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納米二氧化硅分散在多個域都有著重要的應用,如:改性樹脂,改性紡織材料,改性涂料,改性橡膠等等思币。改性的效果取決于分散的效果,粒徑越小分散越均勻,分散效果就越好。IKN研磨分散機獨特的結構,全新的技術,業(yè)應對于納米物料的分散,先研磨后分散,避免團聚,分散效果好肛度。

對于納米的物料分散一直是人們關注的熱點,納米分散存在著難以解決的問題,納米物料分散到流體物質當中容易形成二團聚體,導致物料粒徑變大,難以分散傻唾。面對這種情況,IKN研發(fā)出新型設備-研磨分散機,應對納米物質的分散問題。并有著廣泛的實例,如納米白炭黑的分散,納米石墨烯的分散,都在使用IKN研磨分散機進行分散處理,效果顯著承耿。
                                              

    CMD2000系列研磨分散設備是IKN(上海)公司經過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料冠骄。我們將三高剪切均質乳化機進行改裝,我們將三變跟為一,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經過膠體磨細化物料,然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)加袋。 

     納米研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產品凛辣。第1組模塊由具有精細度遞升的三組鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離职烧。在增強的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向扁誓。

      第二組模塊由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要蚀之。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度蝗敢、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣足删。狹槽數寿谴、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例,依據以的經驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用失受。在大多數情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產品是很重要讶泰。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
                                                           

納米二氧化硅研磨分散機的特點:

①   線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨贱纠。

②   定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三鋸齒突起和凹槽峻厚。

③   定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④   在增強的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向。

⑤   高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求谆焊。

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更新時間：2024/12/16 9:49:54

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