結(jié)構(gòu))
4 物料在磨頭墻體的停留時(shí)間咳短,乳化分散時(shí)間
5 循環(huán)次數(shù)
研磨速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率填帽。
研磨速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知,研磨速率取決于以下因素: -
- 磨頭的線速率
- 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距咙好。 (相對(duì)而言)
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
IKN設(shè)備的作用力為F=23/0.7X1000=32857 S-1
F=40/0.7/X1000=57142 S-1
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更新時(shí)間:2024/12/16 9:49:40
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