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      原料的粉碎預(yù)處理一般是固體制劑工藝的第1步操作缸浦，它會直接影響原料的粒度分布，進而影響產(chǎn)品的質(zhì)量氮兵，可能影響包括：物料混合的均勻性裂逐、顆粒的含量均勻度、壓片或干法制粒時的壓縮成型性泣栈、以及藥物的溶出行為等卜高。所以一般會把原料的粒徑控制列為關(guān)鍵工藝參數(shù)，而目標粒徑的選擇同原料的溶解性南片、粉碎設(shè)備及參數(shù)的相關(guān)性較大掺涛，例如如果是像BCSⅠ類高溶解性的藥物，它是以藥物與輔料混合的混合均勻性為主要考察指標疼进；而像BCSⅡ/Ⅳ類低溶解性的藥物薪缆，則主要以通過粉碎工藝減小粒徑來提高藥物的溶解度為主要目的，那無論是哪種溶解性的藥物伞广，終還是要通過制劑工藝拣帽、體外溶出和體內(nèi)試驗來確定原料粒度的目標粒徑范圍。制劑人員一般常用的粉碎設(shè)備可能包括：整粒機嚼锄、球磨機诞外、萬能粉碎機、錘式粉碎機灾票、氣流粉碎機等，不同的粉碎設(shè)備粉碎原理以及終得到的粒徑范圍有所差異茫虽，我們有必要對不同粉碎工藝的粉碎原理及粉碎粉體的特性分析進行相應(yīng)了解刊苍，從而可以依據(jù)原料的粉體學(xué)性質(zhì)選擇適宜的粉碎工藝既们。按介質(zhì)種類粉碎一般可以分為濕法粉碎及干法粉碎，我們具體要選擇哪一種粉碎方式還是取決于我們所需要的目標粒徑范圍正什。一般來說啥纸，通過干法粉碎可以將原料粒徑減少至微米別，它也是制劑人員常選擇的粉碎方式婴氮；但如果目標是小尺寸斯棒，例如如果制備納米晶制劑，那更多可以選擇濕法粉碎主经，因為該粉碎工藝可以通過循環(huán)研磨等方式可以將粒徑減少至納米別荣暮。

      1. 濕法粉碎濕法粉碎的介質(zhì)一般為水或非水溶劑，將原料分散在液體中罩驻，泵送通過研磨室穗酥。原料在液體中移動并在研磨介質(zhì)中被壓碎。濕法研磨使用再循環(huán)過程惠遏，將液體反復(fù)暴露于研磨介質(zhì)砾跃，直到達到所需的粒度。濕法粉碎區(qū)別于干法粉碎明顯的優(yōu)勢是它可以克服粉碎過程中粉塵飛揚的問題节吮，并可以通過淘析抽高、沉降或離心分離等方法分離出所需的物料。

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      所以上海依肯機械設(shè)備有限公司根據(jù)客戶的需求和結(jié)合以往許多成功案例的基礎(chǔ)上特別退出高速納米研磨機 CMSD2000系列： CMSD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。第yi由具有經(jīng)細度遞升的三鋸齒突起和凹槽志鞍。定子可以無線制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離瞭亮。在增強的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向。第二由轉(zhuǎn)定子組成固棚。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要统翩。
       適用工藝：CMSD研磨分散機適用于高經(jīng)細度的分散、均質(zhì)此洲、乳化厂汗、混合、破碎呜师、速度快娶桦、效率高、效果好。在納米研磨分散機運作的過程中衷畦，轉(zhuǎn)軸以及轉(zhuǎn)軸上各個零部件都是處于高速運轉(zhuǎn)的狀態(tài)栗涂，研磨定轉(zhuǎn)子部分會帶動研磨介質(zhì)與物料產(chǎn)生強烈的碰擦與撞擊，以起到磨細物料和分散聚體的作用祈争。同時斤程，物料經(jīng)過研磨后，通過泵葉的巨大吸力菩混，使其被吸出研磨籃忿墅，然后再由分散盤對其進行分散處理，這樣就可以在很短的時間內(nèi)獲得理想的研磨效果沮峡。

     ikn研磨分散機為通用混合疚脐、分散、研磨的設(shè)備帖烘，經(jīng)過混合亮曹、分散、研磨后的物料能夠保持在容器內(nèi)均勻分散秘症，終保持物品的質(zhì)量一致照卦，不會因為物料分布不均勻造成產(chǎn)品質(zhì)量問題∠缒。可以在360度進行回轉(zhuǎn)役耕，采用無變速，ikn研磨分散機的外表美觀聪廉，升降系統(tǒng)平穩(wěn)靈活瞬痘，而且操作起來十分方便，結(jié)構(gòu)也非常的牢固板熊、耐用框全。分散機的品種十分齊全，可以滿足用戶各種不同的生產(chǎn)需求干签。液壓升降型特別適用于大功率的研磨和細化津辩，升降起來平穩(wěn)，結(jié)構(gòu)十分牢固容劳，并且使用壽用長喘沿。研磨分散機能夠根據(jù)工藝的要求，選擇防爆型或者普通型竭贩。分散機架體采用碳鋼刷的色漆蚜印，也可定制成不銹鋼表面的拋光。
CMSD 2000系列新型硅碳鋰電漿料研磨分散機設(shè)備選型表

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)留量。

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性窄赋，可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%

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更新時間：2024/12/16 9:49:40

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