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產(chǎn)品展示
  • 產(chǎn)品名稱:低溫固化感光導電漿料高速研磨分散機
  • 產(chǎn)品型號:CMSD2000
  • 產(chǎn)品價格:0
  • 產(chǎn)品產(chǎn)地:中國大陸
  • 訪問次數(shù):162 發(fā)布時間:2022/11/27 22:54:45
  • 簡介內(nèi)容:CMSD改進型膠體磨分散機 濕法粉碎機 線速度很高世囊,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候廓脆,形成的摩擦力就比較劇烈蚁孔,結(jié)果就是通常所說的濕磨袱讹。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形矩屁,具有精細度遞升的三鋸齒凸起和凹槽纪隙。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離遍膜。在增強的流體湍流下碗硬,凹槽在每都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料瓢颅,可以滿足不同行業(yè)的多種需求
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詳細內(nèi)容

低溫固化感光導電漿料高速研磨分散機

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   導電漿料由于其廣泛的適用性而大量用于電子產(chǎn)品導電線路的制作,尤其是在薄膜類軟材質(zhì)上冀偶。隨著智能化電子產(chǎn)品應用范圍越來越廣醒第,對導電線路的精細度要求越來越高。傳統(tǒng)的導電漿料通過絲網(wǎng)印刷的方式可獲得線寬> 80 μ m的導電線路进鸠,但無法滿足更高精細度的線路制作要求稠曼。
   低溫固化感光導電漿料原料制成:感光型樹脂聚合物,光聚合引發(fā)劑客年,導電顆粒填充劑霞幅,深度固化交聯(lián)劑等;
可以通過分散機量瓜、三輥機司恳、球磨機、捏合機绍傲、行星攪拌機等設備進行物料的混合分散扔傅。

   IKN研磨分散機綜合了均質(zhì)機、球磨機烫饼、三輥機铅鲤、剪切機、攪拌機等機械的多種性能枫弟,具有優(yōu)越的超微粉碎邢享、分散乳化、均質(zhì)淡诗、混合等功效骇塘。物料通過加工后,粒度達0.2~50微米韩容,均質(zhì)度達90%以上款违,是超微粒加工的理想設備。該機適用于制藥群凶、食品插爹、化工及其他行業(yè)的濕物料超微粉碎,能起到各種種半濕體及乳狀液物質(zhì)的粉碎请梢、乳化赠尾、均質(zhì)和混合,主要技術(shù)指標已達到國外同類產(chǎn)品的水平毅弧。

從設備角度分析气嫁,影響分散結(jié)果的因素有以下幾點:

1 分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)

2 分散頭的剪切速率  (越大,效果越好)

3 分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒够坐,中齒寸宵,細齒崖面,超細齒,約細齒效果越好)

4 物料在分散腔體的停留時間梯影,分散時間(可以看作同等的電機巫员,流量越小,效果越好)

5 循環(huán)次數(shù)(越多甲棍,效果越好疏遏,到設備的期限,就不能再好)

   低溫固化感光導電漿料研磨分散機  納米是IKN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品救军,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料财异。我們將三高剪切均質(zhì)分散機進行改裝,我們將三變跟為一唱遭,然后在分散頭上面加配了膠體磨磨頭戳寸,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)拷泽。磨頭下面的膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P疫鹊,2G,4M司致,6F拆吆,8SF等五種分散頭供客戶選擇)。

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Ikn研磨分散機設備結(jié)構(gòu)
   第yi由具有精細度遞升的三層鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離拄轻。在增強的流體湍流下颅围,凹槽在每都可以改變方向。
第二由轉(zhuǎn)定子組成恨搓。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要院促。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度斧抱、中等精度常拓、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣夺姑。狹槽數(shù)墩邀、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例盏浙,依據(jù)以的經(jīng)驗選取相應的工作頭來滿 足一個具體的應用眉睹。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應用相匹配的废膘,因而它對制造出產(chǎn)品是很重要竹海。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應用。

CMSD2000系列研磨分散機設備選型表:

型號

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm


線速度

m/s


功率

kw

入/出口連接

DN

CMSD 2000/4

300

14000


41


4

DN25/DN15

CMSD 2000/5

1000

10500


41


11

DN40/DN32

CMSD 2000/10

4000

7200


41


22

DN80/DN65

CMSD 2000/20

10000

4900


41


45

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

2850


41


90

DN150/DN125

CMSD 2000/50

60000

1100


41


160

DN200/DN150

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)丐黄。

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性斋配,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%

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更新時間:2024/12/16 9:49:40

標簽:低溫固化感光導電漿料高速研磨分散機   高速納米研磨分散機   特種導電漿料高速分散機   

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