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近年來發(fā)展起來的高分子導熱材料總體可以分為兩類非固化的導熱膏和固化的導熱膠/片。其中趟据,導熱膏應用工藝簡單券犁,操作快捷方便术健,涂裝效率高汹碱,容易跟上電子行業(yè)生產節(jié)拍,應用計較廣泛荞估。但是咳促,目市場上的導熱膏有效壽命普遍較短稚新,在電子器件反復升溫降溫過程中小分子逐漸揮發(fā)滲出,除了污染器件外跪腹,導熱膏本身因為成分比例變化而逐漸干裂粉化脫落褂删,導熱效果降低,嚴重影響電子產品的使用性能和壽命冲茸。乙烯基有機硅樹脂屯阀、固化劑、消泡劑轴术、引發(fā)劑难衰、稀釋劑、催化劑
傳統(tǒng)的高速分散機(轉速2930轉)也即是高速攪拌機逗栽,是將攪拌機插入罐中對物料進行高速攪拌盖袭,由于這只是一個局部的攪拌,剪切中作用力弱彼宠、對物料的剪切頻率少鳄虱,因此常會抱團、分層凭峡、分散不均拙已,影響產品品質及性能,而上海依肯高速納米分散機是將物料進行一個全局充分的混合分散剪切摧冀,物料從儲料罐中進入到工作腔體進行360度高頻次的剪切悠栓、分散、撞擊按价、摩擦惭适,因此物料更細、分散穩(wěn)定性更好楼镐。當然還有設備加工經度癞志、物料粘稠度、物料原始粒徑框产、溫度凄杯、是否有添加劑等眾多影響因素,更多詳情請接洽上海依肯 徐工
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上海IKN技術,獨特創(chuàng)意,融化理念隔崎。將IKN高剪切膠體磨進行進一步的改良今艺,在原來CM2000系列的基礎上,將單一的膠體磨磨頭模塊爵卒,改良成兩模塊虚缎,加入了一分散盤(均質盤、乳化盤)钓株。從而形成改良型的膠體磨实牡,先研磨后分散(均質、乳化)轴合,將物料的處理一步到底的完成铲掐,我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機”、“研磨均質機”值桩、“研磨乳化機”摆霉。表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求奔坟。
高分子導熱材料高剪切分散機是一款集研磨和分散一體化的設備携栋,是一項新的技術革新。研磨分散機是將膠體磨(錐體磨)+高剪切分散機一體化的設備咳秉,先研磨后分散婉支,物料研磨后又瞬間進行分散,避免了物料的二次團聚澜建。
IKN研磨分散機設備結構:
第yi由具有精細度遞升的三層鋸齒突起和凹槽向挖。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下炕舵,凹槽在每都可以改變方向何之。
第二由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要咽筋。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面溶推,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度奸攻、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉子齒的排列蒜危,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數睹耐、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能辐赞。根據以往的慣例,依據以往的經驗選取相應的工作頭來滿 足一個具體的應用硝训。在大多數情況下响委,機器的構造是和具體應用相匹配的新思,因而它對制造出產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用晃酒。
CMSD 2000系列研磨分散機設備選型表:
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN | ||
CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | ||
CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | ||
CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | ||
CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性窄绒,可以被調節(jié)到大允許量的10%
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更新時間:2024/12/16 9:49:40