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產(chǎn)品展示
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  • 產(chǎn)品型號(hào):CMSD2000
  • 產(chǎn)品價(jià)格:0
  • 產(chǎn)品產(chǎn)地:中國(guó)大陸
  • 訪問次數(shù):171 發(fā)布時(shí)間:2022/11/30 23:34:37
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      原料藥的研磨均質(zhì)預(yù)處理一般是固體制劑工藝的第1步操作力九,它會(huì)直接影響原料的粒度分布,進(jìn)而影響產(chǎn)品的質(zhì)量邑闺,可能影響包括:物料混合的均勻性跌前、顆粒的含量均勻度、壓片或干法制粒時(shí)的壓縮成型性陡舅、以及藥物的溶出行為等抵乓。所以一般會(huì)把原料的粒徑控制列為關(guān)鍵工藝參數(shù),而目標(biāo)粒徑的選擇同原料的溶解性蹭沛、研磨均質(zhì)設(shè)備及參數(shù)的相關(guān)性較大臂寝,例如如果是像BCSⅠ類高溶解性的藥物,它是以藥物與輔料混合的混合均勻性為主要考察指標(biāo)摊灭;而像BCSⅡ/Ⅳ類低溶解性的藥物咆贬,則主要以通過粉碎工藝減小粒徑來(lái)提高藥物的溶解度為主要目的,那無(wú)論是哪種溶解性的藥物帚呼,終還是要通過制劑工藝掏缎、體外溶出和體內(nèi)試驗(yàn)來(lái)確定原料粒度的目標(biāo)粒徑范圍。

      濕法研磨均質(zhì) 濕法研磨均質(zhì)的介質(zhì)一般為水或非水溶劑煤杀,將原料分散在液體中眷蜈,泵送通過研磨均質(zhì)室。原料在液體中移動(dòng)并在研磨介質(zhì)中被壓碎沈自。濕法研磨均質(zhì)使用再循環(huán)過程酌儒,將液體反復(fù)暴露于研磨均質(zhì)介質(zhì),直到達(dá)到所需的粒度枯途。濕法粉碎區(qū)別于干法粉碎明顯的優(yōu)勢(shì)是它可以克服粉碎過程中粉塵飛揚(yáng)的問題忌怎,并可以通過淘析籍滴、沉降或離心分離等方法分離出所需的物料。

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    所以上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司根據(jù)客戶的需求和結(jié)合以往許多成功案例的基礎(chǔ)上特別推出高速納米研磨均質(zhì)機(jī) CMSD2000系列:
CMSD2000系列研磨均質(zhì)機(jī)的結(jié)構(gòu):研磨式均質(zhì)機(jī)是由錐體磨,均質(zhì)機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品勋功。第yi由具有經(jīng)細(xì)度遞升的三鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)線制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離库说。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向狂鞋。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散均質(zhì)頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要璃弄。

       適用工藝:CMSD研磨均質(zhì)機(jī)適用于高經(jīng)細(xì)度的分散要销、均質(zhì)、乳化夏块、混合、破碎纤掸、速度快脐供、效率高、效果好借跪。在納米研磨分散均質(zhì)機(jī)運(yùn)作的過程中政己,轉(zhuǎn)軸以及轉(zhuǎn)軸上各個(gè)零部件都是處于高速運(yùn)轉(zhuǎn)的狀態(tài),研磨定轉(zhuǎn)子部分會(huì)帶動(dòng)研磨介質(zhì)與物料產(chǎn)生強(qiáng)烈的碰擦與撞擊掏愁,以起到磨細(xì)物料和分散均質(zhì)團(tuán)聚體的作用歇由。同時(shí),物料經(jīng)過研磨后果港,通過泵葉的巨大吸力沦泌,使其被吸出研磨籃,然后再由分散盤對(duì)其進(jìn)行分散均質(zhì)處理辛掠,這樣就可以在很短的時(shí)間內(nèi)獲得理想的研磨均質(zhì)效果谢谦。

       ikn研磨均質(zhì)機(jī)為通用研磨,混合萝衩、分散回挽、均質(zhì)的設(shè)備,經(jīng)過研磨猩谊,混合千劈、分散、均質(zhì)后的物料能夠保持在容器內(nèi)均勻分散牌捷,終保持物品的質(zhì)量一致墙牌,不會(huì)因?yàn)槲锪戏植疾痪鶆蛟斐僧a(chǎn)品質(zhì)量問題涡驮。可以在360度進(jìn)行回轉(zhuǎn)憔古,采用無(wú)變速遮怜,ikn研磨分散均質(zhì)機(jī)的外表美觀,升降系統(tǒng)平穩(wěn)靈活鸿市,而且操作起來(lái)十分方便锯梁,結(jié)構(gòu)也非常的牢固、耐用焰情。分散機(jī)的品種十分齊全陌凳,可以滿足用戶各種不同的生產(chǎn)需求。液壓升降型特別適用于大功率的研磨和細(xì)化内舟,升降起來(lái)平穩(wěn)合敦,結(jié)構(gòu)十分牢固,并且使用壽用長(zhǎng)验游。研磨分散均質(zhì)機(jī)能夠根據(jù)工藝的要求充岛,選擇防爆型或者普通型。均質(zhì)機(jī)架體采用碳鋼刷的色漆耕蝉,也可定制成不銹鋼表面的拋光崔梗。

CMSD 2000系列研磨均質(zhì)機(jī)設(shè)備選型表

型號(hào)

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm

 

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

CMSD 2000/4

300

14000

 

41

4

DN25/DN15

CMSD 2000/5

1000

10500

 

41

11

DN40/DN32

CMSD 2000/10

4000

7200

 

41

22

DN80/DN65

CMSD 2000/20

10000

4900

 

41

45

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

2850

 

41

90

DN150/DN125

CMSD 2000/50

60000

1100

 

41

160

DN200/DN150

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性垒在,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%

 

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更新時(shí)間:2024/12/16 9:49:40

標(biāo)簽:原料藥公司研發(fā)生產(chǎn)用高速研磨均質(zhì)機(jī)   原料藥實(shí)驗(yàn)室用研磨均質(zhì)機(jī)   生物制藥公司研發(fā)用膠體磨      原料藥在線式膠體磨   原料藥濕磨機(jī)   

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