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栓劑藥品制備高速研磨型均質機,凝膠緩釋型栓劑混合型均質機踩窖,栓劑GMP高剪切混合均質機
栓劑系指藥材提取物或藥材細粉與適宜基質混合制成供腔道給藥的固體制劑坡氯,栓劑中的藥物與基質應混合均勻,栓劑外形要完整光滑毙石;其制備流程為:熔融基質—→加入藥物(混勻)—→注模—→冷卻—→刮削—→取出—→成品栓劑—→包裝廉沮。
栓劑配制過程中需要將栓劑基質加熱融化,再與藥物混合徐矩,而栓劑基質具有加熱融化、遇冷凝固的特性叁幢,而現在栓劑配料為手工配料滤灯,效率低且不能有效的將物料混合均勻,混合量小且不能保溫存放,故為適應大生產及GMP要求鳞骤,需要解決以下問題:配料能一次配制100kg以上窒百;能滿足工藝要求,配制罐帶加熱帶攪拌豫尽;能保證將液體與固體有效混合均勻篙梢。
上海依肯IKN提供了一種適用于栓劑藥品配制的膠體磨,該膠體磨具有加熱保溫循環(huán)功能美旧,解決了栓劑藥品配制過程中渤滞,栓劑基質遇冷凝固的問題;配液罐配有攪拌裝置榴嗅,能夠將物料攪拌混合均勻妄呕;膠體磨部分通過高速相對運動的定子與轉子之間,使物料收到強大的剪切力嗽测、摩擦力及高頻振動等作用绪励,有效被粉碎、乳化唠粥、均質疏魏、混合,從而獲得滿意的精細加工品晤愧。
上海依肯CMSD2000系列改進型膠體磨是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產品大莫,先錐形研磨頭具有精細度遞升的多鋸齒凸起和凹槽。定轉子間隙可以根據需要無限制調整間隙养涮。第二由轉定子組成葵硕。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度物質以及顆粒粒徑的需求。整機采用佳的幾何機構的研磨定轉子贯吓,好的表面處理和優(yōu)質材料懈凹,可以滿足不同行業(yè)的多種需求。通過膠體磨定轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力悄谐、摩擦力介评、高頻振動等物理作用,使物料被有效的乳化爬舰、分散和粉碎们陆,達到物料超細粉碎及乳化的效果,出料粒徑可以微納米情屹。
影響研磨粉碎均質混合結果的因素有以下幾點
1 研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2 研磨頭的剪切速率 (越大坪仇,效果越好)
3 研磨頭的齒形結構(分為初齒,中齒垃你,細齒椅文,超細齒喂很,約細齒效果越好)
4 物料在分散墻體的停留時間,乳化分散時間(可以看作同等的電機皆刺,流量越小少辣,效果越好)
5 循環(huán)次數(越多,效果越好羡蛾,到設備的期限漓帅,就不能再好)
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)/ g 定-轉子 間距 (m)
由上可知痴怨,剪切速率取決于以下因素:
– 轉子的線速率
– 在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距忙干。
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉子直徑)X 轉速 RPM / 60
CMSD2000系列膠體磨選型表
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN | ||
CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | ||
CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | ||
CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | ||
CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據闲延。
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性容客,可以被調節(jié)到大允許量的10%
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更新時間:2024/12/16 9:49:54