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產(chǎn)品展示
  • 產(chǎn)品名稱:無機納米粉體濕法研磨機
  • 產(chǎn)品型號:CMSD200004
  • 產(chǎn)品價格:0
  • 產(chǎn)品產(chǎn)地:中國大陸
  • 訪問次數(shù):181 發(fā)布時間:2024/5/27 10:40:49
  • 簡介內(nèi)容:無機納米粉體濕法分散機堤撵,改進型納米粉體分散機触趴,濕法納米粉體剪切分散機脯燃,德國研磨分散機莺债,立式高速研磨分散機址芯,不團聚窄粒徑高速分散機,高轉(zhuǎn)速納米粉體分散機,直立式模塊化分散機可以很好的解決顆粒或粉體漿料易團聚翅敌、分散細化不均勻等問題。更多詳情請聯(lián)系上海依肯 楊工 182-0189-1183$r$n$r$n
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詳細內(nèi)容

無機納米粉體濕法研磨機

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在現(xiàn)代的電子產(chǎn)業(yè)中铣揉,電子漿料等新型材料饶深,具有環(huán)保、高效和節(jié)能等特點逛拱,已經(jīng) 逐步取代傳統(tǒng)電路器材(如電阻絲粥喜、電熱管等),應(yīng)用于電子產(chǎn)品中橘券。例如,等離子顯示器的 制造中卿吐,用于形成介質(zhì)旁舰、障壁、電的材料通常是以漿料或干膜的形式使用嗡官,漿料或干膜中 均含有均值粒徑2 4um的無機超細粉末箭窜,例如低玻粉等,另外還包含有機組分衍腥,例如有機 溶劑磺樱、高分子樹脂、助劑等婆咸。 目竹捉,制造超細粉末的方法有球(棒)磨、氣流粉碎尚骄、珠磨块差,研磨分散機等。其中倔丈,由于球(棒) 磨加工效率高憨闰,所以是為常用的粉碎手段。但是需五,在進行干法球磨時鹉动,隨著粉體粒徑的減小,粉體越發(fā)容易團聚結(jié)塊宏邮,在容器內(nèi)未充分分散泽示,使得無法進一步粉碎。為此蜀铲,常引入 門的球磨介質(zhì)(例如水边琉、乙醇等)進行濕法球磨,以便粉體能夠保持充分分散和有效粉碎记劝。 這種方法在很多情況下會對終產(chǎn)品產(chǎn)生不利影響变姨,因為引入的額外球磨介質(zhì)會與粉體表 面發(fā)生鍵合作用而繼后的介質(zhì)去除與干燥工序很難完全消除該鍵合作用對粉體表面的影 響,從而終會不利地影響超細粉體與漿料中有機成分之間的相容性厌丑,造成例如粘度變化定欧、 粉體在載體中分散不良等渔呵。



球磨機/砂磨機:鋯珠易損生逸,引入雜質(zhì)堰塌,更換維修成本高;

國內(nèi)膠體磨/研磨機/分散機:轉(zhuǎn)速普遍2930rpm炸卑,不超過3000rpm爷辱,作用力弱录豺,粉碎研磨細度不夠,漿料穩(wěn)定性差饭弓;

德國IKN研磨分散機(改進型膠體磨/改進型分散機):轉(zhuǎn)速范圍9000rpm-14000rpm-21000rpm双饥,剪切力,研磨力弟断,分散力更強咏花,粒徑更小,分布范圍更窄阀趴,漿料穩(wěn)定性更好昏翰。產(chǎn)生均勻的尺寸減小率并產(chǎn)生窄的,一致的和可重復的粒度分布刘急。


將無機粉末與使用的有機溶劑或助劑的至少一部分混合棚菊,在研磨分散機中高速研磨。 克服了以往干法球磨或棒磨中粉體易團聚結(jié)塊的缺點排霉,避免了濕法 球磨或棒磨中水窍株、乙醇等常用介質(zhì)對粉體表面性能的影響,并減少了球磨或棒磨后材料干 燥工序以及調(diào)配漿料后的輥軋分散工序攻柠。

 

無機納米粉體濕法分散機球订,德國研磨分散機可以很好的解決顆粒或粉體漿料易團聚瑰钮、分散細化不均勻等問題冒滩,其已廣泛應(yīng)用于石墨烯、碳納米管浪谴、活性炭开睡、納米粉體、高分子材料苟耻、石墨復合材料等多種新材料的制備應(yīng)用上篇恒。CMSD2000系列的膠體磨(錐體磨)分散頭的組合,可以先將物料(配入溶劑和分散劑)研磨細化,然后再經(jīng)過分散頭,進行分散。這樣既可以細化又可以避免團聚的現(xiàn)象,為新材料行業(yè)提供了強有力的設(shè)備力量凶杖。

.CMSD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品胁艰。

 

Ikn研磨分散機設(shè)備結(jié)構(gòu):
第yi由具有精細度遞升的三層鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下腾么,凹槽在每都可以改變方向奈梳。


第二由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要解虱。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面攘须,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度殴泰、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列于宙,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)悍汛、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能限煞。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用员凝。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的奋献,因而它對制造出產(chǎn)品是很重要健霹。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

 

設(shè)備等:化工瓶蚂、衛(wèi)生I糖埋、衛(wèi)生II、無菌

電機形式:普通馬達窃这、變頻調(diào)速馬達瞳别、防爆馬達、變頻防爆馬達杭攻、氣動馬達

電源選擇: 380V/50HZ祟敛、220V/60HZ、440V/50HZ

電機選配件: PTC 熱保護兆解、降噪型

均質(zhì)機材質(zhì):SUS304 馆铁、SUS316L 、SUS316Ti

均質(zhì)機選配:儲液罐锅睛、排污閥埠巨、變頻器、電控箱现拒、移動小車

均質(zhì)機表面處理:拋光辣垒、耐磨處理

進出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口印蔬、夾箍

均質(zhì)機選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器.

 


CMSD 2000系列研磨分散機設(shè)備選型表

型號

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm

 

線速度

m/s

 

功率

kw

入/出口連接

DN

CMSD 2000/4

300

14000

 

41

 

4

DN25/DN15

CMSD 2000/5

1000

10500

 

41

 

11

DN40/DN32

CMSD 2000/10

4000

7200

 

41

 

22

DN80/DN65

CMSD 2000/20

10000

4900

 

41

 

45

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

2850

 

41

 

90

DN150/DN125

CMSD 2000/50

60000

1100

 

41

 

160

DN200/DN150

 

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)勋桶。

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%

上海依肯機械設(shè)備有限公司  楊工

公司網(wǎng)站:http://iknchina.com

辦公地址:上海市松江區(qū)九新公路865號B幢1樓依肯機械

 

18201891183

 

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更新時間:2024/12/16 9:50:22

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