實(shí)驗(yàn)室納米分散機(jī)，實(shí)驗(yàn)室高速納米研磨分散機(jī)诀紊，研發(fā)用納米研磨分散機(jī)谒出，德國(guó)實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī)，實(shí)驗(yàn)室高剪切研磨機(jī)
   CMD2000/4是一款應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室小試和中試的設(shè)備，集研磨笤喳、分散为居、均質(zhì)、乳化于一體杀狡，在多個(gè)域和行業(yè)有著突出的應(yīng)用蒙畴。如化工行業(yè)：白炭黑、環(huán)氧樹脂等超細(xì)研磨分散機(jī)呜象；食品行業(yè)：植物蛋白飲料忍抽、膠原蛋白提取等；都可以獲得良好的研磨分散細(xì)化的效果董朝。
   CMD2000/4納米實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī)鸠项，電機(jī)功率：2.2kw，轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm子姜，處理在0-200L祟绊，設(shè)備體積較小，可直接放置實(shí)驗(yàn)臺(tái)上操作哥捕。為實(shí)驗(yàn)室研發(fā)牧抽，模擬生產(chǎn)流程，為量產(chǎn)提供可靠的數(shù)據(jù)論證遥赚。該中試型型機(jī)器和大型量產(chǎn)機(jī)型配置相同扬舒，且分散頭的種類及相應(yīng)線速度也相同，中試過(guò)程中的工藝參數(shù)在量產(chǎn)化之后不要重新調(diào)整凫佛，而將機(jī)器型號(hào)升過(guò)程中的風(fēng)險(xiǎn)降到讲坎。


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  CMD2000/4納米實(shí)驗(yàn)室研磨分散機(jī)是由膠體磨+分散機(jī)一體化而成的設(shè)備毫炉，先研磨后分散瓮栗，效率高效果好。CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品瞄勾，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料费奸。我們將三高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三變跟為一进陡，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭愿阐，使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)四濒。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P换况，2G职辨，4M，6F戈二，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
  先由具有精細(xì)度遞升的三鋸齒突起和凹槽舒裤。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下觉吭，凹槽在每都可以改變方向腾供。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要鲜滩。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對(duì)輸送性的要求方面伴鳖，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度徙硅、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列榜聂，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)嗓蘑、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能须肆。
納米實(shí)驗(yàn)室中試型膠體磨的細(xì)化作用一般來(lái)說(shuō)要弱于均質(zhì)機(jī)，但它對(duì)物料的適應(yīng)能力較強(qiáng)（如高粘度桩皿、大顆粒）豌汇，所以在很多場(chǎng)合下，實(shí)驗(yàn)室中試型膠體磨用于均質(zhì)機(jī)的道或者用于高粘度的場(chǎng)合泄隔。在固態(tài)物質(zhì)較多時(shí)也常常使用膠體磨進(jìn)行細(xì)化拒贱。物料粘度或固含量高導(dǎo)致不能正常進(jìn)料和輸送時(shí)，須選用壓力或輸送泵進(jìn)料或送料佛嬉，輸送泵的壓力和流量與被選機(jī)型相匹配逻澳。

  CM2000/4納米實(shí)驗(yàn)室中試型膠體磨是門為膠體溶液生產(chǎn)所設(shè)計(jì)，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產(chǎn)巷燥。 CM2000/4實(shí)驗(yàn)室中試型膠體磨的線速度很高赡盘，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候缰揪，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨葱淳。 CM2000/4實(shí)驗(yàn)室中試型膠體磨的定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形钝腺，具有精細(xì)度遞升的三鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離赞厕。在增強(qiáng)的流體湍流下艳狐，凹槽在每都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料皿桑，可以滿足不同行業(yè)的多種要求毫目。

  公司另外一項(xiàng)獨(dú)特的創(chuàng)新蔬啡，就是錐體磨CMO2000系列，它的設(shè)計(jì)使其功能在原有的CM2000的基礎(chǔ)上又進(jìn)了一步镀虐。由于這項(xiàng)創(chuàng)新箱蟆，CMO2000能夠濕磨和研磨，產(chǎn)生的顆粒粒徑甚至比膠體磨CM2000還小刮便。研磨間隙可以無(wú)調(diào)節(jié)空猜，從而可以得到精確的研磨參數(shù)。研磨頭的表面涂上了一層其堅(jiān)硬的硬質(zhì)材料恨旱，從而使其表面具有非常粗糙的紋理辈毯。這種硬質(zhì)材料是由碳化物、陶瓷等高質(zhì)量物質(zhì)構(gòu)成搜贤，并且具有不同的粒徑谆沃。研磨頭處形成了一個(gè)具有強(qiáng)烈剪切的區(qū)域，可以輸送高粘度和低粘度物料仪芒，但它的分散效果和后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理但它的分散效果和后的粒徑大小都比膠體磨CM的效果更加理想唁影。

它們的主要區(qū)別：
  CM2000/4（LP系列）為實(shí)驗(yàn)室膠體磨的技術(shù)參數(shù)：功率1.5-2.2KW,轉(zhuǎn)速0-14000rpm,線速度 0-40m/s,電壓380V,機(jī)器產(chǎn)量為 0– 700 升/小時(shí)（水），重量35KG,尺寸 (長(zhǎng)寬高）(450250350)MM桌硫，LP使用軸封（PTFE 環(huán)）夭咬，在正常的情況下，一般軸封可以使用3000-4000次铆隘。LP不能24小時(shí)連續(xù)使用卓舵，一般多可以使用連續(xù)半個(gè)小時(shí)，這要依據(jù)料液的溫度和轉(zhuǎn)速而定膀钠。LP也可以通過(guò)變換模塊掏湾，可以實(shí)現(xiàn)多功能多用途。是中試生產(chǎn)的選擇肿嘲。
  CM2000/4（PP系列）為中試型膠體磨的技術(shù)參數(shù)：功率2.2-4 KW,轉(zhuǎn)速0-14000rpm,線速度 0-40m/s融击，電壓380V,機(jī)器產(chǎn)量為 0– 700 升/小時(shí)（水），重量45KG, 尺寸 (長(zhǎng)寬高）((450250350)MM雳窟，PP使用雙機(jī)械密封尊浪，可24小時(shí)不停機(jī)連續(xù)生產(chǎn)，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻封救。通過(guò)變換模塊拇涤，可以實(shí)現(xiàn)多功能多用途。機(jī)械密封和機(jī)械設(shè)計(jì)符合3A健康標(biāo)準(zhǔn)誉结，是中試和小批量生產(chǎn)的選擇鹅士。

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更新時(shí)間：2024/12/16 9:49:40

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