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光學(xué)變色材料具有與觀察角度相關(guān)的顏變色化現(xiàn)象肯骇,觀察者在不同的角度能觀察到不同的顏色,特別是在和光學(xué)變色薄膜表面的法線方向呈0度角或60度角左右觀察時祖很,光學(xué)變色薄膜將呈現(xiàn)出明顯不同的顏色笛丙。光學(xué)變色材料由于該特性而廣泛應(yīng)用于防偽、印刷等域假颇。然而胚鸯,隨著生產(chǎn)生活當(dāng)中各方面要求的不斷提高,當(dāng)?shù)墓鈱W(xué)變色材料在耐酸笨鸡、耐堿蠢琳、色彩等方面在諸多域已難以滿足使用需求。
然而對光學(xué)變色材料進(jìn)行熱處理镜豹,需要對光學(xué)變色材料進(jìn)行粉碎處理傲须,以得到粉碎的光學(xué)變色材料
CMSD2000系列改進(jìn)型膠體磨研磨式分散機是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品,先錐形研磨頭具有精細(xì)度遞升的多鋸齒凸起和凹槽趟脂。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無限制調(diào)整間隙泰讽。第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求昔期。整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子已卸,好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種需求硼一。通過粉碎型研磨分散機定轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力累澡、摩擦力、高頻振動等物理作用般贼,使物料被有效的乳化愧哟、分散和粉碎,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果哼蛆,出料粒徑可以微納米蕊梧。
影響研磨分散結(jié)果的因素有以下幾點
1 研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2 研磨頭的剪切速率 (越大,效果越好)
3 研磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒腮介,中齒肥矢,細(xì)齒,超細(xì)齒叠洗,約細(xì)齒效果越好)
4 物料在分散墻體的停留時間甘改,乳化分散時間(可以看作同等的電機旅东,流量越小,效果越好)
5 循環(huán)次數(shù)(越多十艾,效果越好抵代,到設(shè)備的期限,就不能再好)
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率疟羹。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)/ g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知主守,剪切速率取決于以下因素:
– 轉(zhuǎn)子的線速率
– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距禀倔。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
CMSD2000系列研磨分散機選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN | ||
CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | ||
CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | ||
CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | ||
CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)榄融。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
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更新時間:2024/12/16 9:49:54
標(biāo)簽:含鈦光學(xué)變色材料粉碎型研磨分散機 含鈦光學(xué)變色材料濕法粉碎機 含鈦光學(xué)變色材料微納米膠體磨