BASF高速研磨分散機設(shè)備結(jié)構(gòu)：
由具有精細(xì)度遞升的三層鋸齒突起和凹槽席吴。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離赌结。在增強的流體湍流下，凹槽在每都可以改變方向孝冒。

第二由轉(zhuǎn)定子組成柬姚。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面庄涡，特別要引起注意的是：在粗精度量承、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列穴店，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣撕捍。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能泣洞。根據(jù)以往的慣例忧风，依據(jù)以的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下斜棚，機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的阀蒂，因而它對制造出產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用弟蚀。

CMSD2000分散機為立式分體結(jié)構(gòu)蚤霞，精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下义钉。

磨頭齒列深度為從開始的 2.7mm 到末端的0.7mm昧绣，除了更精密之外，上深下淺的齒列結(jié)構(gòu)捶闸，相較溝槽是直線夜畴，同的溝槽深度一樣的磨頭，可以保證物料從上往下一直在進行研磨删壮。雖和其它產(chǎn)品一樣磨頭采用三磨齒贪绘，但他們只能在一磨頭到另外一磨頭形成研磨效果。

　　同時采用德國博格曼雙端面機械密封央碟，并通冷媒對密封部分進行冷卻税灌，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

　　CMSD2000分散機有一定輸送能力菱涤，對高固含量有一定粘稠度物料苞也，CMD2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進行物料的推動輸送粘秆。


研磨分散機如迟，顧名思義，是研磨機和分散機的結(jié)合體攻走。它是經(jīng)過依肯眾多實驗并總結(jié)后全新研發(fā)出的一類設(shè)備殷勘，是在傳統(tǒng)膠體磨的基礎(chǔ)上進行改進，添加了分散機的分散盤陋气，使其在膠體磨研磨轉(zhuǎn)子的高速（高轉(zhuǎn)速21000轉(zhuǎn)）研磨作用下瞬間進入分散盤中進行高剪切分散劳吠，同時由于在整個過程中除了有高速研磨作用及高剪切分散作用下引润，物料還同時承受著高頻的液力剪切巩趁、離心擠壓、液層摩擦淳附、撞擊撕裂和湍流等多種作用力议慰，因此經(jīng)IKN上海依肯研磨分散機研磨分散后漿料是均一、穩(wěn)定奴曙、精細(xì)的高品質(zhì)產(chǎn)品别凹！

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更新時間：2024/9/18 16:34:16

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