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  • 產品名稱:高飽和光學變色材料研磨粉碎設備研磨分散機
  • 產品價格:0
  • 產品產地:中國大陸
  • 訪問次數:161 發(fā)布時間:2023/5/18 14:06:36
  • 簡介內容:高飽和光學變色材料研磨粉碎設備研磨分散機蓝撇,含鈦光學變色材料粉碎型研磨分散機窖张,含鉻光學變色材料濕法粉碎機沾谜、全介質光學變色材料濕法研磨分散機
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詳細內容

高飽和光學變色材料研磨粉碎設備研磨分散機

高飽和光學變色材料研磨粉碎設備研磨分散機,含鈦光學變色材料粉碎型研磨分散機,含鉻光學變色材料濕法粉碎機、全介質光學變色材料濕法研磨分散機

     光學變色材料具有與觀察角度相關的顏變色化現象,觀察者在不同的角度能觀察到不同的顏色溜宽,特別是在和光學變色薄膜表面的法線方向呈0度角或60度角左右觀察時,光學變色薄膜將呈現出明顯不同的顏色质帅。光學變色材料由于該特性而廣泛應用于防偽适揉、印刷等域。然而煤惩,隨著生產生活當中各方面要求的不斷提高嫉嘀,當的光學變色材料在耐酸、耐堿魄揉、色彩等方面在諸多域已難以滿足使用需求剪侮。

    然而對光學變色材料進行熱處理,需要對光學變色材料進行粉碎處理洛退,以得到粉碎的光學變色材料

    CMSD2000系列改進型膠體磨研磨式分散機是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產品瓣俯,先錐形研磨頭具有精細度遞升的多鋸齒凸起和凹槽。定轉子間隙可以根據需要無限制調整間隙不狮。第二由轉定子組成降铸。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度物質以及顆粒粒徑的需求。整機采用佳的幾何機構的研磨定轉子摇零,好的表面處理和優(yōu)質材料,可以滿足不同行業(yè)的多種需求桶蝎。通過粉碎型研磨分散機定轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力驻仅、摩擦力、高頻振動等物理作用登渣,使物料被有效的乳化噪服、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果胜茧,出料粒徑可以微納米粘优。


影響研磨分散結果的因素有以下幾點

1 研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)

2 研磨頭的剪切速率  (越大,效果越好)

3 研磨頭的齒形結構(分為初齒呻顽,中齒雹顺,細齒,超細齒廊遍,約細齒效果越好)

4  物料在分散墻體的停留時間嬉愧,乳化分散時間(可以看作同等的電機,流量越小喉前,效果越好)

5 循環(huán)次數(越多没酣,效果越好王财,到設備的期限,就不能再好)

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率裕便。

– 剪切速率 (s-1) = v  速率 (m/s)/   g 定-轉子 間距 (m)

由上可知绒净,剪切速率取決于以下因素:

– 轉子的線速率

– 在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉子直徑)X 轉速 RPM  /   60

CMSD2000系列研磨分散機選型表

型號

流量

L/H

轉速

rpm

 

線速度

m/s

 

功率

kw

入/出口連接

DN

CMSD 2000/4

300

14000

 

41

 

4

DN25/DN15

CMSD 2000/5

1000

10500

 

41

 

11

DN40/DN32

CMSD 2000/10

4000

7200

 

41

 

22

DN80/DN65

CMSD 2000/20

10000

4900

 

41

 

45

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

2850

 

41

 

90

DN150/DN125

CMSD 2000/50

60000

1100

 

41

 

160

DN200/DN150

表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據偿衰。

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性疯溺,可以被調節(jié)到大允許量的10% 

高飽和光學變色材料研磨粉碎設備研磨分散機,含鈦光學變色材料粉碎型研磨分散機哎垦,含鉻光學變色材料濕法粉碎機囱嫩、全介質光學變色材料濕法研磨分散機

更新時間:2024/12/16 9:49:54

標簽:高飽和光學變色材料研磨粉碎設備研磨分散機   研磨粉碎設備   分散機   

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