水性環(huán)氧涂料耐酸性較差丈钙，且適用周期太短僅為80分鐘、固化時間為4h交汤。IKN水性環(huán)氧樹脂涂料及其制備方法：1)將聚乙二醇與順丁烯二酸酐加熱反應，隨后加入環(huán)氧樹脂繼續(xù)升溫反應，得到環(huán)氧樹脂乳化劑芙扎；2)將環(huán)氧樹脂乳化劑與環(huán)氧樹脂進過IKN高剪切納米研磨機混合星岗，通過相反轉技術，得到水性環(huán)氧乳液戒洼。

   IKN高剪切納米研磨機制備的水性環(huán)氧乳液穩(wěn)定性好俏橘；水性環(huán)氧涂料在室溫固化，適用周期長圈浇，流動性好寥掐，所形成的涂層具有良好的力學性能、硬度及耐酸堿性磷蜀。

環(huán)氧樹脂涂料高剪切納米研磨機召耘，高粘度水性涂料研磨機，水性涂料納米膠體磨

   因為環(huán)氧樹脂涂料高剪切納米研磨機需使用高剪切褐隆、高轉速污它、高能量密度等，同時還需要避免污染產生庶弃，一般歐洲品牌的設備比較適合衫贬。當然，如果已經有XX或日制分散和研磨設備歇攻，則可以采用現有的設備做粗磨工藝固惯，然后以歐洲生產的設備做后一個階段超細納米研磨分散，達到“物盡其用”de應用缴守。

   環(huán)氧樹脂涂料高剪切納米研磨機的細化作用一般來說要弱于均質機葬毫，但它對物料的適應能力較強（如高粘度、大顆粒）斧散，所以在很多場合下供常，它用于均質機的道或者用于高粘度的場合。在固態(tài)物質較多時也常常使用膠體磨進行細化鸡捐。 

   環(huán)氧樹脂涂料高剪切納米研磨機CM2000系列是門為膠體溶液生產所設計栈暇，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。CM2000的線速度很高箍镜，剪切間隙非常小源祈，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈色迂，結果就是通常所說的濕磨香缺。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三鋸齒突起和凹槽歇僧。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離图张。在增強的流體湍流下锋拖，凹槽在每都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料祸轮，可以滿足不同行業(yè)的多種要求兽埃。

影響研磨粉碎結果的因素有以下幾點

1 膠體磨磨頭頭的剪切速率  （越大，效果越好）

2 膠體磨頭的齒形結構（分為初齒适袜，中齒柄错，細齒，超細齒苦酱，約細齒效果越好）

3物料在研磨腔體的停留時間售貌，研磨粉碎時間（可以看作同等的電機，流量越小疫萤，效果越好）

4 循環(huán)次數（越多颂跨，效果越好，到設備的期限给僵，就不能再好）

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率毫捣。

剪切速率 (s-1) =       v  速率 (m/s)   
               g 定-轉子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距帝际。
IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉子直徑）X 轉速 RPM  /   60

CMS2000的線速度很高蔓同，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候蹲诀，形成的摩擦力就比較劇烈斑粱，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形脯爪，具有精細度遞升的三鋸齒突起和凹槽则北。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下痕慢，凹槽在每都可以改變方向尚揣。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求掖举。

三錯齒結構的研磨轉子快骗，配合精密的定子腔。此款高速膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達到3倍以上,大的轉速可以達到14000RPM塔次。所以可以達到更好的分散濕磨效果方篮。

1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據藕溅。

2 處理量取決于物料的粘度，稠度和終產品的要求继榆。

3 如高溫巾表，高壓汁掠，易燃易爆，腐蝕性等工況攒发，必須提供準確的參數调塌，以便選型和定制。

4 本表的數據因技術改動惠猿，定制而不符，正確的參數以提供的實物為準负间。

5  本系列機型具有短程送料能力偶妖，無自吸功能，須選用高位進料政溃；物料粘度或固含量高導致不能正常進料和輸送時趾访，須選用壓力或輸送泵進料或送料，輸送泵的壓力和流量與被選機型相匹配董虱。

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上海依肯機械設備有限公司  楊工

公司網站：http://iknchina.com

辦公地址：上海市松江區(qū)九新公路865號B幢1樓依肯機械

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更新時間：2024/12/16 9:50:22

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