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分散是至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發(fā)生化學反應的物質(zhì)的混合過程。工業(yè)分散的目標是在連續(xù)相中實現(xiàn)“令人滿意的”精細分布枉圃。

環(huán)氧樹脂是聚合物基復合材料,應用較廣泛的基體樹脂功茴。EP是一種熱固性樹脂。 由于環(huán)氧樹脂具有you異的粘接性能,耐磨蝕性,力學性能,化學穩(wěn)定性,電器絕緣性,以及收縮率低,易加工成型,較好的應力傳遞和成本低廉等優(yōu)點讯蒲。 廣泛應用于涂料,膠黏劑,輕工,建筑,機械,航天航空,電子電氣絕緣材料,xian進復合材料基體等各域痊土。但由于EP固化后交聯(lián)密度高呈三維網(wǎng)狀結(jié)構(gòu),存在內(nèi)應力大,質(zhì)脆,耐疲勞性,耐熱性,耐沖擊性差等不足肄扎。難以滿足工程技術(shù)的要求,使其應用受到一定的限制墨林。

因此對于環(huán)氧樹脂的改性工作一直是人們的研究熱點。

1,加入改性劑犯祠；加入增塑劑,增柔劑旭等。

提高韌性,但材料耐熱性,硬度,電性能降低

2,添加填充劑；改善一些性能,降低成本,石棉纖維 和玻璃纖維增韌,增加耐沖擊性

3,添加別種熱固性,熱塑性樹脂合金化增韌改性,橡膠類彈性體等衡载；增韌用的橡膠一般為反應性液態(tài)聚合物型搔耕。 

在環(huán)氧樹脂改性中,都需要加入一些添加劑,改性劑,就需要將這些添加劑混合分散到環(huán)氧樹脂中,所以分散的程度也會影響改性后環(huán)氧樹脂的性能。分散的不均勻會導致產(chǎn)品的不穩(wěn)定,以及部分改性功能缺失痰娱。IKN研磨分散機可以很好的應對環(huán)氧樹脂的改性要求,IKN研磨分散機先將添加劑的物料充分細化,然后通過分散工作腔進行分散,可以將改性劑,添加劑充分分散到環(huán)氧樹脂漿料當中,IKN研磨分散機在“二氧化硅改性環(huán)氧樹脂”,“碳納米管改性環(huán)氧樹脂”的實例中表明：IKN研磨分散機非常適合改性環(huán)氧樹脂的生產(chǎn)應用,效果xian著弃榨。

二氧化硅作為膠黏劑改性環(huán)氧樹脂,二氧化硅分散到高粘稠的環(huán)氧樹脂中,先需要對環(huán)氧樹脂進行加熱,加熱到70-80℃,是環(huán)氧樹脂具有較好的流動性,然后再將二氧化硅緩慢加入,一邊加入一邊將開攪拌進行預混,等二氧化硅全部加完后,經(jīng)過IKN研磨分散機轉(zhuǎn)速開到1000rpm,進行分散,處理兩遍,分散更佳。


采用傳統(tǒng)工藝去將E300二氧化硅分散到環(huán)氧樹脂中可存在的問題：
1.如圖釜體壁面會有殘余梨睁，導致分散不均勻鲸睛；
2.部分二氧化硅沒有均勻地接觸到樹脂，導致抱團團聚坡贺；
3.樹脂粘稠度較大官辈，且顏色較深，通過肉眼很難看到是否與二氧化硅分散均勻遍坟；
3.大型工業(yè)化拳亿，不可能去通過搖晃的方式將釜體壁面，或者部分抱團的位置分散愿伴。



研磨分散機肺魁，顧名思義，是研磨機和分散機的結(jié)合體隔节。它是經(jīng)過依肯眾多實驗并總結(jié)后quan新研發(fā)出的一類設(shè)備鹅经，是在傳統(tǒng)膠體磨的基礎(chǔ)上進行改進，添加了分散機的分散盤官帘，使其在膠體磨研磨轉(zhuǎn)子的高速（高轉(zhuǎn)速21000轉(zhuǎn)）研磨作用下瞬間進入分散盤中進行高剪切分散瞬雹，同時由于在整個過程中除了有高速研磨作用及高剪切分散作用下，物料還同時承受著高頻的液力剪切刽虹、離心擠壓酗捌、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等多種作用力。因此經(jīng)IKN上海依肯研磨分散機研磨分散后漿料是均一胖缤、穩(wěn)定尚镰、精細的高品質(zhì)產(chǎn)品！

靠由具有精細度遞升的三鋸齒突起和凹槽哪廓。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離狗唉。在增強的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向。

第二由轉(zhuǎn)定子組成涡真。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要分俯。

CMSD2000系列研磨分散機的特點：

①線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

②定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三鋸齒突起和凹槽。

③定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④在增強的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向哆料。

⑤高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求缸剪。

因此經(jīng)IKN上海依肯研磨分散機研磨分散后漿料是均一、穩(wěn)定东亦、精細的高品質(zhì)產(chǎn)品杏节！

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更新時間：2024/9/12 9:10:51

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