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已經(jīng)廣泛商業(yè)化的石墨負材料校仑。這類材料的特點是忠售,在充放電過程中,鋰離子從材料主體脫出和嵌入迄沫,而材料基本結構不發(fā)生改變稻扬。因此,這類材料大多循環(huán)性能優(yōu)異羊瘩。在新型碳負方面泰佳,未來的發(fā)展將主要集中在高功率石墨類負及非石墨類高容量碳負,以滿足未來動力和高能電池的需求尘吗。新型碳材料:如碳納米管(CNT)石墨烯 理論上逝她,硅與鋰的插入化合物放電比容量可達到4200mAh/g,作為鋰離子電池負材料非常有吸引力。然而硅在充放電過程中存在較大的體積變化睬捶,從而導致材料的容量衰減較快黔宛,電池的循環(huán)性能很差。所以需要對Si進行改性侧戴,提高硅基負材料的電化學性能宁昭,主要的改進方法一般采用表面處理、多相摻雜酗宋、形成硅化物等在硅基材料中积仗,未來x有潛力的是硅基薄膜負和硅的復合材料,薄膜的厚度和材料的制備方法對硅基薄膜負的容量有著較大影響蜕猫。只要增加薄膜的厚度就可提供足夠的活性材料寂曹,
如何把納米材料和微米材料均相分散是客戶需要解決的問題?如何普通的分散機難以解決這個問題回右,需要行新工藝 隆圆,新設備。硅碳復合材料難點在于:1翔烁、 顆粒細化渺氧,粒徑分布范圍集中 2、分散穩(wěn)定蹬屹。
石墨烯改性硅基負材料研磨分散機特點:
1侣背、由于石墨烯的特性,石墨烯分散到液體介質當中慨默,容易形成團聚贩耐。上海依肯研磨式分散機可以很好的解決這一問題,“膠體磨+分散機”的獨特結構厦取,一研磨模塊可以將團聚體研磨打開潮太,第二分散模塊再瞬間對物料進行充分的分散,一步到位虾攻,效果好铡买,效率高。
2台谢、石墨烯是超細粉體寻狂,所以需要強大的作用對其進行分散,傳統(tǒng)分散設備轉速一般不足3000rpm朋沮,難以分散蛇券。而IKN研磨分散機轉速高達21000rpm,剪切速率高樊拓,可以充分的將石墨烯分散到液體介質當中纠亚。
3、IKN研磨分散機采用管線式分體式結構筋夏,物料從進口進入設備工作腔中蒂胞,進行處理,然后再從出口打出条篷,物料可以得到充分剪切細化分散骗随,產(chǎn)品更均勻穩(wěn)定蛤织。另外可以實現(xiàn)在線式生產(chǎn),滿足大工業(yè)化生要求鸿染。
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上海依肯CMSD2000系列研磨分散機,可以很好的解決顆粒或粉體漿料易團聚蚕冬、分散細化不均勻等問題免猾,其已廣泛應用于石墨烯、碳納米管囤热、活性炭猎提、納米粉體、高分子材料赢乓、石墨復合材料忧侧,碳纖維等多種新材料的制備應用上。CMSD2000系列的膠體磨(錐體磨)分散頭的組合,可以先將物料(配入溶劑和分散劑)研磨細化,然后再經(jīng)過分散頭,進行分散牌芋。這樣既可以細化又可以避免團聚的現(xiàn)象,為新材料行業(yè)提供了強有力的設備力量蚓炬。
CMSD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品:第yi由具有經(jīng)細度遞升的三鋸齒突起和凹槽。定子可以無線制的被調整到所需要的與轉子之間的距離躺屁。在增強的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向肯夏。第二由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要犀暑。適用工藝:CMSD研磨分散機適用于高經(jīng)細度的分散驯击、均質、乳化耐亏、混合徊都、破碎、速度快广辰、效率高暇矫、效果好。詳詢上海依肯 徐工
CMSD2000系列石墨烯改性硅基負材料研磨分散機設備選型表:
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN | ||
CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | ||
CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | ||
CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | ||
CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質為“水”的測定數(shù)據(jù)择吊。
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性李根,可以被調節(jié)到大允許量的10%.
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更新時間:2024/12/16 9:49:40