導(dǎo)電導(dǎo)熱碳管漿料高剪切研磨分散機(jī)偎肃，碳管導(dǎo)電漿料研磨分散機(jī)煞烫，CNT導(dǎo)電劑漿料研磨分散機(jī)，多壁碳納米管NMP漿料研磨分散機(jī)累颂，單壁碳納米管NMP漿料高速研磨分散機(jī) 
     碳納米管作為一維納米材料滞详，重量輕，六邊形結(jié)構(gòu)連接完美紊馏，具有許多異常的力學(xué)料饥、電學(xué)和化學(xué)性能，碳管漿料因其具有優(yōu)良的導(dǎo)電導(dǎo)熱性能朱监，被廣泛應(yīng)用于導(dǎo)電膜岸啡、觸摸屏等電子設(shè)備域。
     在導(dǎo)電導(dǎo)熱的碳管漿料生產(chǎn)過程中赫编，分散過程是碳管漿料質(zhì)量的重要限制步驟凰狞，碳管漿料生產(chǎn)分散設(shè)備包括渦旋式、籃式沛慢、棒梢式和盤式等赡若，其中盤式分散設(shè)備通過流體的相對運(yùn)動碰撞，使碳管分散于漿料中团甲，然而現(xiàn)有技術(shù)中的盤式分散設(shè)備逾冬，采用液壓升降裝置帶動分散盤旋轉(zhuǎn)達(dá)到分散均質(zhì)效果，存在單一分散盤的分散效果不佳，分散盤速度低影響分散剪切力身腻，料液易噴濺产还，機(jī)械加工效率低，從而降低碳管漿料的分散性和產(chǎn)能嘀趟。
    所以上海依肯機(jī)械設(shè)備有限公司(IKN)針對現(xiàn)有技術(shù)的缺陷脐区，特別研制一種導(dǎo)電導(dǎo)熱的碳管漿料生產(chǎn)用高剪切研磨分散機(jī)CMD2000系列導(dǎo)電導(dǎo)熱碳管漿料高剪切研磨分散機(jī)，通過研磨頭和分散頭的組合高速旋轉(zhuǎn)和漿料漩渦的相對運(yùn)動她按，提高碳管漿料的分散性和產(chǎn)能牛隅，使物料細(xì)化，均質(zhì)分散酌泰，形成狀態(tài)穩(wěn)定的漿料媒佣。 
    CMD2000系列改進(jìn)型膠體磨研磨式分散機(jī)是由膠體磨和分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品，先錐形研磨頭具有精細(xì)度遞升的多鋸齒凸起和凹槽陵刹。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無限制調(diào)整間隙默伍。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求衰琐。整機(jī)采用佳的幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子也糊，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求羡宙。

影響研磨分散結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)

 

1 研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）

2 研磨頭的剪切速率  （越大显设，效果越好）

3 研磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒辛辨，細(xì)齒捕捂，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）

4 物料在分散腔體的停留時(shí)間斗搞，乳化分散時(shí)間（可以看作同等的電機(jī)指攒，流量越小，效果越好）

5 循環(huán)次數(shù)（越多僻焚，效果越好允悦，到設(shè)備的期限，就不能再好）

CMD2000系列導(dǎo)電導(dǎo)熱碳管漿料高剪切研磨分散機(jī)設(shè)備選型表：

高速膠體磨	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
CMD   2000/4	700	14000	40	4	DN25/DN15
CMD   2000/5	5,000	10,500	40	11	DN40/DN32
CMD   2000/10	10,000	7,300	40	22	DN50/DN50
CMD   2000/20	30,000	4,900	40	45	DN80/DN65
CMD   2000/30	60,000	2,850	40	75	DN150/DN125
CMD   2000/50	100000	2,000	40	160	DN200/DN150
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性虑啤，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%隙弛。

1 表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
2 處理量取決于物料的粘度狞山，稠度和終產(chǎn)品的要求全闷。     
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更新時(shí)間：2024/12/16 9:49:54

標(biāo)簽：導(dǎo)電導(dǎo)熱碳管漿料高剪切研磨分散機(jī)   碳管漿料研磨分散機(jī)   研磨分散機(jī)