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產品展示
  • 產品名稱:高純氧化鋁研磨高剪切研磨機
  • 產品型號:CMD200010
  • 產品價格:0
  • 產品產地:中國大陸
  • 訪問次數(shù):159 發(fā)布時間:2024/6/30 21:03:40
  • 簡介內容:高純氧化鋁研磨高剪切研磨機摊欠,高純氧化鋁研磨機角撞,高剪切研磨機衷恭,納米氧化物研磨機奸远,納米氧化鋁分散研磨機馋嗜,直立式IKN研磨機
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詳細內容

高純氧化鋁研磨高剪切研磨機

 高純氧化鋁研磨高剪切研磨機,氧化鋁均質分散研磨機,氧化鋁水性漿料研磨機,三氧化二鋁均質分散研磨機满力,氧化鋁陶瓷隔膜漿料研磨機

氧化鋁研磨分散機的設備技術越來越高作喘,可以生產1微米以下的氧化鋁。納米氧化鋁透明液體XZ-LY101體顏色無色透明霞势。該納米氧化鋁透明分散液中使用的是5-10納米的氧化鋁烹植,該氧化鋁是納米氧化鋁經過層層深加工篩選出來的氧化鋁斑鸦,添加到各種丙烯酸樹脂,聚氨酯樹脂草雕,環(huán)氧樹脂鄙才,三聚氰胺樹脂,硅丙乳液等樹脂的水性液體中促绵,添加量為5%到10%攒庵,可以提高樹脂的硬度,硬度可達6-8H败晴,*透明浓冒,該納米氧化鋁液體可以是水性的或者油性的任何溶劑,同時可以做各種玻璃涂層材料尖坤,寶石稳懒,精密儀器材料等。

氧化鋁陶瓷隔膜漿料分散機可以為氧化鋁粉的生產工業(yè)中產生大量的尾礦和赤泥對環(huán)境的影響非常大慢味,鋁土礦作為*資源场梆, 其保障程度直接制約著一個地區(qū)氧化鋁工業(yè)的總量與生存周期。因此纯路,各政府和有關部門或油,必須準確把握氧化鋁工業(yè)的發(fā)展形勢,資源與環(huán)境制約狀況和基本規(guī)律驰唬,按照總量控制的要求鳄袍,嚴格控制新建氧化鋁項目蚊伞,堅決制止盲目發(fā)展和低水平重復建設燎斩,努力實現(xiàn)氧化鋁工業(yè)發(fā)展與資源充分利用缨恒,優(yōu)化生態(tài)環(huán)境相統(tǒng)一。


高純氧化鋁研磨分散機,氧化鋁均質分散乳化機,氧化鋁水性漿料分散機
設備參數(shù)

•      連續(xù)分散機

•      優(yōu)化分散頭 2G, 4M, 6F搓逾,8SF

•      可選分散頭

•      內表面 Ra 0,8-1,2

•      選項:

–     雙層外罩

–      不同的法蘭盤卷谈,例如DIN 11851, DIN 2633 , 三向夾扣, ANSI #150 法蘭盤

–     不同的選擇材料

–     內外表面拋光 Ra 0,8 (pharma)

–     與PLC相同的泵葉片

•      輔助部件:慮網, 套管

•      電子控制

 

99.995%高純氧化鋁系列主要用于LED人造藍寶石晶體,高陶瓷霞篡,PDP熒光粉及一些高性能材料世蔗。作為藍寶石晶體原料,根據(jù)不同的要求可提供粉體寇损,顆粒凸郑,塊狀或者柱狀等類型裳食。德國IKN技術可以為氧化鋁工業(yè)帶來重要性的生產發(fā)展
IKN氧化鋁高剪切均質乳化機應用于各種物料的超細粉碎矛市,如農藥、醫(yī)藥诲祸、炭黑浊吏、白炭黑而昨、AC發(fā)泡劑、復印墨粉找田、熒光粉歌憨、鋯英砂、氧化鋁墩衙、氧化鋯务嫡、碳酸鋇、涂料漆改、石墨心铃、塑料盒橡膠用各種填充劑、非金屬礦挫剑,以及各種高價值營養(yǎng)品去扣、珍珠粉、花粉等樊破。隨著高科技產業(yè)的發(fā)展愉棱,對各種物料的超細粉碎要求的提高,還會應用到更加廣闊的域哲戚。

高純氧化鋁研磨高剪切研磨機,氧化鋁均質分散研磨機,氧化鋁水性漿料研磨機,三氧化二鋁均質分散研磨機奔滑,氧化鋁陶瓷隔膜漿料研磨機

 

IKN氧化鋁均質分散研磨機的技術參數(shù):


高速研磨機

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW

 

CMD 2000/4

700

14000

40

4

DN25/DN15

CMD 2000/5

5,000

10,500

40

11

DN40/DN32

CMD 2000/10

10,000

7,300

40

22

DN50/DN50

CMD 2000/20

30,000

4,900

40

45

DN80/DN65

CMD 2000/30

60,000

2,850

40

75

DN150/DN125

CMD 2000/50

100000

2,000

40

160

DN200/DN150

*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節(jié)到zui大允許量的10%顺少。

 














1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數(shù)據(jù)档押。

2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產品的要求祈纯。

 

從設備角度分析令宿,影響研磨效果的因素:

1 磨頭的形式(臥式和立式)

2 磨頭的剪切速率

3 磨頭的齒形結構(見磨頭結構)

4 物料在磨頭墻體的停留時間,乳化分散時間

5 循環(huán)次數(shù)

研磨速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率腕窥。

研磨速率 (s-1) = v  速率 (m/s)  
g 定-轉子 間距 (m)

由上可知粒没,研磨速率取決于以下因素:

  • 磨頭的線速率

  • 在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。 (相對而言)

速率V=  3.14 X  D(轉子直徑)X 轉速 RPM  /   60

 

IKN設備的作用力為F=23/0.7X1000=32857 S-1

F=40/0.7/X1000=57142 S-1

 

 

 

 高純氧化鋁研磨高剪切研磨機,氧化鋁均質分散研磨機,氧化鋁水性漿料研磨機,三氧化二鋁均質分散研磨機簇爆,氧化鋁陶瓷隔膜漿料研磨機

更新時間:2024/12/16 9:50:22

標簽:高純氧化鋁研磨高剪切研磨機   氧化鋁均質分散研磨機   氧化鋁水性漿料研磨機   三氧化二鋁均質分散研磨機   氧化鋁陶瓷隔膜漿料研磨機   

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