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當(dāng)前位置:上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司>產(chǎn)品中心>高速濕法研磨機(jī) > 高剪切研磨分散機(jī) > 硅碳負(fù)材料研磨分散設(shè)備你了解嗎胳泉?超高速納米研磨分散機(jī),硅基材料復(fù)合碳納米管研磨分散機(jī)
已經(jīng)廣泛商業(yè)化的石墨負(fù)材料。這類材料的特點(diǎn)是蘸鲸,在充放電過程中矿筝,鋰離子從材料主體脫出和嵌入,而材料基本結(jié)構(gòu)不發(fā)生改變棚贾。因此窖维,這類材料大多循環(huán)性能優(yōu)異。在新型碳負(fù)方面妙痹,未來的發(fā)展將主要集中在高功率石墨類負(fù)及非石墨類高容量碳負(fù)铸史,以滿足未來動(dòng)力和高能電池的需求。新型碳材料:如碳納米管(CNT)石墨烯 理論上怯伊,硅與鋰的插入化合物放電比容量可達(dá)到4200mAh/g,作為鋰離子電池負(fù)材料非常有吸引力琳轿。然而硅在充放電過程中存在較大的體積變化,從而導(dǎo)致材料的容量衰減較快耿芹,電池的循環(huán)性能很差崭篡。所以需要對(duì)Si進(jìn)行改性,提高硅基負(fù)材料的電化學(xué)性能吧秕,主要的改進(jìn)方法一般采用表面處理琉闪、多相摻雜、形成硅化物等在硅基材料中砸彬,未來x有潛力的是硅基薄膜負(fù)和硅的復(fù)合材料颠毙,薄膜的厚度和材料的制備方法對(duì)硅基薄膜負(fù)的容量有著較大影響斯入。只要增加薄膜的厚度就可提供足夠的活性材料,
如何把納米材料和微米材料均相分散是客戶需要解決的問題蛀蜜?如何普通的分散機(jī)難以解決這個(gè)問題刻两,需要行新工藝 ,新設(shè)備滴某。硅碳復(fù)合材料難點(diǎn)在于:1磅摹、 顆粒細(xì)化,粒徑分布范圍集中 2霎奢、分散穩(wěn)定偏瓤。
石墨烯改性硅基負(fù)材料研磨分散機(jī)特點(diǎn):
1、由于石墨烯的特性椰憋,石墨烯分散到液體介質(zhì)當(dāng)中厅克,容易形成團(tuán)聚。上海依肯研磨式分散機(jī)可以很好的解決這一問題橙依,“膠體磨+分散機(jī)”的獨(dú)特結(jié)構(gòu)证舟,一研磨模塊可以將團(tuán)聚體研磨打開,第二分散模塊再瞬間對(duì)物料進(jìn)行充分的分散窗骑,一步到位女责,效果好,效率高创译。
2抵知、石墨烯是超細(xì)粉體,所以需要強(qiáng)大的作用對(duì)其進(jìn)行分散软族,傳統(tǒng)分散設(shè)備轉(zhuǎn)速一般不足3000rpm刷喜,難以分散。而IKN研磨分散機(jī)轉(zhuǎn)速高達(dá)21000rpm立砸,剪切速率高掖疮,可以充分的將石墨烯分散到液體介質(zhì)當(dāng)中。
3颗祝、IKN研磨分散機(jī)采用管線式分體式結(jié)構(gòu)浊闪,物料從進(jìn)口進(jìn)入設(shè)備工作腔中,進(jìn)行處理螺戳,然后再從出口打出搁宾,物料可以得到充分剪切細(xì)化分散,產(chǎn)品更均勻穩(wěn)定倔幼。另外可以實(shí)現(xiàn)在線式生產(chǎn)盖腿,滿足大工業(yè)化生要求。
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上海依肯CMSD2000系列研磨分散機(jī),可以很好的解決顆晾醪耍或粉體漿料易團(tuán)聚、分散細(xì)化不均勻等問題蹄梢,其已廣泛應(yīng)用于石墨烯疙筹、碳納米管、活性炭禁炒、納米粉體而咆、高分子材料、石墨復(fù)合材料幕袱,碳纖維等多種新材料的制備應(yīng)用上暴备。CMSD2000系列的膠體磨(錐體磨)分散頭的組合,可以先將物料(配入溶劑和分散劑)研磨細(xì)化,然后再經(jīng)過分散頭,進(jìn)行分散。這樣既可以細(xì)化又可以避免團(tuán)聚的現(xiàn)象,為新材料行業(yè)提供了強(qiáng)有力的設(shè)備力量们豌。
CMSD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品:第yi由具有經(jīng)細(xì)度遞升的三鋸齒突起和凹槽涯捻。定子可以無線制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向望迎。第二由轉(zhuǎn)定子組成障癌。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。適用工藝:CMSD研磨分散機(jī)適用于高經(jīng)細(xì)度的分散辩尊、均質(zhì)涛浙、乳化、混合摄欲、破碎轿亮、速度快、效率高胸墙、效果好哀托。詳詢上海依肯 徐工
CMSD2000系列石墨烯改性硅基負(fù)材料研磨分散機(jī)設(shè)備選型表:
型號(hào) | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN | ||
CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | ||
CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | ||
CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | ||
CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性劳秋,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%.
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更新時(shí)間:2024/12/16 9:49:40
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